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廣州市尤特新材料有限公司

主營:濺射靶材,鍍膜靶材,金屬靶材,旋轉(zhuǎn)靶材,平面靶材,噴涂靶材,靶材,UV玻璃油墨

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  • 硅鋁鋯靶材,硅鋁靶材,高純硅靶材,硅靶材廠家
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    ? ? ? 鉬靶材主要用于平面顯示行業(yè),屬于鉬金屬制品生產(chǎn)鏈頂端產(chǎn)品,技術(shù)含量高、生產(chǎn)難度大。UVTM自主研發(fā)、生產(chǎn)出具有完全知識產(chǎn)權(quán)的4.5代、5.0代、5.5代靶材,產(chǎn)品規(guī)格一次一次刷新紀錄。靶中毒的影響因素,靶中毒現(xiàn)象(1)正離子堆積:靶中毒時,靶面形成一層絕緣膜,正離子到達陰極靶面時由于絕緣層的阻擋,不能直接進入陰極靶面,而是堆積在靶面上,容易產(chǎn)生冷場致弧光放電---打弧,使陰極濺射無法進

    2024-07-31 面議/套
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    ? ? ? 鍍膜靶材是用物理或化學(xué)的方法在靶材表面鍍層透明的電解質(zhì)膜,或鍍一層金屬膜,目的是改變靶材表面的反射和透射特性。而鍍膜的方法有真空鍍膜和光學(xué)鍍膜,真空鍍膜和光學(xué)鍍膜的區(qū)別是什么。在19世紀末,ITO薄膜的研究工作開始真實地發(fā)展了起來,當(dāng)時是在光電導(dǎo)的材料上獲得很薄的金屬薄膜。而關(guān)于透明導(dǎo)電材料的研究進入一個新的時期,則是在第二次世界大戰(zhàn)期間,主要應(yīng)用于飛機的除冰窗戶玻璃。而在1950年,

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    ? ? ? 隨著石墨加工技術(shù)的提高,石墨靶材興起,石墨靶材也會被應(yīng)用在更加廣闊的領(lǐng)域中,在市場中,優(yōu)質(zhì)石墨靶材主要來源日本、德國、美國,不僅是在靶材行業(yè),在石墨行業(yè)我們這些國家的差距還是很大的。在靶材行業(yè)中,我們常見到的有金屬靶材、陶瓷靶材、合金靶材、這些在靶材在微電子、顯示器、儲存等行業(yè)有著廣泛的應(yīng)用。石墨靶材自身具有耐高溫、自潤滑、耐腐蝕、導(dǎo)電性良好等特點,用石墨做靶材,根據(jù)行業(yè)的不同選用不同

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    ? ? UVTM專業(yè)鈮靶生產(chǎn)商,為您提供高品質(zhì)的濺射靶材,電磁屏蔽膜,鍍膜玻璃工業(yè)用鈮靶,薄膜太陽能用高純銅靶,無氧銅靶材,純度5N根據(jù)客戶圖紙加工長率達到18%。受機械硬盤出貨容量增長的帶動,記錄媒體靶材需求穩(wěn)定增長。薄膜太陽能電池效率存在提升空間,靶材需求。硅電池的效率已經(jīng)接近其理論值,而薄膜太陽能電池的效率在逐年提高。據(jù)預(yù)測,年會呈現(xiàn)逐年遞增的趨勢,并于2023年打破395億美元大關(guān)。平板顯

    2024-07-30 面議/套
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    中國芯片究竟在哪個環(huán)節(jié)被美國“卡”了脖子?數(shù)據(jù)表明,2019年,我國芯片自給率僅為30%左右。根據(jù)有關(guān)部門的發(fā)展規(guī)劃,2025年,芯片自給率提升到70%,這差不多是當(dāng)下美國等芯片大國的平均水平。作為一個龐大且復(fù)雜的行業(yè),芯片行業(yè)擁有一條超長的產(chǎn)業(yè)鏈。其整體可分為設(shè)計、制造、封裝、四大環(huán)節(jié)。除了在設(shè)計領(lǐng)域,華為海思擁有一定的打破能力,其他三個環(huán)節(jié),尤其是在制造環(huán)節(jié),國內(nèi)廠商的能力仍有較大的提升空間。

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    ? ? ? ITO導(dǎo)電膜屬于掛式電容屏技術(shù)。以新型顯示應(yīng)用相關(guān)的人工智能(AI)、現(xiàn)實(VR)、增強現(xiàn)實(AR)、物聯(lián)網(wǎng)、大數(shù)據(jù)等新興產(chǎn)業(yè)為,用的重要發(fā)力點。用準確儀器設(shè)備在半導(dǎo)體芯片各個功能層上鍍覆一層薄薄的透明金屬導(dǎo)電膜,這層膜的厚度因功能需求而有不同,200納米之間。不足頭發(fā)絲直徑五百分之一,以實現(xiàn)半導(dǎo)體金屬的物理化學(xué)性能,稱為薄膜。中國的車載芯片依稀可以窺見鎢材料,更具體地說,是高純鎢濺射

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    ? ? UVTM是國家高新技術(shù)企業(yè),公司成立于二00三年,專業(yè)從事信息、鍍膜、太陽能材料的科研與生產(chǎn)。公司從德國、日本、引進先進的生產(chǎn)、檢測設(shè)備和專業(yè)人才,是集科研、生產(chǎn)、銷售、服務(wù)于一體的中外合資企業(yè)。UVTM廣州工廠建成于2006年,位于花都區(qū)華僑科技工業(yè)園,占地面積近3萬平方米,建筑面積239平方米,地理近臨廣州國際白云機場,交地便利。磁控濺射技術(shù)是70年展起來的一種新型濺射技術(shù),目前已在科

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    ? ? ? 高純?yōu)R射靶材是伴隨著半導(dǎo)體工業(yè)的發(fā)展而興起的,濺射靶材市場不僅僅在于電子行業(yè),近年來砍濺射靶材的市場規(guī)模正在悄然發(fā)展,靶材的難點僅僅看純度么?靶材性能影響鍍膜質(zhì)量,不同應(yīng)用性能要求各有側(cè)重,通常半導(dǎo)體靶材純度高,平面顯示靶材面積大對均勻性、焊接率要求高,而多元素靶材對原料成分和籌備均勻性提出更高要求。靶材原料高純金屬和陶瓷粉位于靶材產(chǎn)業(yè)鏈的高附加值環(huán)節(jié),主要依靠日美***,而國內(nèi)少數(shù)金

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    ? ? ? 真空鍍膜機是目前制作真空條件應(yīng)用較為廣泛的真空設(shè)備,一般用真空室、真空機組、電氣控制柜三大部分組成,排氣系統(tǒng)采用“擴散泵 機械泵+羅茨泵+低溫冷阱+polycold;組成。真空主體;真空腔根據(jù)加工產(chǎn)品要求的各異,真空腔的大小也不一樣,目前應(yīng)用較多的有直徑1.3M、0.9M、1.5M、1.8M等,腔體由不銹鋼材料制作,要求不生銹、堅實等,真空腔各部分有連接閥,用來連接各抽氣泵浦。抽氣系統(tǒng)

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