硅鋁鋯靶材,硅鋁靶材,高純硅

? ? ? 鉬靶材主要用于平面顯示行業(yè)，屬于鉬金屬制品生產鏈頂端產品，技術含量高、生產難度大。UVTM自主研發(fā)、生產出具有完全知識產權的4.5代、5.0代、5.5代靶材，產品規(guī)格一次一次刷新紀錄。靶中毒的影響因素，靶中毒現象（1）正離子堆積：靶中毒時，靶面形成一層絕緣膜，正離子到達陰極靶面時由于絕緣層的阻擋，不能直接進入陰極靶面，而是堆積在靶面上，容易產生冷場致弧光放電---打弧，使陰極濺射無法進

2024-07-31 面議/套

鋯靶材用途,鋯靶材鍍色,鋯靶

? ? ? 鍍膜靶材是用物理或化學的方法在靶材表面鍍層透明的電解質膜，或鍍一層金屬膜，目的是改變靶材表面的反射和透射特性。而鍍膜的方法有真空鍍膜和光學鍍膜，真空鍍膜和光學鍍膜的區(qū)別是什么。在19世紀末，ITO薄膜的研究工作開始真實地發(fā)展了起來，當時是在光電導的材料上獲得很薄的金屬薄膜。而關于透明導電材料的研究進入一個新的時期，則是在第二次世界大戰(zhàn)期間，主要應用于飛機的除冰窗戶玻璃。而在1950年，

2024-07-31 面議/套

綁定石墨靶材,C靶材,碳靶材,

? ? ? 隨著石墨加工技術的提高，石墨靶材興起，石墨靶材也會被應用在更加廣闊的領域中,在市場中，優(yōu)質石墨靶材主要來源日本、德國、美國，不僅是在靶材行業(yè)，在石墨行業(yè)我們這些國家的差距還是很大的。在靶材行業(yè)中，我們常見到的有金屬靶材、陶瓷靶材、合金靶材、這些在靶材在微電子、顯示器、儲存等行業(yè)有著廣泛的應用。石墨靶材自身具有耐高溫、自潤滑、耐腐蝕、導電性良好等特點，用石墨做靶材，根據行業(yè)的不同選用不同

2024-07-31 面議/套

鈮靶,旋轉鈮靶,專業(yè)生產鈮靶

? ? UVTM專業(yè)鈮靶生產商,為您提供高品質的濺射靶材,電磁屏蔽膜,鍍膜玻璃工業(yè)用鈮靶,薄膜太陽能用高純銅靶,無氧銅靶材,純度5N根據客戶圖紙加工長率達到18%。受機械硬盤出貨容量增長的帶動，記錄媒體靶材需求穩(wěn)定增長。薄膜太陽能電池效率存在提升空間，靶材需求。硅電池的效率已經接近其理論值，而薄膜太陽能電池的效率在逐年提高。據預測，年會呈現逐年遞增的趨勢，并于2023年打破395億美元大關。平板顯

2024-07-30 面議/套

高密度AZO靶材 AZO靶材采購

中國芯片究竟在哪個環(huán)節(jié)被美國“卡”了脖子？數據表明，2019年，我國芯片自給率僅為30%左右。根據有關部門的發(fā)展規(guī)劃，2025年，芯片自給率提升到70%，這差不多是當下美國等芯片大國的平均水平。作為一個龐大且復雜的行業(yè)，芯片行業(yè)擁有一條超長的產業(yè)鏈。其整體可分為設計、制造、封裝、四大環(huán)節(jié)。除了在設計領域，華為海思擁有一定的打破能力，其他三個環(huán)節(jié)，尤其是在制造環(huán)節(jié)，國內廠商的能力仍有較大的提升空間。

2024-07-30 面議/套

99.99%高純銦靶,旋轉銦靶,銦

? ? ? ITO導電膜屬于掛式電容屏技術。以新型顯示應用相關的人工智能(AI)、現實(VR)、增強現實(AR)、物聯網、大數據等新興產業(yè)為，用的重要發(fā)力點。用準確儀器設備在半導體芯片各個功能層上鍍覆一層薄薄的透明金屬導電膜，這層膜的厚度因功能需求而有不同，200納米之間。不足頭發(fā)絲直徑五百分之一，以實現半導體金屬的物理化學性能，稱為薄膜。中國的車載芯片依稀可以窺見鎢材料，更具體地說，是高純鎢濺射

2024-07-30 面議/套

氧化鋁靶材,射頻靶材,氧化鋁

? ? UVTM是國家高新技術企業(yè)，公司成立于二00三年，專業(yè)從事信息、鍍膜、太陽能材料的科研與生產。公司從德國、日本、引進先進的生產、檢測設備和專業(yè)人才，是集科研、生產、銷售、服務于一體的中外合資企業(yè)。UVTM廣州工廠建成于2006年，位于花都區(qū)華僑科技工業(yè)園，占地面積近3萬平方米，建筑面積239平方米,地理近臨廣州國際白云機場，交地便利。磁控濺射技術是70年展起來的一種新型濺射技術，目前已在科

2024-07-30 面議/套

旋轉氧化鈦靶,氧化鈦旋轉靶

? ? ? 高純?yōu)R射靶材是伴隨著半導體工業(yè)的發(fā)展而興起的，濺射靶材市場不僅僅在于電子行業(yè)，近年來砍濺射靶材的市場規(guī)模正在悄然發(fā)展，靶材的難點僅僅看純度么？靶材性能影響鍍膜質量，不同應用性能要求各有側重，通常半導體靶材純度高，平面顯示靶材面積大對均勻性、焊接率要求高，而多元素靶材對原料成分和籌備均勻性提出更高要求。靶材原料高純金屬和陶瓷粉位于靶材產業(yè)鏈的高附加值環(huán)節(jié)，主要依靠日美***，而國內少數金

2024-07-30 面議/套

供應鉻靶材,噴涂鉻靶材,高純

? ? ? 真空鍍膜機是目前制作真空條件應用較為廣泛的真空設備，一般用真空室、真空機組、電氣控制柜三大部分組成，排氣系統(tǒng)采用“擴散泵 機械泵＋羅茨泵＋低溫冷阱＋polycold;組成。真空主體;真空腔根據加工產品要求的各異，真空腔的大小也不一樣，目前應用較多的有直徑1.3M、0.9M、1.5M、1.8M等，腔體由不銹鋼材料制作，要求不生銹、堅實等，真空腔各部分有連接閥，用來連接各抽氣泵浦。抽氣系統(tǒng)

2024-07-30 面議/套