? ? 低電壓濺射制備ITO薄膜由于ITO薄膜本身含有氧元素，磁控濺射制備ITO薄膜的過程中，會產生大量的氧負離子，氧負離子在電場的作用下，以一定的粒子能量會轟擊到所沉積的ITO薄膜表面，使ITO薄膜的結晶結構和晶體狀態造成結構缺陷。濺射的電壓越大，氧負離子轟擊膜層表面的能量也越大。為了有效地降低磁控濺射的電壓，以達到降低ITO薄膜電阻率的目的，可以采用一套特殊的濺射陰極結構和濺射直流電源，同時將一套3KW的射頻電源合理地匹配疊裝在一套6KW的直流電源上。在不同的直流濺射功率和射頻功率下進行降低ITO薄膜濺射電壓的工藝研究。超聲探傷：靶坯加工完后需要采用波進行檢查材料內部是否有缺陷。一方面在陰極靶的周圍。管材。

? ? 光記錄靶材主要指在光盤制造中使用到的濺射靶材。結構簡單的光盤主要由基板、記錄層、反射層、保護層和印刷層組成，數超過10層，有記錄層、反射板和保護層。國外濺射靶材生產商數量眾多，但是側重不同，在各個細分市場各有優勢。目前制備薄膜電池較為常用的濺射靶材包括鋁靶、銅靶、鉬靶、鉻靶以及ITO靶、AZO靶(氧化鋁鋅)等，HIT電池主要使用ITO靶材作為其透明導電薄膜。靶材也逐步向國產化方向努力;設備***替代降低投資成本。隨著消費者對大尺寸電視及智能手機需求的增長，平板顯示器尺寸迅速加大，推動平板顯示器行業規模不斷加大，市場規模增速達到20%。硬盤容量快速增長帶動帶動上游靶材需求增長。未來幾年HDD的出貨總容量依然會保持增長態勢。

? ? ? 在光學器件領域。WSTS預計，2018年大部分國家半導體規模增速達12.4%。特別是存儲器市場。增速高達61.49%。一方面，存儲芯片需求旺盛，價格大幅上漲，另一方面，物聯網、汽車電子、AI等新應用拉動下游需求。半導體材料主要分為晶圓制造材料和封裝材料，料包括硅片（37%）、光刻膠、光刻膠配套試劑、濕電子化學品、電子氣體、P拋光材料、以及靶材等；、引線框架、樹脂、鍵合絲、錫球、以及電鍍液等。在芯片制造設備領域，韓國不要說與美國，就是與日本和歐洲的企業相比都相距甚遠。另據韓國國國際貿易協會（KITA）的數據，2019年韓國***芯片制造設備排名前三的國家分別是日本、美國和荷蘭。這意味著，韓國在芯片制造設備領域與美國起碼的博弈能力都不具備。

? ? ? ?近年來，中國大陸漸漸有些觸控面板廠商開始采用了非日東的大陸本土ITO薄膜產品，這些ITO薄膜價格非常便宜，能夠滿足大陸觸控面板廠商的成本考量，即便會有觸控靈敏度較差的問題，但只要由大陸觸控面板廠事先直接向客戶說明，在客戶能夠接受的前提下，低價化的薄膜觸控面板仍有市場。其它非日東觸控ITO薄膜廠商近來接單量也大增，主要則是因為日東與蘋果合作(推測可能在技術、產能有整體化合作)后，產能吃緊，進而使對外供貨的數量銳減，許多觸控面板廠商無法向日東拿到足夠的ITO薄膜，為了滿足各自客戶需求、沖刺旺季出貨量，于是趕緊轉向其他非日東觸控ITO薄膜廠商進料。基本上，日東的ITO薄膜因為品質穩定度高、價格是比較貴。如果非日東廠商的ITO薄膜、價格與日東沒差多少，等到日東產能又擴大對外釋出時。相對可能就會面臨較大的訂單流失壓力。粉。

真空鍍膜機在鍍膜的時候，需要鍍層表面的化學成分保持均勻性，厚度上的均勻性，也可以理解為粗糙度，在光學薄膜的尺度上看也就是1/10波長作為單位，約為100A，真空鍍膜的均勻性已經相當好，可以輕松將粗糙度控制在可見光波長的1/10范圍內，也就是說對于薄膜的光學特性來說，真空鍍膜沒有任何障礙。但是如果是指原子層尺度上的均勻度，也就是說要實現10A甚至1A的表面平整，具體控制因素下面會根據不同鍍膜給出詳細解釋。化學組分上的均勻性：就是說在薄膜中，化合物的原子組分會由于尺度過小而很容易的產生不均勻特性，SiTiO3薄膜，如果鍍膜過程不科學，那么實際表面的組分并不是SiTiO3，而可能是其他的比例。鍍的膜并非是想要的膜的化學成分。這也是真空鍍膜的技術含量所在。晶格有序度的均勻性：這決定了薄膜是單晶，多晶，非晶，是真空鍍膜技術中的熱點問題。噴涂靶商。

? ? ? 近年來，受益于國家從戰略高度持續地支持電子材料行業的發展及應用推廣，我國國內開始出現不少專業從事高純濺射靶材研發和生產的企業，并成功開發出一批能適應高等應用領域的濺射靶材，為高純濺射靶材大規模產業化提供了良好的研發基礎和市場化條件。通過將濺射靶材研發成果產業化，積極參與濺射靶材的國際化市場競爭，我國濺射靶材生產企業在技術和市場方面都取得了長足的進步，改變了高純濺射靶材長期依賴***的不利局面。目前，包括長沙鑫康在內的一些國內企業已經掌握了高純濺射靶材生產的關鍵技術，積累了較為豐富的產業經驗，擁有了一定的市場知名度，獲得了大部分國家知名客戶的認可。

反應磁控濺射制備化合物薄膜的優點：1.所用靶材和反應氣體是氧、氮、碳氫化合物等，通常容易獲得高純度制品，有利于制備高純度的化合物薄膜;2.通過調節工藝參數，可以制備化學配比或非化學配比的化合物薄膜，從而可調控膜的特性;3.基板溫度不高，對基板限制少;4.適于大面積均勻鍍膜，實現工業化生產。? ? ? 一般來說，利用濺射進行鍍膜有幾個特點：（1）金屬、合金或絕緣物均可做成薄膜材料。（2）在適當的設定條件下可將多元復雜的靶材制作出同一組成的薄膜。（3）利用放電氣氛中加入氧或其它的活性氣體，可以制作靶材物質與氣體分子的混合物或化合物。

? ? ? 氧化銦錫(ITO)導電膜具有良好的光學透光性能和導電性能，被廣泛應用于觸摸屏領域，它是電阻式與投射電容式觸控面板的基礎材料，其產業鏈下游市場為觸控模組和觸控面板。上游為光學級PET基膜、靶材和涂布液等化學原材料。從觸摸屏技術路線來看，分為掛式和內嵌式兩種。掛式電容屏技術有薄膜式和玻璃式兩種；內嵌式電容屏技術主要為In-cell和On-cell兩種。將ITO玻璃進行加工處理、經過鍍膜形成電極。銀納米線導電膜：銀納米線是一種新興的ITO導電膜潛在替代品。科技日報：ITO靶材屬于35項卡脖子技術之一。UVTM掌握濺射靶材生產的核心技術以后，實施極其嚴格的保密措施，限制技術擴散，目前制備太陽能電池較為常用的濺射靶材包括鋁靶、銅靶、鉬靶、鉻靶以及ITO靶、AZO靶(氧化鋁鋅)等在國內處于****水平。

? ? ? 氧化錫銻(ATO)是一種新型透明導電氧化物材料,其資源豐富、價格便宜、無害純凈,而且具有禁帶寬度大(>3.6eV)、導電性好、可見光透過率高、抗輻射、熱穩定性好等不錯性能,用于大面積磁控濺射鍍膜，如建筑玻璃，汽車玻璃，低輻射玻璃，薄膜太陽能電池、ATOFilm等工業，增加隔熱性能、隔紫外性能、防輻射性能、防靜電性能等。ATO具有廣闊應用前景，而為了實現其產業化應用,可選用工業上應用較廣的濺射鍍膜技術。而高質量的濺射靶材是濺射鍍膜中主要的原材料,利用物理或者化學氣相沉積鍍膜，使工件增加防靜電性能能，防輻射性能等。因此必須制備出高品質的ATO陶瓷靶材,要求其致密度高、導電性好且雜質含量低。但由于Sn02在高溫下(>1100℃)易揮發和產生氣孔缺陷,導致ATO陶瓷靶材難以致密化。

? ? ? 高純濺射靶材的市場規模日益擴大，呈現高速增長的勢頭。高純金屬靶材的業績增長主要取決于三個因素。根據整理的數據顯示，外業務收入502億，占半導體行業總營收1130億元的約44.48%。平板顯示用靶材（含觸摸屏）年市場銷售額38.1億美元，占比34%；占比29%；太陽能電池用靶材市場銷售額23.4億美元，占比21%；11.9億美元，占比10%。但是國內靶材市占率不足2%，整體需求占比在三成左右。伴隨高等制造業產業鏈持續向國內轉移，靶材供應正逐漸從國外切換到國內。眾所周知，業內相關人士指出，結合薄片化技術可進一步降低異質結電池的硅用量，節省成本。在晶圓制造環節，靶材主要用于執著晶圓導電層、阻擋層以及金屬柵極。

廣州市尤特新材料有限公司（以下簡稱“尤特”），成立于2003年，位于羊城廣州的北面-花都,占地總面積約3萬平方米。尤特是一家專注于時尚消費電子產業、節能綠色環保產業、新材料新技術開發和應用的重要高新技術企業。尤特以生產信息存儲記錄材料為起點，經過10多年的開拓與發展，產業技術不斷迭代與升級，尤特的技術及應用涉獵范圍逐步擴大，其中主要包括：真空鍍膜靶材；環保（UV/水性）材料；觸控顯示材料；印刷技術及材料；信息存儲材料、導電散熱材料等。尤特一直倡導“新材料、促環保、美生活”企業使命。尤特遵循科學體系管理，先后通過《質量管理體系》、《環境管理體系》、《職業健康與安全管理體系》認證并有效運行，產品符合全部環境及安全標準；獲得SONY GP綠色合作伙伴全部認證等。尤特重視產品研發及技術創新，先后與"武漢大學"、"華南理工大學"、"中南大學"等高校、研究所建立"產學研"合作機制，并承擔多項省市立項的科研項目，公司目前已擁有幾十項自主研發新興材料及工藝的知識產權，是廣州市扶持科技型要點培育上市企業。尤特先后獲得相關機構的授予多個榮譽：如“國家生產力促進獎、國家有名商標、廣東省守合同重信用企業、廣東省雇主責任示范企業、廣州市安全生產標準化達標企業、廣州市工程技術研發中心、廣州科技小巨人企業、地方納稅企業”等榮譽。尤特全體同仁秉承“創造價值，分享價值“的核心價值觀，借鑒以往成功管理運營經驗，持續深挖磁控濺射鍍膜材料下游應用市場，不斷拓寬市場應用領域，做優做強鍍膜材料產業,將公司打造為--磁控濺射靶材行業者。

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