? LCD的應用越來越廣泛,由于LCD顯示基板上有大量的微米級精細線路與控制用晶體管。因此,LCD顯示屏制造過程的清洗是精密清洗,清洗技術要求之高、潔凈度要求之高是業內所公認的,為了提高清洗的能力與技術水平,大家都想盡一切化學與物理的方法來進行,即藥液清洗+超聲波清洗技術進行清洗。主要有下列使用場合: ??制成液晶盒后的清洗:液晶玻璃在制成盒后需要進行灌注液晶,灌注前需要進行抽真空,抽真空過程
2024-03-16 0SKD-1024T單槽式超聲波清洗機 ? 該系列單槽式超聲波清洗機使用清水、堿性或弱酸性水基溶劑作清洗劑。主要適用于電鍍零件前及鍍后的清洗,及鐘表零件、五金機械零件、珠寶首飾、鏡片眼鏡架、玻璃器皿、半導體硅片等的清洗。 ■ 采用全進口不銹鋼結構,耐酸耐堿,堅久耐用 ■ 采用美國進口粘接劑和關鍵粘接工藝,確保換能器在120℃水溫長時間工作,經久耐用! 采用獨特的數字式超聲波發生器,為他激式線路
2024-03-16 面議/臺? 產品描述 ????鋁壓鑄件清洗機采用通過式全自動超聲波清洗系統,主要特征如下:?????使用環保型水基中性清洗劑、市水或純水等。?????機內全自動完成工件輸送、清洗、干燥、防銹工藝。?????為全封閉設計,簡單可靠,維護容易。?????清洗部分為進口不銹鋼結構,耐酸耐堿,外形美觀大方。?????設置有清洗劑循環回收系統,降低生產成本。?????設置液位控制系統,確保機器正常工作。????
2024-03-16 0半導體硅片、晶圓、晶片超聲波清洗機產品描述:1.該型清洗機采用環保水基清洗工藝;2.該設備設計合理,充分考慮了環保和節能的要求;3.采用半封閉式結構,運行部件設計充分考慮防止污染;4.清洗機框架和烘干爐內均采用正壓送風形式, 保持運行時的風始終外溢;同時, 清洗區域與維護區域隔離開,確保潤滑油脂及運動磨損不會對清洗的產品產生二次污染;5.通過以上措施能有效保證工作室長期處于潔凈狀態,從而保證產品的
2024-03-16 面議/臺半導體硅片、晶圓、晶片旋轉刷洗清洗機產品描述:1.該設備為單工位多工能清洗工藝,主要由:旋轉洗劑刷洗、旋轉噴淋漂洗及旋轉甩干三部分組成;整個清洗流程為全自動工作方式;只需人員完成放料出即可;2.該設備設計先進、合理,充分考慮了環保和節能的要求;3.采用全封閉式結構,設備封罩前、上、左右設透明鋼化玻璃;可時時觀察產品清洗情況;4.設備后部設有洗劑副槽和漂洗水副槽,設備底部設有各自供液泵;5、旋轉機構
2024-03-16 面議/臺設備主要組成部分: 該設備主要由:機體、機架、水箱及過濾系統、噴淋系統、吸霧系統、壓縮空氣吹水系統、輸送系統、熱風烘干系統、電器控制系統等組成。 產品描述: 1、該設備采用鏈傳動網帶進行輸送,網帶可根據工件要求進行選擇,采用變頻調速; 2、設備具有噴淋清洗、吸霧、噴淋漂洗、吹干、烘干等功能,可根據工件清洗難易度及質量要求?適當的增加或減少清洗、漂洗工位。使工件得到較佳的清洗效果。 3、工
2024-03-16 0? 玻璃減薄清洗機 設備描述: 一、設計特點: ??采用PLC控制,觸摸屏人機界面,操作簡便; ??設備機架采用不銹鋼型材制作外包PVC板材,整機為組合式,以備日后拆裝,封板為PVC板材,槽體采用PVC\PP(進口)板材料制作法; ??采用龍門機械手轉送,機械手表面經包膠助理,防止酸氣腐蝕; ??設備配有配酸槽和酸水溢流儲存槽;? ??進出管路、鼓泡管、閥門均采用PVC材質; ?
2023-11-30 0? 一、設備概述: 1.1設備特點: 采用較新流行環保水基清洗工藝?.該設計先進、合理,充分考慮了環保和節能的要求;并采用全封閉式結構,運行部件設計充分考慮防止污染;清洗機框架和烘干爐內均采用正壓送風形式,?保持運行時的風流始終外溢;同時,?清洗區域與維護區域隔離開,確保潤滑油脂及運動磨損不會對清洗的產品產生二次污染;通過以上措施能有效保證工作室長期處于潔凈狀態,從而保證產品的潔凈要求;精巧
2023-11-30 0? 一、設備概述: 1.1設備特點: 采用較新流行環保水基清洗工藝?.該設計先進、合理,充分考慮了環保和節能的要求;并采用全封閉式結構,運行部件設計充分考慮防止污染;清洗機框架和烘干爐內均采用正壓送風形式,?保持運行時的風流始終外溢;同時,?清洗區域與維護區域隔離開,確保潤滑油脂及運動磨損不會對清洗的產品產生二次污染;通過以上措施能有效保證工作室長期處于潔凈狀態,從而保證產品的潔凈要求;精巧
2023-11-30 面議/臺