大塚電子薄膜測厚儀使用顯微光譜法在微小區域內通過反射率進行測量，可進行高精度膜厚度/光學常數分析。

可通過非破壞性和非接觸方式測量涂膜的厚度，例如各種膜、晶片、光學材料和多層膜。 測量時間上，能達到1秒/點的高速測量，并且搭載了即使是初次使用的用戶，也可容易出分析光學常數的軟件

采用電渦流原理的測厚儀，原則上對所有導電體上的非導電體覆層均可測量，如航天航空器表面、車輛、家電、鋁合金門窗及其它鋁制品表面的漆，塑料涂層及陽較氧化膜。覆層材料有一定的導電性，通過校準同樣也可測量，但要求兩者的導電率之比至少相差3-5倍（如銅上鍍鉻）。雖然鋼鐵基體亦為導電體，但這類任務還是采用磁性原理測量較為合適。

特點

頭部集成了薄膜厚度測量所需功能

通過顯微光譜法測量高精度反射率（多層膜厚度，光學常數）

1點1秒高速測量

顯微分光下廣范圍的光學系統（紫外至近紅外）

區域傳感器的安全機制

易于分析向導，初學者也能夠進行光學常數分析

單獨測量頭對應各種inline客制化需求

支持各種自定義

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