玻璃鍍膜靶材,PET鍍膜靶材,

? ? ? 鈦及鈦合金具有不錯的物理、化學和機械性能，在各領域有廣泛應用。通過制備鈦涂層可顯著提高零部件表面耐腐蝕性。采用超音速等離子噴涂技術（SAPS）制備了鈦涂層，結果表明：制備的鈦涂層均勻致密，孔隙率平均為 1.7%，沉積效率平均為 52%，涂層中主要為 Ti相，O含量小于3%、N 含量小于 5%,制備的鈦涂層性能較好，與低壓等離子噴涂、冷噴涂相比較，涂層制備成本更低，操作更便捷，在工業應用

2024-08-20 面議/套

電子電路用硅靶材,4N硅靶材,

? ? ? 磁控濺射是制備薄膜材料的主要技術，也是PVD的一種。它通過在PVD設備中用離子對目標物進行轟擊，使得靶材中的金屬原子以一定能量逸出，從而在晶圓表面沉積，濺鍍形成金屬薄膜，其中被轟擊的固體是用濺射法沉積薄膜的原材料。稱為濺射靶材。氮化物是在電子和光電子應用方面有較大潛力的新型半導體材料,它在室溫下具有高電子遷移率和良好導電性的優勢。是目前大部分國家半導體研究的****和熱點，是研制微電子

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旋轉銀靶材,濺射銀靶材,銀靶

旋轉銀靶，主要用于Low-E玻璃膜系，薄膜太陽能電池電極膜系,TFT,半導體。近年，冷噴涂作為一種新型噴涂工藝被用在金屬表面制備高質量的金屬涂層。與傳統的熱噴涂工藝相比，冷噴涂工藝的典型特點是利用較低的工作氣體溫度（室溫~600 ℃）形成涂層，因此，可利用冷噴涂工藝的優勢在不改變噴涂原材料組織結構的前提下制備涂層。研究人員用AZ31鎂合金作為基體，噴涂粉末分別用粒徑為25mm和40mm鋁粉。研究發

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不銹鋼靶材廠家,供應不銹鋼

? ? ? 靶材，特別是高純度濺射靶材應用于電子元器件制造的物理-氣相沉積工藝（PVD）、太陽能電池等表面電子薄膜的關鍵材料。所謂濺射，是制備薄膜材料的主要技術，也是PVD的一種。它通過在PVD設備中用離子對目標物進行轟擊，使得靶材中的金屬原子以一定能量逸出，從而在晶圓表面沉積，濺鍍形成金屬薄膜，其中被轟擊的固體是用濺射法沉積薄膜的原材料。稱為濺射靶材。 ? ? ? 薄膜太陽能電池比傳統的晶體硅太

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硅靶材密度,硅靶材摻磷,硅靶

硅的原子結構決定了硅原子具有一定的導電性，但由于硅晶體中沒有明顯的自由電子，因此導電率不及金屬，且隨溫度升高而增加，因而具有半導體性質。微電子領域對靶材濺射薄膜的品質和電阻要求是相當苛刻的。硅片制造商對靶材的要求是大尺寸、高純度、低偏析和細晶粒，這就要求所制造的靶材具有更好的微觀結構。電阻率是硅靶材產品的重要參數之一，除特殊用途外，絕大多數硅靶材電阻率要求越低越好，開始應用時電阻率要求在0.1-0

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空心管靶,空心靶材,旋轉銀靶

? ? ? 平板顯示靶材技術要求也很高，它要求材料高純度、面積大、均勻性程度高。鋁、銅、鉬、鉻等，主要應用于薄膜太陽能電池，太陽能靶材技術要求高、應用范圍大。信息存儲靶材的原材料有鉻基、鈷基合金等，用于光驅、光盤、機械硬盤、磁帶等。信息存儲靶材具備高存儲密度、高傳輸速度等特性。濺射靶材種類繁多，就ITO導電玻璃中使用硅靶.鋁靶.鈮靶等三種以上。根據應用領域的不同，靶材的材料、形狀也會有所差異。根據

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銅背板,銅背板定制,銅背板源

? ? ? 預計在2021年異質結的產能會提升至10.5GW。隨著異質結技術的逐漸成熟，也可和其他光伏電池技術相結合，例如異質結 I電池、異質結鈣鈦礦疊層電池。作為行業內率先布局異質結的企業之一，東方日升在HJT技術研發、量產等方面均具備****優勢。其推出的行業內首半片HJT組件產品，效率高達21.9%，溫度系數為-0.24%/℃。用準確儀器設備在半導體芯片各個功能層上鍍覆一層薄薄的透明金屬導電

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陶瓷靶,AZO靶,AZO靶材廠家

? ? ? AZO靶材是其中一種制造高科技節能玻璃鍍膜材料。銀銅合金靶材供應。陶瓷靶材。UVTM擁有真空等離子噴涂、真空熔煉爐、數控線切割、熱等靜壓等生產設備，熱噴涂、難熔金屬及液晶材料生產線。公司在大力拓展市場的同時，不斷完善內部體制。尤特新材在2009年率先在同行業中通過了ISO2008質量體系認證。為滿足高等客戶嚴格要求，公司與多所國內高校、研究院、業內相關人士進行交流和合作，并建立了400

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旋轉AZO靶材,AZO旋轉靶材,AZ

? ? 20世紀90年代以來靶材已蓬勃發展成為一個專業化產業，中國及亞太地區靶材的需求占有世界70%以上的市場份額。大量不同的沉積技術用來沉積生長各種薄膜 ，而靶材是制作薄膜的關鍵，品質的好壞對薄膜的意義重大。目前高等品質靶材主要由:日本、德國和美國生產，我國靶材產業起步較晚，在產品質量與精細標準上與國外有不少的差距，國內也有許多大學及研究機構對靶材積極投入了大量鉆研與開發，經過這幾年的發展也涌現

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