準確研磨拋光機

主要用于光學玻璃、石英、晶體、電子元件等零件平面、球面的精密拋光。本機床是一種高精度、的光學冷加工設備，平擺運動。主軸、擺軸，轉速、壓力、時間可根據加工零件的需要單獨調整，操作方便加工零件質量穩定。主要技術參數Main technical specification 加工鏡盤直徑Processing scopeΦ≤250mm主軸間距Space of main axle520mm水盆直徑Tank d

2019-03-01 面議/臺

平面準確研磨機

用于光學玻璃、石英、晶體、金屬和非金屬平面零件的精密研磨。? ? 本機采用三個加工工位。可選配三個修正環和一個修正盤, 修正盤用來修正工作臺面的平面度。主要技術參數Main? technical? ? specificationLM062ALM08ALM062ALM08A磨盤直徑Millstone dia.Φ620mmΦ800mm加工范圍Processing scope≤Φ220mmΦ≤280mm

2019-03-01 面議/臺

平面準確環拋機

主要高精度光學、電子、活塞環、機械零件等平面元件的單面精密拋光，主動輪旋轉機構, 對于加工零件起到了很好的自轉功能，?充分地滿足高精度光學加工工藝的要求。主要技術參數：1、?磨盤直徑Φ800mm2、磨盤轉速1～10轉/分（根據用戶定）3、盤面跳動≤0.05mm4、加工范圍Φ≤260mm5、水盆直徑Φ1000mm6、總功率2.3Kw7、外形尺寸1300×1300×1400(mm)8、重 ?量約920

2019-02-28 面議/臺

四軸氣壓平擺環拋機

用于高精度光學玻璃、石英晶片、陶瓷、硅片、藍寶石等平面元件的精密拋光設備，適合批量零件聚氨酯拋光。4個加工工位單獨平幅、加壓，擺幅、壓力可根據加工零件需求單獨調整。主要技術參數花崗巖磨盤Φ1200 mm水盆直徑Φ1380 mm盤面跳動單點跳動≤0.08 mm≤0.02 mm?PLC操作界面AH102L(10”)磨盤轉速0～20 r/min加工范圍≤Φ280擺幅距離±50m擺幅擺次0-200 r/m

2019-02-28 面議/臺

供應兩軸平面準確環拋機

主要用于高精度光學玻璃、石英、晶體、金屬和非金屬高精度平面元件的精磨拋光。 主要技術參數 1、磨盤直徑 Φ500mm 　 2、 磨盤轉速 0～100轉/分 （根據用戶定） 3、加工平面精度 λ/20 以上 4、加工范圍 Φ≤180mm 5、總功率 3.3Kw 6、輸入電壓 380V/50Hz 7、外形尺寸 2000×1000×1100(mm)

2011-05-28 0

供應平 面 精&nbs

CW16A平面精密環拋機，主要用于光學玻璃、石英、晶體、電子元件，金屬和非金屬高精度平面元件的精磨拋光。本機床采用花崗巖平臺，大環型軸承，在重載荷低頻率下可長期運行，運行平穩、低噪音、節省能源、加工平面零件精度可達λ/20以上。 主要技術參數： 1、?花崗石直徑 1600mm　 ? 2、?水盆直徑

2011-05-28 0

供應平面準確環拋機

本機床屬高精度光學、電子、活塞環、機械零件等平面元件的研磨拋光設備。機床采用大功率蝸輪減速箱，大型精密回轉軸承, 變頻調速功能出力扭距大。 本機采用二種磨盤形式: 一種為花崗巖磨盤,在不同環境溫度變化下變形量極小, 適用于拋光。另一種為鑄鐵磨盤, 適用于研磨。 主要技術參數 1、磨盤直徑 Φ800mm 2、磨盤轉速 0～50轉/分 （根據用戶定） 3、加工平面精度

2011-05-28 0

供應平面準確環拋機

CW12B平面精密環拋機，主要用于光學玻璃、石英、晶體、電子元件、金屬和非金屬高精度平面元件的精磨拋光。本機床采用花崗巖平臺，環型軸承，在重載荷低頻率下可長期運行，運行平穩、低噪音、節省能源、加工平面零件精度可達λ/20以上。 主要技術參數： 1、 磨盤直徑 1200 mm 　 2、 水盆直徑 Φ1400 mm 3、 加工平面精度 λ/20以上 4、 加工范圍

2011-05-28 0

供應平面準確環拋機

CW12A平面精密環拋機，主要用于光學玻璃、石英、晶體、電子元件、金屬和非金屬高精度平面元件的精磨拋光。本機床采用花崗巖平臺，環型軸承，在重載荷低頻率下可長期運行，運行平穩、低噪音、節省能源、加工平面零件精度可達λ/20以上。 主要技術參數： 1、 磨盤直徑 1200 mm 　 2、 水盆直徑 Φ1400 mm 3、 加工平面精度 λ/20以上 4、 加工范圍

2011-05-28 0