平面鉻靶,鉻靶,高純鉻靶,鉻

? ? 國(guó)產(chǎn)靶材已經(jīng)成為半導(dǎo)體上游材料先掌握國(guó)際先進(jìn)技術(shù)的領(lǐng)域。國(guó)內(nèi)市場(chǎng)中，高純?yōu)R射靶材產(chǎn)業(yè)雖然起步較晚，具有規(guī)模化生產(chǎn)能力和較強(qiáng)研發(fā)能力的廠商數(shù)量仍然偏少，但是不過(guò)近年來(lái)隨著國(guó)家政策和資金的支持，已有個(gè)別****企業(yè)在某些領(lǐng)域打破專(zhuān)業(yè)技術(shù)門(mén)檻，并依托有利的產(chǎn)業(yè)政策導(dǎo)向和產(chǎn)品價(jià)格優(yōu)勢(shì)逐漸在國(guó)內(nèi)靶材市場(chǎng)上占據(jù)一定份額，與國(guó)外企業(yè)的差距正在縮小，主要有江豐電子、阿石創(chuàng)、有研新材、隆華節(jié)能、尤特新材等。

2024-08-06 面議/套

鎳鉻合金靶,旋轉(zhuǎn)鎳鉻靶,平面

? ? ? 在19世紀(jì)末，ITO薄膜的研究工作開(kāi)始真實(shí)地發(fā)展了起來(lái)，當(dāng)時(shí)是在光電導(dǎo)的材料上獲得很薄的金屬薄膜。而關(guān)于透明導(dǎo)電材料的研究進(jìn)入一個(gè)新的時(shí)期，則是在第二次世界大戰(zhàn)期間，主要應(yīng)用于飛機(jī)的除冰窗戶(hù)玻璃。而在1950年，第二種透明半導(dǎo)體氧化物In2O3初次被制成，特別是在In2O3里摻入錫以后，使這種材料在透明導(dǎo)電薄膜方面得到了普遍的應(yīng)用，并具有廣闊的應(yīng)用前景。目前制備ITO薄膜的方法有很多種

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銅合金靶材 銅鋅合金靶材 銅

?Low-E玻璃具有可以阻止空氣由熱向冷傳遞的特性,其指標(biāo)有：輻射率、可見(jiàn)光透射比、遮陽(yáng)系數(shù)、傳熱系數(shù)、耐磨性、耐酸堿性目前有兩種主要生產(chǎn)方法：在線高溫?zé)峤獬练e法和離線真空磁控濺射法，其產(chǎn)品分別叫在線Low-E玻璃和離線Low-E玻璃。鍍膜玻璃離不開(kāi)金屬靶材，濺射靶材的使用量及成本占行業(yè)中相當(dāng)大的比重。靶材是濺射工藝中必不可少的重要原材料。 濺射是制備薄膜材料的主要技術(shù)之一，它利用離子源產(chǎn)生的離子

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高純合金靶材 合金靶材生產(chǎn)

? ? ? 磁控濺射靶材主要應(yīng)用于電子及信息產(chǎn)業(yè),如集成電路、信息存儲(chǔ)、液晶顯示屏、激光存儲(chǔ)器、電子控制器件等;亦可應(yīng)用于玻璃鍍膜領(lǐng)域;還可以應(yīng)用于耐磨材料、高溫耐蝕、高等裝飾用品等行業(yè)。透磁率可以作為評(píng)估磁性靶材透磁性能的有效指標(biāo)，其方法還沒(méi)有相應(yīng)的行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)，很大程度上制約了國(guó)內(nèi)磁性濺射靶材的研發(fā)、制作及工業(yè)化生產(chǎn)。磁控靶的實(shí)際的承載功率除了與濺射工藝、薄膜的質(zhì)量要求等因數(shù)有關(guān)外，主要與靶的冷卻

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廣州靶材生產(chǎn)廠家 廣州靶材

? ? 靶材在的過(guò)程當(dāng)中會(huì)產(chǎn)生大量的熱，但陶瓷靶材的散熱性又比較差如果綁定出現(xiàn)較大面積結(jié)合不好很容易出現(xiàn)過(guò)程中局部熱量的聚集低熔點(diǎn)綁定材料銦熔化從而導(dǎo)致靶材開(kāi)裂甚至脫落的情況發(fā)現(xiàn)。靶材的綁定及襯管質(zhì)量對(duì)于靶材鍍膜來(lái)說(shuō)十分重要，這不僅要求團(tuán)隊(duì)的意識(shí)性也要求業(yè)性。 ? ? 業(yè)內(nèi)相關(guān)人士指出，結(jié)合薄片化技術(shù)可進(jìn)一步降低異質(zhì)結(jié)電池的硅用量，節(jié)省成本。晉能科技非常異質(zhì)結(jié)電池量產(chǎn)平均效率已達(dá)到23.85%，預(yù)

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氧化鋁靶材,氧化鋁管靶,旋轉(zhuǎn)

供應(yīng)氧化鋁陶瓷靶材 旋轉(zhuǎn)氧化鋁靶材 平面氧化鋁靶材 陶瓷靶材廠家（UVTM）尤特新材料是一家有經(jīng)驗(yàn)生產(chǎn)陶瓷靶材的廠家，尤特具有多套靶材解決方案，擁有粉末冶金，燒結(jié)，冶煉澆注，冷熱噴涂等多種生產(chǎn)工藝和先進(jìn)的檢驗(yàn)設(shè)備。 ? ?鈦及鈦合金具有優(yōu)異的物理、化學(xué)和機(jī)械性能，在各領(lǐng)域有廣泛應(yīng)用。通過(guò)制備鈦涂層可顯著提高零部件表面耐腐蝕性。采用超音速等離子噴涂技術(shù)（SAPS）制備了鈦涂層，結(jié)果表明：制備的鈦涂層

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銀銅合金靶,銀銅合金靶價(jià)格,

? ? ? 近年來(lái)，我國(guó)相關(guān)部門(mén)制定了一系列產(chǎn)業(yè)政策，如863計(jì)劃、02專(zhuān)項(xiàng)設(shè)立資金等來(lái)加速濺射靶材供應(yīng)的本土化進(jìn)程，推動(dòng)國(guó)產(chǎn)靶材在多個(gè)應(yīng)用領(lǐng)域?qū)崿F(xiàn)從無(wú)到有的跨越。這些都從國(guó)家戰(zhàn)略高度扶植并推動(dòng)著濺射靶材產(chǎn)業(yè)的發(fā)展壯大。目前國(guó)內(nèi)靶材行業(yè)已經(jīng)初具規(guī)模，隨著國(guó)內(nèi)靶材企業(yè)的技術(shù)創(chuàng)新，在半導(dǎo)體、面板以及光學(xué)器件等領(lǐng)域出現(xiàn)了具備和日美跨國(guó)集團(tuán)競(jìng)爭(zhēng)的本土靶材企業(yè)。“半導(dǎo)體器件用鎳鉑靶材的制備關(guān)鍵技術(shù)及產(chǎn)業(yè)化”

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進(jìn)口靶材,氧化銦錫靶材,ito

尤特新材能制備比例90:10、95:5、97:3平面及旋轉(zhuǎn)ito靶材，目前，氧化物薄膜材料的主要成型方法主要有： ? ? ? ?1. 熱等靜壓法是將粉末或預(yù)先壓成的素坯裝入包套后，再將套內(nèi)抽真空焊接密封，放入高壓容器內(nèi)，使粉末在高溫及等方壓力下燒結(jié)，成型和燒結(jié)同時(shí)進(jìn)行 。在ITO靶材的發(fā)展中，早期采用的熱等靜壓技術(shù)難以獲得高密度、大尺寸的材料。隨著常壓燒結(jié)方法的出現(xiàn)，熱等靜壓法制備的靶材尺寸偏小、

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ito靶材公司 ito靶材公司廠

半導(dǎo)體芯片的需求市場(chǎng)比較龐大，集中在手機(jī)、PC、、AI、物聯(lián)網(wǎng)、電子汽車(chē)、5G等領(lǐng)域，龐大的市場(chǎng)還是手機(jī)、PC、可穿戴設(shè)備等電子消費(fèi)產(chǎn)品。但是在整體經(jīng)濟(jì)環(huán)境低迷的情況下，大部分國(guó)家電子產(chǎn)品消費(fèi)市場(chǎng)都不景氣，且短期內(nèi)很難迎來(lái)報(bào)復(fù)性增長(zhǎng)。需求端疲軟成為半導(dǎo)體上游產(chǎn)業(yè)的嚴(yán)峻挑戰(zhàn)。中國(guó)信通院發(fā)布的2020年2月國(guó)內(nèi)手機(jī)出貨量數(shù)據(jù)顯示，2月出貨量為638.4萬(wàn)部，同比下降了56%。根據(jù)整理的數(shù)據(jù)顯示，半導(dǎo)體

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