供應CW16B平面準確環拋機

本機床主要用于高精度光學玻璃、石英、晶體、金屬和非金屬高精度平面元件的精磨拋光.機床采用了大功率蝸輪減速器，大型推力球軸承。花崗巖工作臺面在不同的環境、不同的溫度下變形量極小。機床采用不銹鋼的臺面, 清潔美觀的水槽, 清洗方便，變頻調速、出力扭距大。 在工件旋轉系統中增加了主動輪旋轉機構, 對于加工大型零件起到了很好的自轉功能，充分地滿足于高精度光學加工工藝的要求。 主要技

2011-09-21 0

供應CW16A平面準確環拋機

主要用于光學玻璃、石英、晶體、電子元件，金屬和非金屬高精度平面元件的精磨拋光。本機床采用花崗巖平臺，大環型軸承，在重載荷低頻率下可長期運行，運行平穩、低噪音、節省能源、加工平面零件精度可達λ/20以上。 主要技術參數： 1、 花崗石直徑 1600mm　 ? 2、 水盆直徑 Φ1800 mm

2011-09-21 0

供應CW12B

本機床主要用于高精度光學玻璃、石英、晶體、金屬和非金屬高精度平面元件的精磨拋光.機床采用了大功率蝸輪減速器，大型推力球軸承。花崗巖工作臺面在不同的環境、不同的溫度下變形量極小。機床采用不銹鋼的臺面, 清潔美觀的水槽, 清洗方便，變頻調速、出力扭距大。 在工件旋轉系統中增加了主動輪旋轉機構, 對于加工大型零件起到了很好的自轉功能，充分地滿足于高精度光學加工工藝的要求。 主要技術參

2011-09-21 0

供應CW12A平面精拋機

CW12A平面精密環拋機，主要用于光學玻璃、石英、晶體、電子元件、金屬和非金屬高精度平面元件的精磨拋光。本機床采用花崗巖平臺，環型軸承，在重載荷低頻率下可長期運行，運行平穩、低噪音、節省能源、加工平面零件精度可達λ/20以上。 主要技術參數： 1、 磨盤直徑 1200 mm 　 2、 水盆直徑 Φ1400 mm

2011-09-21 0

供應CW10A

本機床屬高精度光學、電子、活塞環、機械零件等平面元件的研磨拋光設備。 本機采用二種磨盤形式: 一種為花崗巖磨盤, 在不同環境溫度變化下變形量極小, 適用于拋光。另一種為鑄鐵磨盤, 適用于粗磨、精磨。 本機工件卡鉗采用前后、左右、升降可調式, 極大地方便不同客戶對加工工藝的需求。 機床可按客戶需求加裝蠕動泵系統, 自動滴注液體, 降低勞動強度, 實現多機操作。 主要技

2011-09-21 0

供應CW10C氣壓弧擺環拋機

本設備適合高中低精度光學、電子、活塞環、機械零件等平面元件的單面研磨拋光。采用大功率蝸輪減速箱，大型精密回轉軸承, 變頻調速功能出力扭距大。調速范圍寬，運動平穩，無震動低噪音。主軸、擺架獨立變頻調速系統，各工位擺幅、壓力可分別調整。不銹鋼臺面、水槽清潔美觀、清洗方便。該設備采用平面擺動原理，對零件進行研磨和拋光。工件置于磨盤和頂針之間，靠摩擦力帶動工件轉動。同時裝配在擺架上的頂針帶動工件作弧線往復

2011-09-21 0

供應CW10A平面準確環拋機

本機床屬高精度光學、電子、活塞環、機械零件等平面元件的研磨拋光設備。 本機采用二種磨盤形式: 一種為花崗巖磨盤, 在不同環境溫度變化下變形量極小, 適用于拋光。另一種為鑄鐵磨盤, 適用于粗磨、精磨。 本機工件卡鉗采用前后、左右、升降可調式, 極大地方便不同客戶對加工工藝的需求。 機床可按客戶需求加裝蠕動泵系統, 自動滴注液體, 降低勞動強度, 實現多機操作。 主要技

2011-09-21 0

供應CW08C平面準確環拋機

本機床屬高精度光學、電子、活塞環、機械零件等平面元件的研磨拋光設備。CW08A平面精磨環拋機采用花崗巖磨盤，CW08B平面精密環拋機在CW08A的基礎上增加了主動輪旋轉機構, 對于加工零件起到了很好的自轉功能，根據用戶需要可以安裝蠕動泵和攪伴泵，CW08C平面精密環拋機采用鑄鐵磨盤，安裝了加砂循環系統，適用于精磨。 CW08C平面精密環拋機主要技術參數

2011-09-21 0

供應CW08B平面準確環拋機

本機床屬高精度光學、電子、活塞環、機械零件等平面元件的研磨拋光設備。CW08A平面精磨環拋機采用花崗巖磨盤，CW08B平面精密環拋機在CW08A的基礎上增加了主動輪旋轉機構, 對于加工零件起到了很好的自轉功能，根據用戶需要可以安裝蠕動泵和攪伴泵，CW08C平面精密環拋機采用鑄鐵磨盤，安裝了加砂循環系統，適用于精磨。 CW08B平面精密環拋機主要技術參數 1

2011-09-21 0