多功能離子鍍膜設備：

該系列設備主要是（集）直流磁控濺射，中頻濺射和電弧電子蒸發三種技術融合一體，結合線性離化脈沖偏壓可使沉積顆料細化，膜層各項性能提高，能在金屬制品及非金屬表面鍍制合金膜、化合物膜、多層復合膜等。經公司技術人員多年專注研發，通過特有的陰極電弧離子和非平衡磁控系統，并開發出整套PROPOWER系列計算機自動控制系統，使鍍膜膜層附著力致密度、從復度一致性好等特點，解決了人工手動操作復雜性、膜層顏色不一致等問題。廣泛適用于手表、手機殼、五金、潔具、餐具及要求耐磨起硬的刀具、模具等。鍍制Tin、TiCN、CrN、TiALN、TiCrN、ZrN、TiNC及各類金屬石膜（DLC）。

1、磁控濺射的原理是基于陰極輝光放電理論，把陰極表面磁場擴展到接近工件表面，提高了濺射原子離化率。既保留磁控濺射的細膩又增強了表面光澤度。

2、電弧等離子體蒸發源性能可靠，在優化陰極及磁場結構鍍膜時可在30A電流下工作，鍍膜膜層和基底界面產生原子擴散，又具有離子束輔助沉積的特點。

型號JTZ-800 JTL-1000 JTL-1250

真空室尺寸￠800×1000MM ￠1000×1000MM ￠1250×1100MM

鍍膜方式及主要配置

六個多弧源+一套圓柱靶+一套平面矩形磁控濺射靶

八個多弧源+一對孿生（中頻）磁控濺射靶+一套平面矩形磁控濺射靶

十二個多弧源+一對孿生（中頻）磁控濺射靶+兩套平面矩形磁控濺射靶

鍍膜方式及主要配置

電弧電源、直流磁控電源、中頻磁控電源、燈絲電源、脈沖電源、線性離化源

工藝氣體控制 質量流量計+電磁陶瓷閥

真空室結構 立式側（單）開門結構，后置抽氣系統，雙層水冷

真空系統組成 分子泵+羅茨泵+機械泵（5.0×10-4PA）

工件烘烤溫度 常溫到500度可調可控(PID控溫),輻射加熱

工件運動方式 公自轉變頻調速,0~20轉/分

測量方式 數顯復合真空計:測量范圍從大氣至1.0×10-5PA

控制方式 手動/自動/PC/PLC+HMI/PC四種方式可選

備注 以上設備可按客戶實際及特殊工藝要求設計訂做

東莞市莞真真空設備有限公司服務于中國真空制造業各領域,我公司是一家有經驗真空應用及設備開發制造的高科技企業。 本公司擁有一批真空行業資歷豐富相關人士、工程師及售后服務者。致力于真空設備的研發設計和提供完善的真空設備解決方案及售后服務。嚴格要求生產及管理，確保研發制造的產品安全、質優、可靠！務求先進的技術、的品質、有經驗周到的服務。 本公司所制造的真空設備已成功廣泛應用到塑膠、工藝禮品、電子、玩具、鞋材、五金、陶瓷、飾品、汽車等行業。 以人為本！誠實守信！開拓創新！用戶至上是莞真真空設備的發展精力，歡迎各界朋友選擇莞真，選擇莞真你我共贏，共同創造美好未來！