高純銀靶材,4N銀靶,99.99銀

隨著人臉識別技術的愈發成熟，紅外手機人臉識別開始大量普及，成為當前市場的重要發展趨勢，而硅靶材作為手機玻璃蓋板的關鍵鍍膜材料，硅靶材作為應用于手機玻璃蓋板的重要靶材產品，獲得多家手機玻璃蓋板生產客戶的認可。光學器件應用范圍非常廣泛，主要包括智能手機、車載鏡頭、安防監控設備、數碼相機、光碟機、投影機等，的應用產品包括航空航天監測鏡頭、生物識別設備、生命科學中DNA測序等研究設備、檢查儀器鏡頭、半導體

2024-07-17 面議/公斤

鋅鋁合金靶材 鋅合金靶材 鋁

? ? ? 靶材，特別是高純度濺射靶材應用于電子元器件制造的物理-氣相沉積工藝（PVD）、太陽能電池等表面電子薄膜的關鍵材料。所謂濺射，是制備薄膜材料的主要技術，也是PVD的一種。它通過在PVD設備中用離子對目標物進行轟擊，使得靶材中的金屬原子以一定能量逸出，從而在晶圓表面沉積，濺鍍形成金屬薄膜，其中被轟擊的固體是用濺射法沉積薄膜的原材料。稱為濺射靶材。IGZO，氧化銦錫，氧化鋅鋁，AZO，ITO

2024-07-17 面議/套

廣東氧化鈮靶材,Nb2O5靶材,

? ? ? 電弧鍍膜技術 (Cathodic Arc Coating) 可在大量民生用五金件上鍍上不同的顏色, 做為裝飾用途. 與一般表面處理用的電鍍, 烤漆等相比, 有高硬度, 高亮度, 抗蝕舒緩反應, 不脫落, 不掉色等不錯特色. 目前巿面上常見的衛浴五金 (蓮蓬頭, 水****, ..), 建筑五金 (門鎖, 門把, 電梯內板 ..), 汽車五金 (后視鏡, ..), 機殼 (手機, 計算機

2024-07-17 面議/套

高密度AZO靶材 AZO靶材采購

一般會由金膜或銀膜替代。光碟的膜層也是多層組成的，它在染料層上鍍上30nm厚的鐵鈷合金記錄層，里面混有非晶態稀土過渡元素，再鍍上20到100nm厚的氮化硅介質層，后鍍上鋁膜反射層。這些需要落得磁性能，能夠記錄數據的電子產品，要實現這些功能，還是要靠各種不同物質所濺射而成的薄膜，靠其成膜后顯示出來的晶體狀態排序來實現。n量：66什么是磁控濺射鍍膜靶材？磁控濺射鍍膜是一種新型的物相鍍膜方式,就是用電子

2024-07-17 面議/套

氧化鋯摻氧化釔靶材,氧化鋯

氧化鋯靶材，主要應用于觸摸屏，Low-E玻璃膜系，工具鍍膜和裝飾鍍膜；近年，冷噴涂作為一種新型噴涂工藝被用在金屬表面制備高質量的金屬涂層。熱噴涂就是把某種材料經加熱加速噴射到工件的表面上形成涂層，以獲得某種需要性能的材料表面改性與強化技術。早發展的是熱噴涂技術。的要求不斷提高，需要在保證噴涂材料高速噴射、致密沉積、良好結合的同時盡量降低加熱溫度。薄膜材料在半導體集成電路（VLSI）、光碟、平面顯示

2024-07-15 面議/千克

錫管靶,高純錫靶,銦錫合金靶

? ? ? 濺射準備保持真空腔體尤其是濺射系統潔凈是非常重要的。任何由潤滑油和灰塵以及前期鍍膜所形成的殘留物會收集水氣及其他污染物，需要進行高溫帖合的條件下，無氧化銅容易被氧化和發生翹曲,所以會使用金屬鉬為背靶材料或某些靶材如陶瓷甚至某些金屬靶材的熱膨脹系數無法與無氧銅匹配，同樣也需要使用金用。靶材進行預濺射時建議慢慢加大濺射功率，陶瓷類靶材的功率加大速率建議為1.5W小時/平方厘米。金屬類靶材的

2024-07-15 面議/套

鈮鋯合金靶,鈮鋯旋轉靶材,鈮

? ? ? 真空鍍膜機是目前制作真空條件應用較為廣泛的真空設備，一般用真空室、真空機組、電氣控制柜三大部分組成，排氣系統采用“擴散泵 機械泵＋羅茨泵＋低溫冷阱＋polycold;組成。真空主體;真空腔根據加工產品要求的各異，真空腔的大小也不一樣，目前應用較多的有直徑1.3M、0.9M、1.5M、1.8M等，腔體由不銹鋼材料制作，要求不生銹、堅實等，真空腔各部分有連接閥，用來連接各抽氣泵浦。抽氣系統

2024-07-15 面議/套

綁定硅靶材,平面硅靶材,旋轉

靶材主要應用在平板顯示、記錄媒體、光伏電池、半導體等領域。貴重金屬的深加工技術朝高純化、精細化、的方向發展。由于鉭的表面能形成致密穩定、介電強度高的無定形氧化膜，易于準確方便地控制電容器的陽極氧化工藝，面積，高低溫特性好、使用壽命長、綜合性能優、其他電容器難以與之媲美，國外對高純金屬材料的開發研究較早，英國和俄羅斯等國家意志以來都十分重視高純金屬材料的研制、生產和應用。其生產的高純金屬材料品種齊全

2024-07-15 面議/套

旋轉鈦鋁靶材,鈦鋁合金靶,鈦

旋轉鈦鋁管 Rotatable TiAl Alloy Target，應用：用于制作陶瓷鈦鋁合金膜，主要用于裝飾鍍和工具鍍,半導體電子。? ? 鈦及鈦合金具有不錯的物理、化學和機械性能，在各領域有廣泛應用。通過制備鈦涂層可顯著提高零部件表面耐腐蝕性。采用超音速等離子噴涂技術（SAPS）制備了鈦涂層，結果表明：制備的鈦涂層均勻致密，孔隙率平均為 1.7%，沉積效率平均為 52%，涂層中主要為 Ti相，

2024-07-15 面議/套