進口鉻粒，鉻靶，鉻粉化學符號：Cr 外 觀：呈灰白色不規則狀粉末 密 度：7.2 熔 點：約1900℃原子量：51.996 沸點約：2482℃波 長/nm：550 折色率：n=2.49（λ=546nm） n=3.21（λ=630nm）消光系數k：3.0 反射率/%：55.6熱導率：91W/(cm.K) 線膨脹系數：6.0×10-6℃-1電阻率：12.9μΩ.cm 莫氏硬度：9蒸發溫度：飽和蒸汽壓1.33Pa時1400℃蒸發源：W(絲、片)、C（坩堝）特 點：高硬度、高熔點和沸點、強抗腐蝕性、有光澤、有延展性。機械性能和化學性質：膜附著力好，應高速率淀積，質硬而脆，耐腐蝕 溶解于20%NaOH+高錳酸鉀，不溶于水。用 途：用于生產金屬陶瓷、產品和耐高溫非鐵基合金部件。 作為裝飾性或功能性鍍層也被廣泛應用于電鍍行業。分析報告：（99.999%）in ppm： 鉻，高純鉻，高純鉻粒，高純鉻粉，高純鉻塊，鉻條，鉻靶，鉻蒸發料，

北京石久高研金屬材料有限公司（簡稱石久高研）公司成立于2005年，是經北京市科學技術委員會確認的高新技術企業。地理位置優越，交通便利。自公司成立以來受到有色金屬研究總院、中國科學院、清華大學等科研院校的大力支持，并保持著長期穩定的合作關系。石久高研致力于鍍膜靶材和蒸發料的研發和生產工作，為電子行業、玻璃工業、數據存儲、裝飾鍍膜、工具鍍膜等行業的鍍膜企業提供高品質的靶材和蒸發料。公司擁有一流的鍍膜材料領域的專業人才，具有雄厚的研發、生產實力。隨著近年來高科技領域內薄膜的興起和蓬勃發展，特別是微電子與光電子產業迅速發展，對鍍膜材料的要求也達到了一個新的高度，公司密切關注國內外鍍膜及鍍膜材料的發展方向，為相關行業提供先進、優質的鍍膜材料。公司是靶材、合金靶材、金屬靶材、陶瓷靶材、氧化物鍍膜材料、低溫超導陶瓷等產品專業生產加工的公司，擁有完整、科學的質量管理體系。展望未來，與時俱進。我們將始終堅持“品質就是生命，信譽就是效益”的經營理念，憑借強大的科研實力和精良的制造設備，以及對客戶高度的責任心，相信明辰必將成為行業的領跑者，與廣大客戶攜手共進，合作雙贏，一起迎接明天的輝煌。公司供應真空濺射靶材：金屬靶材：鈦靶Ti、鋁靶Al、錫靶Sn、鉿靶Hf、鉛靶Pb、鎳靶Ni、銀靶Ag、碳靶C、釩靶V、銦靶In、鎢靶W、銅靶Cu、硅靶Si、鉭靶Ta、鋅靶Zn、鎂靶Mg、鋯靶Zr、鉻靶Cr、不銹鋼靶材S-S、鈮靶Nb、鉬靶Mo、鈷靶Co、鐵靶Fe、鍺靶Ge等……合金靶材：鐵鈷靶FeCo、鈦鎳靶TiNi、鎳鉻靶NiCr、鎳釩靶NiV、鎳鐵靶NiFe等……陶瓷靶材：一氧化硅靶SiO、二氧化硅靶SiO2、二氧化鈦靶TiO2，五氧化二鉭靶Ta2O5，五氧化二鈮靶Nb2O5，氧化鋅靶ZnO、氧化鎂靶MgO，ITO靶，硅靶Si、氟化鎂靶MgF2、氟化鈣靶CaF2純度：《99.9%—99.999%》根據客戶要求加工成各種規格尺寸的靶材。光學鍍膜材料氧化物：一氧化硅SiO、二氧化硅SiO2、一氧化鈦TiO、二氧化鈦TiO2、三氧化二鈦Ti2O3、五氧化三鈦Ti3O5、二氧化鋯ZrO2、二氧化鉿Hf02、三氧化鎢WO3、五氧化二鉭Ta2O5、五氧化二鈮Nb2O5、三氧化二鋁Al2O2、氧化鋅ZnO、氧化鎂MgO、氧化釓Gd2O2、氧化釤Sm2O3、氧化釹Nd2O3、氧化鐠Pr6O11、氧化鉍Bi2O3、氧化鉻Cr2O3、氧化鎳NiO、氧化鐵Fe2O3等…氟化物：氟化鎂MgF2、氟化鈣CaF2等…真空鍍膜材料（鍍制：復合膜，彩色膜,增透膜，透紫外膜，氣敏傳感器膜，高溫介質膜，光學膜，激光裝置濾光片，保護膜，透明導電膜，變色膜，優良的寬帶增透膜，磁性薄膜，可見光區增透膜，紅外增透膜，分光膜，多層膜，高反射膜，電阻膜，熱反射膜，冷光膜膜）高品質真空鍍膜材料（4N-5N）：1.氧化物:一氧化硅靶材，SiO靶材,二氧化硅靶材，SiO2靶材,二氧化鈦靶材，TiO2靶材,二氧化鋯靶材，ZrO2靶材,二氧化鉿靶材，HfO2靶材,一氧化鈦靶材，TiO靶材,五氧化三鈦靶材，Ti3O5靶材，五氧化二鈮靶材，Nb2O5靶材，五氧化二鉭，Ta2O5靶材,等高純氧化物鍍膜材料。2.氟化物：氟化鎂靶材，MgF2顆粒，氟化鈣顆粒等高純氟化物。3.金屬鍍膜材料：高純鋁靶材，Al靶材，高純銅靶材，Cu靶材，高純鈦靶材，Ti靶材，高純硅靶材，Si靶材，高純銀靶材，Ag靶材，高純銦靶材，In靶材，高純鎂靶材，Mg靶材，高純鋅靶材，Zn靶材，高純鍺靶材，Ge靶材，高純鎳靶材，Ni靶材,鎳鉻合金靶材，NiCr靶材，鋅鋁合金靶材等鍍膜材料。

鍍膜專項使用高純鉻粒，鉻粒