金屬單質(zhì)靶材: 產(chǎn)品名稱 化學(xué)符號 純度(%) 熔點(diǎn)(℃) 密度(g/cm?) 高純銀靶材 Ag 4N 961 10.49 高純鋁靶材 Al 5N 660 2.7 高純金靶材 Au 4N 1062 19.32 高純硼靶材 B 3N 2300 2.31 高純鉍靶材 Bi 4N 271.4 9.79 高純碳靶材 C 5N 3652 2.28 高純鎘靶材 Cd 4N 3
2017-06-10 面議/件北京眾誠新材科技專業(yè)從事高純金屬材料生產(chǎn)加工,采用區(qū)域熔煉法,真空熔煉法,熱等靜壓燒結(jié),電解精煉法提純等工藝,高純金屬純度達(dá)到99.9%-99.999%,產(chǎn)品純度高,質(zhì)量穩(wěn)定。 高純單質(zhì)金屬濺射靶材(3N-5N):鋁靶Al、鉻靶Cr、銅靶Cu、鎳靶Ni、鋯靶Zr、鉻靶Cr、鈦靶Ti、鋁靶Al、錫靶Sn、釩靶V、銻靶Sb、銦靶、硼靶B、鎢靶W、錳靶Mn、鉍靶Bi、石墨靶C、硅靶Si、鉭靶Ta、鋅靶Z
2017-06-10 面議/件蒸發(fā)源材料: 蒸發(fā)舟/坩堝 型號 厚度(mm) 總長(mm) 寬度(mm) 槽長(mm) 槽深(mm) 鎢/鉬舟 M218 0.2 100 8 60 1.5-2.0 鎢/鉬舟 M220 0.2 102 15 40 5 鎢/鉬舟 M251 0.2 50 10 25 1.5-2.0 鎢/鉬舟 M310 0.3 100 10 60 1.5-2.0 鎢/鉬舟
2017-05-21 面議/件北京眾誠新材科技專業(yè)從事高純金屬材料生產(chǎn)加工,采用區(qū)域熔煉法,真空熔煉法,熱等靜壓燒結(jié),電解精煉法提純等工藝,高純金屬純度達(dá)到99.9%-99.999%,產(chǎn)品純度高,質(zhì)量穩(wěn)定。 高純單質(zhì)金屬濺射靶材(3N-5N):鋁靶Al、鉻靶Cr、銅靶Cu、鎳靶Ni、鋯靶Zr、鉻靶Cr、鈦靶Ti、鋁靶Al、錫靶Sn、釩靶V、銻靶Sb、銦靶、硼靶B、鎢靶W、錳靶Mn、鉍靶Bi、石墨靶C、硅靶Si、鉭靶Ta、鋅靶Z
2017-05-21 面議/件北京眾誠新材科技專業(yè)從事高純金屬材料生產(chǎn)加工,采用區(qū)域熔煉法,真空熔煉法,熱等靜壓燒結(jié),電解精煉法提純等工藝,高純金屬純度達(dá)到99.9%-99.999%,產(chǎn)品品質(zhì)高,使用效果穩(wěn)定。 高純單質(zhì)金屬濺射靶材(3N-5N):鋁靶Al、鉻靶Cr、銅靶Cu、鎳靶Ni、鋯靶Zr、鉻靶Cr、鈦靶Ti、鋁靶Al、錫靶Sn、釩靶V、銻靶Sb、銦靶、硼靶B、鎢靶W、錳靶Mn、鉍靶Bi、石墨靶C、硅靶Si、鉭靶Ta、鋅
2017-05-21 面議/件北京眾誠新材科技專業(yè)從事高純金屬材料生產(chǎn)加工,采用區(qū)域熔煉法,真空熔煉法,熱等靜壓燒結(jié),電解精煉法提純等工藝,高純金屬純度達(dá)到99.9%-99.999%,產(chǎn)品品質(zhì)高,使用效果穩(wěn)定。 高純單質(zhì)金屬濺射靶材(3N-5N):鋁靶Al、鉻靶Cr、銅靶Cu、鎳靶Ni、鋯靶Zr、鉻靶Cr、鈦靶Ti、鋁靶Al、錫靶Sn、釩靶V、銻靶Sb、銦靶、硼靶B、鎢靶W、錳靶Mn、鉍靶Bi、石墨靶C、硅靶Si、鉭靶Ta、鋅
2017-05-20 面議/千克北京眾誠新材科技專業(yè)從事高純金屬材料生產(chǎn)加工,采用區(qū)域熔煉法,真空熔煉法,熱等靜壓燒結(jié),電解精煉法提純等工藝,高純金屬純度達(dá)到99.9%-99.999%,產(chǎn)品純度高,質(zhì)量穩(wěn)定。 高純單質(zhì)金屬濺射靶材(3N-5N):鋁靶Al、鉻靶Cr、銅靶Cu、鎳靶Ni、鋯靶Zr、鉻靶Cr、鈦靶Ti、鋁靶Al、錫靶Sn、釩靶V、銻靶Sb、銦靶、硼靶B、鎢靶W、錳靶Mn、鉍靶Bi、石墨靶C、硅靶Si、鉭靶Ta、鋅靶Z
2017-05-20 面議/千克熔煉合金金屬: 產(chǎn)品名稱 化學(xué)符號 純度(%) 熔點(diǎn)(℃) 密度(g/cm?) 規(guī)格形態(tài)(顆粒、塊材、絲材) 高純鋁 Al 4N6;5N 660 2.7 φ3*3mm;φ6*6mm;φ1.0mm 高純硼 B 3N 2300 2.31 ≠1-10mm 高純鉍 Bi 4N 271.4 9.79 ≠1-6mm 高純鎘 Cd 4N 321.1 8.65 ≠1-10mm 高純鈷 C
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