供應陶瓷專項使用真空電鍍設

多弧離子鍍膜設備: 多弧離子鍍膜設備是一種、無害、無污染的離子鍍膜設備，具有沉積速度快、離化率高、離子能量大、設備操作簡單、成本低、生產量大的優點。 真空電弧離子的原理是基冷陰極自持弧光放電結合脈沖技術及磁控濺射技術，使沉積粒子細化，膜層的各項性能得以提高。它不僅能在金屬制品表面進行鍍膜而且能在非金屬制品表面制品上進行鍍膜，可以鍍金屬膜、氮化鈦、碳化鈦、氮化鋯、氮化鉻、及鈦、鎳、鉻、銅、等化合

2015-10-23 0

供應汽車燈具鍍膜機

磁控/蒸發兩用鍍膜設備： 此設備利用磁控濺射陰極輝光放電將原子（靶材）離化沉積在基材上（物理氣相沉積PVD）和真空中利用電阻加熱法將金屬絲熔融或金屬分子汽化，對基材、手機殼等塑料表面進行金屬化、利用特定薄膜涂層實現產品不導電和電磁屏蔽的作用，以滿足現行手機的高端電子產品制造行業標準； 設備集中了等離子體處理，高端陰極磁控濺射，、電阻蒸發鍍膜裝置，大裝載量轉架和自動化控制技術，工作可靠、重復性一

2011-12-21 0

供應衛浴潔具電鍍設備

多功能離子鍍膜設備： 該系列設備主要是（集）直流磁控濺射，中頻濺射和電弧電子蒸發三種技術融合一體，結合線性離化脈沖偏壓可使沉積顆料細化，膜層各項性能提高，能在金屬制品及非金屬表面鍍制合金膜、化合物膜、多層復合膜等。經公司技術人員多年專注研發，通過特有的陰極電弧離子和非平衡磁控系統，并開發出整套PROPOWER系列計算機自動控制系統，使鍍膜膜層附著力致密度、從復度一致性好等特點，解決了人工手動操作

2011-12-21 0

供應蒸發磁控濺射鍍膜設備

磁控/蒸發兩用鍍膜設備： 此設備利用磁控濺射陰極輝光放電將原子（靶材）離化沉積在基材上（物理氣相沉積PVD）和真空中利用電阻加熱法將金屬絲熔融或金屬分子汽化，對基材、手機殼等塑料表面進行金屬化、利用特定薄膜涂層實現產品不導電和電磁屏蔽的作用，以滿足現行手機的高端電子產品制造行業標準； 設備集中了等離子體處理，高端陰極磁控濺射，、電阻蒸發鍍膜裝置，大裝載量轉架和自動化控制技術，工作可靠、重復性一

2011-12-21 0

供應真空鍍膜設備

我司專業生產各種真空鍍膜設備： 蒸發鍍膜設備：立式、臥式。可加工的產品包括：手機、DVD、MP3、PDA外殼、按鍵；化妝品外殼；工藝禮品、玩具、圣誕禮品；可加工的材料包括：ABS、PS、PP、PC、PVC、尼龍、金屬、波麗、玻璃、陶瓷、TPU等。可電鍍效果有：普通電鍍亮面、啞面（半啞、全啞）、工藝電鍍皺紋、拉絲、雨滴、七彩等；電鍍顏色有：金、銀、紅、藍、綠、紫等等。 ? 磁控濺射+蒸發鍍膜設

2011-12-21 0

供應工模具真空鍍膜機

多功能離子鍍膜設備： 該系列設備主要是（集）直流磁控濺射，中頻濺射和電弧電子蒸發三種技術融合一體，結合線性離化脈沖偏壓可使沉積顆料細化，膜層各項性能提高，能在金屬制品及非金屬表面鍍制合金膜、化合物膜、多層復合膜等。經公司技術人員多年專注研發，通過特有的陰極電弧離子和非平衡磁控系統，并開發出整套PROPOWER系列計算機自動控制系統，使鍍膜膜層附著力致密度、從復度一致性好等特點，解決了人工手動操作

2011-12-21 0

供應多弧離子真空鍍膜設備

多弧離子鍍膜設備是一種、無害、無污染的離子鍍膜設備，具有沉積速度快、離化率高、離子能量大、設備操作簡單、成本低、生產量大的優點。 真空電弧離子的原理是基冷陰極自持弧光放電結合脈沖技術及磁控濺射技術，使沉積粒子細化，膜層的各項性能得以提高。它不僅能在金屬制品表面進行鍍膜而且能在非金屬制品表面制品上進行鍍膜，可以鍍金屬膜、氮化鈦、碳化鈦、氮化鋯、氮化鉻、及鈦、鎳、鉻、銅、等化合物膜、多層超硬膜、氮化

2011-12-21 0

供應蒸發真空鍍膜設備

裝飾真空鍍膜設備是蒸發式鍍膜裝置，在真空室中利用電阻加熱法，將緊貼在電阻絲上的金屬絲（鋁絲）熔融汽化，汽化了金屬分子沉積于基片上，而獲得光滑高反射率的膜層，達到裝飾美化物品表面的目的。 該設備具有：結構合理，膜層均勻、成膜質量好、抽速大、工作同期短、生產效率高、操作方便，能耗低性能穩定等優點。廣泛應用于汽車、音響、各類小家電、電腦、鐘表、玩具、手機、反光杯、化妝品、玩具等行業。 可加工的材料包

2011-12-21 0

供應工具專項使用鍍膜設備

多功能離子鍍膜設備： 該系列設備主要是（集）直流磁控濺射，中頻濺射和電弧電子蒸發三種技術融合一體，結合線性離化脈沖偏壓可使沉積顆料細化，膜層各項性能提高，能在金屬制品及非金屬表面鍍制合金膜、化合物膜、多層復合膜等。經公司技術人員多年專注研發，通過特有的陰極電弧離子和非平衡磁控系統，并開發出整套PROPOWER系列計算機自動控制系統，使鍍膜膜層附著力致密度、從復度一致性好等特點，解決了人工手動操作

2011-12-21 0