芯片制造對濺射靶材金屬純度的要求較高,通常要達到99.9995%以上,而平板顯示器、太陽能電池分別要求達到99.999%、99.995%以上即可。除了純度之外,芯片對濺射靶材內部微觀結構等也設定了極其苛刻的標準,需要掌握生產過程中的關鍵技術,并經過長期實踐才能制成符合工藝要求的產品。半導體制造流程當中,濺射靶材無疑是重中之重的原材料,其質量和純度對半導體產業鏈的后續生產質量起著關鍵性作用。非常高純
2024-08-09 面議/套光伏薄膜電池用靶材主純度要求一般在99.99%(4N)以上,光伏領域對靶材的使用主要是薄膜電池和HIT光伏電池。太陽能電池主要包括晶硅電池和薄膜電池,環節以及HIT(異質結)電池的導體層,異質結電池可實現25%的轉換效率。傳統的太陽能電池用靶材會用到鋁、銅、鉬、鉻等,主要應用于薄膜太陽能電池。太陽能靶材技術要求高、應用范圍大。信息存儲靶材的原材料有鉻基、鈷基合金等,用于光驅、光盤、機械硬盤、磁帶等
2024-08-09 面議/套國內靶材公司的發展趨勢如何?目前全球高端靶材市場主要分布于韓國、寶島、中國、日本,主要供應商在日本,韓國。中國市場目前年消耗ITO靶材約300噸,但處于快速增長之中,多條高世代液晶面板線(京東方,華星光電,惠科HKC,天馬,熊貓電子,三星蘇州,LG廣州等)正在建設或規劃建設中。然而中國ITO靶材被國外供應商壟斷,國產靶材市場份額僅約5%。ITO靶材生產的主要原料為稀有金屬銦,中國是世界上較好的銦金
2024-08-09 面議/公斤? ? ? 芯片對濺射靶材的要求非常之高要求靶材純度很高一般在5N(99.999%)以上。5N就是表示有5個9,4N表示有4個9即99.99%,哪個純度更高一看就明白了。在提純領域,小數點后面每多一個9,難度是呈指數級別的增加,技術門檻也就更高。應用與市場格局到這里,知道了高純濺射靶材,知道了金屬靶材的鋁、鈦、銅、鉭那怎么判斷哪個金屬應用幾寸晶圓上哪個用在先進制造工藝上?半導體晶圓制造中200mm
2024-08-09 面議/套旋轉硅鋁靶 Rotatable SiAl Alloy target,應用:用于制作SiO2膜、Si3N4膜,主要用于光學玻璃AR膜系,Low-E玻璃膜系,半導體電子, TFT, 平面顯示. 觸摸屏玻璃 產品化學成分和物理性能:化學式:SiAl 成分: SiAl(90:10wt%±2%、25:75wt%)成型工藝:噴涂密度: >2.2g/cm3(>94%)純度: > 99.9%較大雜質含量 (單位:
2024-08-09 面議/套真空鍍膜機的發展相當迅速,隨著生產率的提高,生產費用大大降低,已經為真空鍍膜產品的普遍使用鋪平了道路。以卷繞式真空鍍膜機為例,剛開發時可鍍的薄膜基材寬度是150mm,目前已達2253mm。基材卷筒的卷徑是1000mm,卷繞速度750m/min。自動裝卸的半連續卷繞式真空鍍膜機鍍膜時間占整個周期的75%,輔助操作時間只占25%。隨著計測技術、控制技術的進步和電子計算機的應用,卷繞式真空鍍膜機正向著高
2024-08-09 面議/條目前,大部分國家的靶材制造行業,特別是高純度的靶材市場,呈現寡頭壟斷格局,主要由幾家美日大企業把持,如日本的三井礦業、日礦金屬、日本東曹、住友化學、日本愛發科,以及美國霍尼韋爾、普萊克斯等。日礦金屬是大部分國家大的靶材供應商,靶材銷售額約占大部分國家市場的30%,霍尼韋爾在并購Johnson Mattey、整合高純鋁、鈦等原材料生產廠后,占到大部分國家市約20%的份額,此外,東曹和普萊克斯分別占2
2024-08-08 面議/套? ? ? 采用冷噴涂沉積Fe(Al)固溶體合金涂層并結合后熱處理原位反應制備了納米結構FeAl金屬間化合物涂層。結果表明,球磨Fe(Al)合金粉末具有精細的層狀結構,噴涂態Fe(Al)合金涂層具有不同于傳統熱噴涂涂層的獨特層狀結構,保留了與原始粉末類似的納米結構;熱等靜壓法是將粉末或預先壓成的素坯裝入包套后,再將套內抽真空焊接密封,放入高壓容器內,使粉末在高溫及等方壓力下燒結。成型和燒結同時進行
2024-08-08 面議/套? ? ? 真空鍍膜機連續使用半年以上,那么設備的抽速將會明顯變慢,那么該怎么去維護呢?首先,必須要沖入大氣,拆去聯結水管,將一級噴嘴擰出來,再用汽油將泵腔及泵膽清洗一下,再用清潔劑洗一遍,待水份揮發干后,裝好泵膽,重新加入新擴散的泵油,并裝回機體,便可重新開機。真空電鍍在重新開機時,要特別注意撿漏工作,先觀察擴散泵部分真空度是否達到6X10Pa,否則我們要進行檢漏。檢查聯接處是否裝密封膠圈,或壓
2024-08-08 面議/套