四、浮法工藝生產需解決的主要問題：
　　
　　用浮法玻璃工藝技術生產高硼硅平板玻璃必須根據高硼硅玻璃的成分、性能特點，結合浮法玻璃生產工藝的特點和要求，將高硼硅玻璃的高溫熔化澄清工藝技術和浮法玻璃成形工藝技術農業生產體系地結合起來，主要需要解決以下幾方面的問題：
　　
　　1、高硼硅玻璃的高溫熔化工藝技術：
　　
　　如下表所示，高硼硅玻璃與鈉鈣硅玻璃的化學成分相差非常大，含有很高的SiO2、很多的B2O3、很低的R2O、但不含RO(如CaO、MgO)。

表2、高硼硅玻璃與鈉鈣硅玻璃的化學成分

　　由于高硼硅玻璃的高硅高硼中鋁低堿的成分特點，決定了它的熔化是相當困難的。根據資料介紹，在10PaS粘度下，高硼硅玻璃液溫度≥1680℃，而鈉鈣硅玻璃液溫度≤1440℃，相差了近250℃。為了使玻璃液達到這個溫度，熔窯空間溫度還要大幅度提高，通常鈉鈣硅玻璃熔窯的空間溫度要求達到1550℃，這時熔窯小爐腿的溫度要達到≥1580℃。要熔化好高硼硅玻璃，熔窯的空間溫度也要比玻璃液溫度1680℃高得多，較好能夠達到≥1750～1800℃，對于采用常規重油或天然氣燃料的玻璃熔窯來說，達到如此高的溫度是不可想象的。同時這種玻璃熔窯的耐火材料將很難承受如此高的溫度，嚴重影響玻璃熔窯的壽命。
　　
　　因此，國內外熔化高硼硅玻璃的熔窯絕大部分都是采用電輔助加熱熔化技術或全電熔熔化技術。采用電輔助燃氣(油)加熱熔化技術的高硼硅玻璃熔窯，可以采用空氣助燃、富氧助燃、全氧燃燒三種燃燒方式，隨著技術的進步越來越多的高硼硅玻璃熔窯采用全新的全氧燃燒技術，能夠顯著提高火焰的高溫輻射能力，明顯減少熔窯的煙氣生成量，非常大的減少煙氣帶走的熱量，能夠顯著提高熔窯的空間溫度和熱效率，提高熔窯的生產能力，提高玻璃的熔化質量。另外，采用全電熔熔化技術的電熔窯，更適宜高硼硅玻璃的熔化，它能夠非常顯著地降低B2O3和R2O揮發量。一般來說，使用全電熔窯可以使B2O3的揮發率由10～20％，降低到1～2％。
　　
　　2、高硼硅玻璃的高溫澄清均化工藝技術：
　　
　　目前，高硼硅玻璃的澄清普遍采用NaCl作為澄清劑，NaCl是傳統的硼硅酸鹽澄清劑，其熔化溫度801℃，沸點1413℃，密度2.164g/cm3。高溫時NaCl揮發，并從玻璃液中擴散到殘留氣泡內使之膨脹，使氣泡上升逸出，促進玻璃的澄清。研究試驗表明，加入少量NaCl(0.5％～1.0%)時，玻璃中的大小氣泡都很多，玻璃澄清效果較差。增加NaCl含量，大氣泡明顯減少，而小氣泡幾乎沒有變化。因此NaCl主要用于清理玻璃中的大氣泡，對于較小氣泡作用并不明顯。但繼續增加NaCl含量，會導致玻璃澄清過度使玻璃乳濁，同時NaCl對熔窯的耐火材料侵蝕非常大。
　　
　　由于高硼硅玻璃的粘度比非常大，且玻璃液中B2O3揮發和Al2O3下沉，使得高硼硅玻璃各層玻璃液的化學成分出現明顯不同，高硼硅玻璃在池深的成分均勻性較差。
　　
　　與鈉鈣硅玻璃不同的是，高硼硅玻璃在熔化和澄清過程中，B2O3揮發在熔化池會造成玻璃成分變化，在工作池生成表面變質層使成品產生條紋或結石。通常高硼硅玻璃是以硼酸和硼砂引入B2O3，火焰窯揮發量10～20％，即使改用無水硼砂和無水硼酸，揮發量較低也要達到5～10％。一般來說，玻璃中的K2O和Na2O與B2O3結合后使得揮發進一步加強。如下表3所示：

表3、表層玻璃、揮發物與正常玻璃成分比較(wt％)

　　同時，池窯熔化會產生分層現象，即下層玻璃液Al2O3含量較高B2O3含量較低。分層的變質玻璃產生在溫度低于1350℃的池底部。當工作池溫度較低時分層現象更為嚴重。其原因是在1350℃粘度非常大流動性較差比重非常大的Al2O3等組分易于下沉。