TE-98氧化鈰拋光粉 ?? ??? ? 概 要 TE-98? 拋光粉是以稀土元素氧化鈰爲主要成份、經日本技術生産而成。 TE-98氧化鈰拋光粉主要用於光學產品研磨、磨耗度450以下軟材質精拋。 TE-98氧化鈰拋光粉的原料爲碳酸稀土,和用氟碳鈰精礦做的拋光粉比較,具有氧化鈰濃度高、切削力大、耐久性長等特點。 ? 用 途 精 度要求高的光學研磨、拋光,適用于光學元件等; ?同時適用于表面要求高、
2023-03-14 面議/公斤201氧化鈰拋光粉 ?? ? ? 概 要 201? 拋光粉是以稀土元素氧化鈰爲主要成份、經日本技術生産而成。201氧化鈰拋光粉主要用於各類玻璃材質,磨耗度100以上600以下各類光學產品冷加工 201? 氧化鈰拋光粉的原料爲碳酸鑭鈰稀土,精選原材,具有氧化鈰濃度高、切削力均衡、懸浮性好、耐久性長、研磨精度高等特點。 ? 用 途 用于光學冷加工,光學鏡頭鏡片,棱鏡等 特 徵 切削力均衡、懸浮好、不發
2023-03-14 面議/公斤ZL300氧化鈰拋光粉 ?? ? ? 概 要 ZL300? 拋光粉是以稀土元素氧化鈰爲主要成份、經日本技術生産而成。ZL300氧化鈰拋光粉主要用於各類玻璃保護片,掃光速度快 ZL300? 氧化鈰拋光粉的原料爲碳酸鑭鈰稀土,精選原材,具有氧化鈰濃度高、切削力均衡、懸浮性好、耐久性長、掃光精度高等特點。 ? 用 途 用于手機保護片的掃光 特 徵 切削力均衡、不沉淀、不板結,懸浮好、不發生劃傷。 ? 産
2023-03-14 面議/公斤ZL-800氧化鈰拋光粉 ?? ? ? 概 要 ZL800? 拋光粉是以稀土元素氧化鈰爲主要成份、經日本技術生産而成。ZL800氧化鈰拋光粉主要用於微晶玻璃蓋板的研磨,良率90%以上,如華為P50陶瓷蓋板 ZL800? 氧化鈰拋光粉的原料爲碳酸鑭鈰稀土,精選原材,具有氧化鈰濃度高、切削力均衡、懸浮性好、耐久性長、掃光精度高。 ? 用 途 微晶玻璃蓋板拋光 特 徵 切削力大,劃傷少,不沉淀不板結,磨
2023-03-14 面議/公斤ZL-600氧化鈰拋光粉 ?? ? ? 概 要 ZL600? 拋光粉是以稀土元素氧化鈰爲主要成份、經日本技術生産而成。ZL600氧化鈰拋光粉主要用於各類玻璃材質3D、2.5D等大小蓋板掃光、平磨;良率90以上 ZL600氧化鈰拋光粉的原料爲碳酸鑭鈰稀土,精選原材,具有氧化鈰濃度高、切削力均衡、懸浮性好、耐久性長、掃光精度高等特點。 ? 用 途 要求較高蓋板掃光、平磨等平面玻璃表面處理 特 徵 切削
2023-03-14 面議/公斤