鉭靶材,鉬鈮靶材,鉬靶材

真空鍍膜機(jī)是目前制作真空條件應(yīng)用較為廣泛的真空設(shè)備，一般用真空室、真空機(jī)組、電氣控制柜三大部分組成，排氣系統(tǒng)采用“擴(kuò)散泵 機(jī)械泵 羅茨泵 低溫冷阱 polycold”組成。本公司專(zhuān)業(yè)從事真空鍍膜設(shè)備的研發(fā)與生產(chǎn)擁有經(jīng)驗(yàn)豐富的技術(shù)團(tuán)隊(duì)及優(yōu)質(zhì)的售后服務(wù)隊(duì)伍為您解決設(shè)備在使用過(guò)程中遇到的任何問(wèn)題。下面，詳細(xì)介紹真空鍍膜機(jī)的各部分組成及其工作原理。 真空主體——真空腔根據(jù)加工產(chǎn)品要求的各異，真空腔的大小也

2024-07-20 面議/條

旋轉(zhuǎn)銅靶材,銅管靶材,銅鋅合

真空鍍膜設(shè)備行業(yè)不斷發(fā)展，日益更新的技術(shù)，讓更多的企業(yè)朋友擺脫了傳統(tǒng)原始的鍍膜手段和方法。無(wú)論是整個(gè)行業(yè)與國(guó)外同行業(yè)相比，還是在本行業(yè)內(nèi)互相的對(duì)比，都暴露了真空鍍膜行業(yè)里面，首先是研發(fā)能力，可以說(shuō)沒(méi)有資金的投入或只有少量資金的投入。研發(fā)能力差，也只是走邊接單，邊設(shè)計(jì)，邊生產(chǎn)的模式，在某種程度上造成了設(shè)備性能的不可靠和工藝的不成熟。技術(shù)需要升級(jí)改造，雖然近幾年幾個(gè)企業(yè)搬遷而有了改觀，但整體的制造水平

2024-07-20 面議/套

氧化鋁靶材,氧化鋅鋁靶材,氧

? ? 低電壓濺射制備ITO薄膜由于ITO薄膜本身含有氧元素，磁控濺射制備ITO薄膜的過(guò)程中，會(huì)產(chǎn)生大量的氧負(fù)離子，氧負(fù)離子在電場(chǎng)的作用下，以一定的粒子能量會(huì)轟擊到所沉積的ITO薄膜表面，使ITO薄膜的結(jié)晶結(jié)構(gòu)和晶體狀態(tài)造成結(jié)構(gòu)缺陷。濺射的電壓越大，氧負(fù)離子轟擊膜層表面的能量也越大。為了有效地降低磁控濺射的電壓，以達(dá)到降低ITO薄膜電阻率的目的，可以采用一套特殊的濺射陰極結(jié)構(gòu)和濺射直流電源，同時(shí)將

2024-07-19 面議/套

高純氧化鈮靶材,氧化鈮靶材

? ? ? 濺射靶材，中國(guó)產(chǎn)業(yè)調(diào)研網(wǎng)發(fā)布的年中國(guó)靶材行業(yè)發(fā)展研究分析與市場(chǎng)前景預(yù)測(cè)報(bào)告認(rèn)為靶材是膜的濺射源。簡(jiǎn)單說(shuō)的話，靶材就是高速荷能粒子轟擊的目標(biāo)材料，用于高能激光****中，不同功率密度、不同輸出波形、不同波長(zhǎng)的激光與不同的靶材相互作用時(shí)，效應(yīng)。蒸發(fā)磁控濺射鍍膜是加熱蒸發(fā)鍍膜、鋁膜等。光碟的膜層也是多層組成的，它在染料層上鍍上30nm厚的鐵鈷合金記錄層，里面混有非晶態(tài)稀土過(guò)渡元素，再鍍上20

2024-07-19 面議/套

高純銀靶,4N銀管靶,99.99%銀

? ? ? 中興制裁與華為都給我們敲響警鐘，芯片等核心技術(shù)產(chǎn)業(yè)亟需發(fā)展，國(guó)產(chǎn)替代刻不容緩。作為半導(dǎo)體材料中的重要一環(huán)—濺射靶材同樣如此，國(guó)產(chǎn)化是必然之路。真空鍍膜設(shè)備要在真空條件下工作，真空對(duì)環(huán)境的要求，一般包括真空設(shè)備對(duì)所處實(shí)驗(yàn)室（或車(chē)間）的溫度、空氣中的微粒等周?chē)�環(huán)境的要求，和對(duì)處于真空狀態(tài)或真空中的零件或表面要求兩個(gè)方面。這兩個(gè)方面是有密切的。周?chē)�環(huán)境的好壞直接影響真空設(shè)備的正常使用；而真空

2024-07-19 面議/套

氧化銦粉,日本氧化銦粉,高純

? ? ? 濺射鍍膜是制備薄膜的主要技術(shù)之一，綜合優(yōu)勢(shì)顯著。濺射薄膜制備的源頭材料，又稱(chēng)濺射靶材。PVD鍍膜目前主要有三種形式，分別是濺射鍍膜、蒸發(fā)鍍膜以及離子鍍膜。綜合而言，蒸鍍薄膜的密度較差，只能達(dá)到理論密度的95%，鍍膜的附著力也較差，但是蒸鍍的鍍膜速率較快。離子鍍不但密度較高、晶粒較小，而且鍍膜與基板的附著力也是三種鍍膜中較大的，只是離子鍍膜較大的缺點(diǎn)是基板必需是導(dǎo)電材料，并且鍍膜時(shí)基板的

2024-07-19 面議/套

高純銀靶材,平面銀靶,旋轉(zhuǎn)銀

自20世紀(jì)80年代，以集成電路、信息存儲(chǔ)、液晶顯示器、激光存儲(chǔ)器、電子控制器為主的電子與信息產(chǎn)業(yè)開(kāi)始進(jìn)入高速發(fā)展時(shí)期，進(jìn)入工業(yè)化規(guī)模生產(chǎn)應(yīng)用領(lǐng)域。近10年來(lái)，濺射技術(shù)更是取得了突飛猛進(jìn)的發(fā)展。相比PVD另一大工藝真空鍍膜，厚可控制，可在大面積基板材料上獲得厚度均勻的薄膜，合力強(qiáng)等優(yōu)點(diǎn)，已成為制備薄膜材料的主要技術(shù)。電子器件靶材的原材料有鎳鉻合金、鉻硅合金等，薄膜電容。靶材的方法很多。大體上，按應(yīng)用

2024-07-19 面議/套

平面硅靶,硅平面靶,硅靶材生

? ? ? 日本能源、東芝和三井在大部分國(guó)家ITO靶材市場(chǎng)擁有80%以上的份額。平板顯示器件都要用到各種類(lèi)型的薄膜，沒(méi)有薄膜技術(shù)就沒(méi)有平板顯示器件。平板顯示器多由金屬電極、透明導(dǎo)電極、絕緣層、發(fā)光層組成，為了保證大面積膜層的均勻性，提高生產(chǎn)率和降低成本。平板顯示器多由金屬電極、透明導(dǎo)電極、絕緣層、發(fā)光層組成，為了保證大面積膜層的均勻性，提高生產(chǎn)率和降低成本，幾乎所有類(lèi)型的平板顯示器件都會(huì)使用大量的

2024-07-19 面議/套

旋轉(zhuǎn)銀靶,旋轉(zhuǎn)鈮靶,旋轉(zhuǎn)銦靶

? ? ? 非常高純鋁濺射靶基材為非常高純鋁靶材的金屬原材料。電子濺射靶材可以分為半導(dǎo)體靶材、鍍膜玻璃靶材、太陽(yáng)能光伏靶材、裝飾鍍靶材等。材質(zhì)：Si、Al規(guī)格：可以按照用戶需要定制。汽車(chē)玻璃)工業(yè)等行業(yè)。在半導(dǎo)體集成電路制造過(guò)程中，以電阻率較低的銅導(dǎo)體薄膜代替鋁膜布線：在平面顯示器產(chǎn)業(yè)中，各種顯示技術(shù)（如LCD、PDP、OLED及FED等）的同步發(fā)展，有的已經(jīng)用于電腦及計(jì)算機(jī)的顯示器制造；在信息存

2024-07-19 面議/套