科研實驗專用氧化鋅陶瓷靶材純度高達99.99%,該氧化物通常呈綠色,其熔點1975℃,密度 5.606g/cm?,沸點2360℃。 ?氧化鋅的能帶隙和激子束縛能較大,透明度高,有優異的常溫發光性能,在半導體領域的液晶顯示器、薄膜晶體管、發光二極管等產品中均有應用。
2024-06-21 面議/片氧化鋁靶材 三氧化二鋁靶材 純度:99.99% 分子式:Al2O3 分子量:101.96 CAS號:1344-28-1 密度:4 熔點:2045℃ 折射率:1.6-1.65 透明波段:0.17-9um
2024-06-20 面議/片五氧化二鈮顆粒(Nb2O5 Pellet) 元素 : Nb?O? ???? 純度 : 99.99% ???? 形狀 : 顆粒 ???? 規格 : 100g ???? 1Kg ???? 包裝 : 真空包裝、紙箱、木箱 ??
2024-06-20 面議/片氧化鈧靶材?Sc2O3 純度:99.99% 化學式:Sc2O3 分子量:137.91 CAS號:12060-08-1 熔點:2485℃ 密度:3.86 顏色:白色 氧化鈧可用作半導體鍍層的 蒸鍍材料,制造可變波長的固體激光器和電視電子槍。金屬鹵化物燈等。
2024-06-20 面議/片?三氧化鎢(WO?)陶瓷靶材 純度99.99% 三氧化鎢陶瓷靶材是一種分子式為 WO?的氧化物濺射材料,采用磁控濺射,通過多弧離子鍍或其他類型的鍍膜系統,在適當的工藝條件下通過濺射在基體上形成WO?功能膜。WO3薄膜是一種重要的功能材料,具有優良的電致變色性能,應用廣泛。如需更多詳情,歡迎電話咨詢獲得更多優惠! 三氧化鎢陶瓷靶材制備工藝 球磨-壓制-燒結。 三氧化鎢陶瓷靶材應用 廣泛應用于涂料加
2024-06-20 面議/片靶材的制備過程 1. 粉末合成 ·???????? 原料選擇:選用高純度的原料是確保靶材質量的首要步驟。純度不僅影響靶材的結構完整性,還直接關系到最終薄膜的性能。 ·???????? 粉體處理:粉末的粒度和形態對后續燒結和性能有重要影響。通過球磨等方法,可以獲得均勻且具有適宜粒徑的粉末。 2. 燒結工藝 ·???????? 溫度控制:燒結溫度的精確控制對于獲得密實且均勻的靶材是關鍵。過高或過低的溫
2024-06-20 面議/片氧化物靶材的種類 透明導電氧化物(TCO):例如氧化錫(SnO2)和氧化銦錫(ITO),主要用于觸摸屏和平板顯示器。這類材料具有高透光率和良好的導電性。 高介電常數氧化物:如氧化鉿(HfO2),在半導體行業中用作柵介質,因其高介電常數和良好的熱穩定性而受到重視。 鐵電和磁性氧化物:例如氧化鐵(Fe2O3)和鈣鈦礦結構的氧化物,如鈦酸鉛(PbTiO3),這些材料在存儲介質和傳感器中有廣泛應用。
2024-06-20 面議/片氧化镥(Lu2O3)靶材 99.99% 氧化镥(Lu2O3)一般為白色粉末,不溶于水,溶于無機酸。用于釹鐵硼永磁材料、化工添加劑、電子工業、及科學研究等。
2024-06-20 面議/片