磁控/蒸發兩用鍍膜設備：

此設備利用磁控濺射陰極輝光放電將原子（靶材）離化沉積在基材上（物理氣相沉積PVD）和真空中利用電阻加熱法將金屬絲熔融或金屬分子汽化，對基材、手機殼等塑料表面進行金屬化、利用特定薄膜涂層實現產品不導電和電磁屏蔽的作用，以滿足現行手機的高端電子產品制造行業標準；

設備集中了等離子體處理，高端陰極磁控濺射，、電阻蒸發鍍膜裝置，大裝載量轉架和自動化控制技術，工作可靠、重復性一致性良好、沉積速率高快，附著力好，膜層品質細膩等，鍍制的薄膜致密硬度高，磨擦系數低，可保持原有工件表面光潔，具有韌性好，不易破裂脫落。設備實現鍍膜工藝全自動化控制。在基材表面利用真空鍍膜方法進行涂層，具有生產成本低、產品合格率高、綠色環保等特點，主要適用于電腦、手機、高端工業（家用）電子電器、航空等領域，，可鍍制復合金屬膜、合金膜、透明（半透明）膜、不導電膜、電磁屏蔽膜及特殊膜層等。

型號JTZ-1000 JTZ-1200 JTZ-1300 JTZ1400

真空室尺寸￠1400×1400MM ￠1200×1500MM ￠1300×1800MM ￠1400×1800MM

制膜種類 金屬膜、半透明膜、不導電膜、電磁屏蔽膜、介質膜等

電源類型 電阻蒸發電源、直流磁控電源、射頻電源

濺射及電極結構 圓柱磁控靶、平面矩形靶、孿生靶、蒸發電極

真空室結構 立式雙開門、立式單開門、后置抽氣系統/臥式單開門、側置抽氣系統

極限真空 4.0×10-4PA

真空系統組成 擴散泵+羅茨泵+機械泵+維持泵

抽氣時間 從大氣抽至8.5×10-3PA，小于或等于15分鐘

工件運動方式 公自轉/變頻調速

控制方式 手動/自動一體化式，觸摸屏+PLC

備注 以上設備可按客戶實際及特殊工藝要求設計訂做

主營產品：真空鍍膜設備+蒸發磁控濺射鍍膜設備+多弧離子鍍膜設備+環保電鍍設備+真空表面處理設備+PVD離子鍍膜設備+中頻磁控多功能真空鍍膜設備+金屬專項使用電鍍設備+蒸發鍍膜設備+塑料專項使用電鍍設備+手機外殼按鍵鍍膜設備+衛浴潔具鍍膜設備 公司成立年份：
公司網址：http://guanzhenzhenkong.glass.com.cn

聯系人：肖梯文
電話：86-0769-85622826-
移動電話：13926868291
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地址：
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產品屬性：
計量單位：臺 供貨總量：1000 最小起訂量：1 產品單價： 品牌： 規格型號：按客人要求 包裝說明：