磁控濺射中試線基本參數(shù)基片較大尺寸:356mm × 406mm濺射室極限真空:排氣性能:基片加熱:較高溫度400℃,均勻性±5%以內(nèi)濺射陰極:平面陰極3條 500mm(H)×125mm(L)×9mm(T)?旋轉(zhuǎn)陰極2對 500mm(H)×133mm(ID)濺射電源:直流電源(10kW),中頻電源(10kW)磁控濺射中試線用途金屬膜代加工,工藝授權(quán)(各種顏色可調(diào)金屬/非金屬膜;衣服,燈,空調(diào)等顏色可
2017-09-07 面議/平方米關(guān)于本網(wǎng)| 大事記|玻璃展會|熱點搜索|玻璃人才|玻璃名錄|站點地圖|活動推廣|隱私聲明|版權(quán)聲明|玻璃供應(yīng)|聯(lián)系我們|English
中玻網(wǎng) 版權(quán)所有 © 2001-2021 郵箱:Service@glass.com.cn 在線溝通:
本網(wǎng)中文域名:玻璃網(wǎng).中國 本站網(wǎng)絡(luò)實名:中玻網(wǎng)-中國專業(yè)的玻璃行業(yè)信息網(wǎng)站