天源公司自主研發(fā)的真空濺射靶材、光學鍍膜材料廣泛應用于裝飾鍍膜、工具鍍膜、光學鍍膜及鍍膜玻璃工業(yè)與平板顯視行業(yè)。生產的濺射靶材成分設計合理、表面平整光滑，具有良好的導電性，濺射時工作電流穩(wěn)定，高阻靶材的底板焊接牢固適用，采用該靶材制作的電阻器，具有阻值集中、穩(wěn)定性好，有良好的耐熱、耐磨和抗氧化性能，電阻溫度系數(shù)小等特點。其靶材的制備都是根據(jù)其材料特性來加工的：分熱壓燒結工藝法和真空熔鑄工藝法，產品均具有純度高，微觀組織及利用率高等特點，靶型有：平面矩形，管形，圓盤形，環(huán)形，片狀，粉狀等，規(guī)格和成分還可以根據(jù)用戶的具體要求來定做。

深圳市天源表面技術開發(fā)有限公司（簡稱天源）是一家表面技術與鍍膜材料研發(fā)企業(yè):天源以表面工程、鍍膜材料和新能源開發(fā)為其研究領域，產品廣泛服務于各個高校及高新技術領域的企業(yè)，公司通過多年來基礎和應用研究以及新產品開發(fā)，已形成了自己單獨知識產權的技術和系列產品，同時公司還擁有一支高素質的研發(fā)、生產、管理和銷售隊伍，與國內外多所院校、研究所、企業(yè)有合作關系。公司現(xiàn)主要從事表面處理、真空鍍膜材料及高技術產品研發(fā)，公司主要經(jīng)營范圍有：高純真空鍍膜材料、高純金屬、合金與稀土氧化物試劑、效率高焊接材料、無機非金屬材料以及提供真空離子鍍膜與塑膠制品表面處理加工服務。天源公司堅持以：“可靠的質量，完善的售后服務，崇高的信譽”為宗旨，憑著過硬的產品，合理的價格以及多年的創(chuàng)業(yè)歷程，公司現(xiàn)已發(fā)展成為具有一定規(guī)模的有經(jīng)驗性真空鍍膜材料、稀土材料、金屬氧化物、化工原料供應商，并且在湖南、深圳等地設有加工工廠，加工檢驗設備齊全，其中有：冶煉、熱壓、燒結、鍍膜等設備，公司秉乘著：“誠信為本、信譽至上”經(jīng)營理念，真誠希望成為您長期的合作商，并熱忱歡迎新老客戶的光臨，希望以我們可靠的質量、的服務、和有競爭力的價格與您共同開拓市場，共創(chuàng)輝煌！公司主要經(jīng)營產品：一、真空鍍膜材料1．高純真空濺射靶材（99.9％——99.999％）高純金屬靶材：鋯靶Zr、鉻靶Cr、鈦靶Ti、鋁靶Al、錫靶Sn、釩靶V、銻靶Sb、銦靶、硼靶B、鎢靶W、錳靶Mn、鉍靶Bi、銅靶Cu、石墨靶C、硅靶 Si、鉭靶 Ta、鋅靶Zn、鎂靶Mg、鈮靶Nb、鉬靶Mo、鈷靶Co、鐵靶Fe、鍺靶Ge、鉿靶Hf、鉛靶Pb、鎳靶Ni、銀靶Ag、硒靶Se、鈹靶Be、碲靶Te、不銹鋼靶材S.S等……多元合金靶材： 鈦鋁靶Ti-Al、鈦鋯靶Ti-Zr、鈦硅靶Ti-Si、鈦鎳靶Ti-Ni、鎳鉻靶Ni-Gr、鎳鋁靶Ni-Al、鎳釩靶Ni-V、鎳鐵靶Ni-Fe、鐵鈷靶Fe-Co、鋁硅靶Al-Si、鈦硅靶Ti-Si、鉻硅靶Cr-Si、鋅鋁靶Zn-Al、鈦鋅靶材Ti-Zn、鋁硅銅靶Al-Si-Cu等……陶瓷濺射靶材：ITO靶、單晶硅靶、多晶硅靶、一氧化硅靶SiO、二氧化硅靶SiO2、二氧化鈦靶TiO2、氧化鋯靶ZrO2、二硼化鈦靶TiB2、氧化鎂靶MgO、碳化硼靶BC、氮化硼靶BN、碳化硅靶SiC、三氧化二釔靶Y2O3、五氧化二釩靶V2O5、氧化鋅靶ZnO、硫化鋅靶ZnS、硫化鉬靶MoS、硫化鎢靶WS、氧化鋅鋁靶ZAO、氧化鋁靶Al2O3、鈦酸鍶靶SrTiO3、五氧化二鉭靶Ta2O5、五氧化二鈮靶Nb2O5、氧化鋅鎵靶ZGO、氧化鋅硼靶ZBO、砷化鎵靶GaAs，磷化鎵靶GaP，硒化鋅靶、錳酸鋰靶、鎳鈷酸鋰靶、鉭酸鋰靶，鈮酸鋰靶、等…稀土金屬靶：鑭靶、鈰靶、鐠靶、釹靶、釤靶、銪靶、釓靶、鋱靶、鏑靶、鈥靶、鉺靶、銩靶、鐿靶、镥靶、釔靶等…稀土氧化物靶：氧化鑭靶、氧化鈰靶、氧化鐠靶、氧化釤靶、氧化銪靶、氧化釹靶、氧化釓靶、氧化鋱靶、氧化鏑靶、氧化鈥靶、氧化鉺靶、氧化銩靶、氧化鐿靶、氧化镥靶金屬膜電阻器用Ni-Cr-Si/ Ni-Cr-Mn-Cu濺射靶材：金屬膜電阻器用靶材包括高阻系列（ZYG）、中阻系列（ZYZ）和低阻系列（ZYC）、超低阻系列（ZYCD）。2．高純光學鍍膜材料（99.99％——99.999％）氧化物：一氧化硅、二氧化硅、一氧化鈦、二氧化鈦、三氧化二鈦、五氧化三鈦、二氧化鋯、二氧化鉿、二氧化鈰、二鈦酸鐠、三氧化鎢、五氧化二鉭、五氧化二鈮、三氧化二鈧、三氧化二鋁、三氧化二銦、氧化鐿、氧化鋅、氧化鎂、氧化釓、氧化釤、氧化釹、氧化鈣、氧化鐠、氧化鉍、氧化鉻、氧化鎳、氧化銅、氧化鐵、氧化釩等…氟化物：氟化鎂、氟化鈣、氟化釹、氟化鑭、氟化鐿、氟化釔、氟化鉺、氟化釤、氟化鏑、氟化鈰、氟化鋇、氟化鍶、氟化鉀、氟化鈉等…硫化物：硫化鋅、硫化鉬、硫化鈣、硫化銻、硫化鐵、硫化鈉等…天源公司自主研發(fā)的真空濺射靶材、光學鍍膜材料廣泛應用于裝飾鍍膜、工具鍍膜、光學鍍膜及鍍膜玻璃工業(yè)與平板顯視行業(yè)。生產的濺射靶材成分設計合理、表面平整光滑，具有良好的導電性，濺射時工作電流穩(wěn)定，高阻靶材的底板焊接牢固適用，采用該靶材制作的電阻器，具有阻值集中、穩(wěn)定性好，有良好的耐熱、耐磨和舒緩反應性能，電阻溫度系數(shù)小等特點。其靶材的制備都是根據(jù)其材料特性來加工的：分熱壓燒結工藝法和真空熔鑄工藝法，產品均具有純度高，微觀籌備及利用率高等特點，靶型有：平面矩形，管形，圓盤形，環(huán)形，片狀，粉狀等，規(guī)格和成分還可以根據(jù)用戶的具體要求來定做。