連續臥式鍍膜機

采用大型平面靶技術，可以在玻璃上面鍍制單質金屬膜、復合膜、電磁屏蔽膜、ITO膜，可以根據需要配置多個真空室，每個真空室根據需要配置不同的靶材，室與室之間采用獨立的真空抽氣系統，可以隨意調節各個真空室的氣體參數，鍍制不同的膜層，可以滿足工業化連續生產的需要。廣泛應用于玻璃、PMMA、電子屏蔽等各種鍍膜領域。技術參數：鍍膜產品較大尺寸：1200*2400等規格，可根據客戶的具體需求設計而設計制造。夾具

2018-02-04 0

全自動電阻蒸發鍍膜機

采用電阻式蒸發原理，把被蒸發物質加熱到一定溫度，在高真空狀態下，蒸汽的原子和分子從蒸發源表面逸出，直接到達被鍍材料表面成膜的方式。具有沉積速度快、沉積溫度低的特點。是各種塑料產品、薄膜產品真空鍍鋁的優選設備，鍍鋁后的塑料產品可以處理成金、銀、紅、紫、藍、灰、黑等各種鮮艷顏色，改變產品的外觀品質，提高產品的檔次，廣泛應用在玩具、工藝品、電子、鐘表、家具、PET、PT薄膜等行業，并有臥式、立式、卷繞式

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鍍膜自動系統

自動系統采用觸摸屏+PLC或PC+PLC進行控制，可以實現真空抽氣系統、電源控制系統、氣體壓力和進氣系統、參數報警系統等的自動化控制，對鍍膜過程中的各參數進行控制。

2018-02-04 0

磁控+多弧離子鍍膜機器

該機型在多弧離子鍍膜機的基礎上配置圓柱靶或平面磁控靶，設備具備離子鍍的高離化率、高沉積速度的特點，同時也具備磁控濺射低溫、穩定的優點，適合鍍各種復合膜層，，可以做到多復合膜層一次性完成，膜層具有很高的結合力、硬度、耐磨系數，特別適合鐘表、五金刀具、工藝品廠家的IPG、IPS、刀具攙雜、復合膜層的制備。 技術參數： 真空箱體：主要規格有800*1000mm、1000*1200mm，并可以根據客戶

2018-02-04 0

電阻蒸發+磁控鍍膜機

產品特點: 該機型是在電阻蒸發鍍膜機的基礎上，配備磁控圓柱和磁控平面靶。設備即可以鍍鋁、硬鉻等金屬膜層，也可以鍍氟化鎂等非金屬膜。配備的磁控靶，可以進行離子濺射鍍鋁、銅、不銹鋼、貴金屬等，可以準確的控制膜厚，是鍍各種塑膠、陶瓷、玻璃、手機配件等材料的優選機器，一機多用是該機型的價值所在。 技術參數: ▲真空室箱體：主要規格有1000*1200mm，1200*1500mm、1800*1950箱

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中頻磁控離子鍍膜機

產品特點: ? 采用頻率為數十千赫茲的中頻電源，配備經過嚴格磁路設計的孿生靶（對靶），可以避免“打火”、“陽極消失”、“靶中毒”等現象，提高了離化率、濺射速率，顯著提高沉積速度，適合做化合物薄膜（如TiO2、TiN、TiC、TiCN、TiAlN等）的沉積。中頻磁控離子鍍膜機在近幾年得到了迅猛的發展，在鐘表、眼鏡、五金等裝飾度領域得到廣泛的應用。? 技術參數:? ▲真空室箱體：主要規格有800

2018-02-04 0

光學鍍膜機

產品特點: ???? 采用電阻蒸發或電子槍蒸發方式，是鍍制多層光學薄膜（如彩色膜、增透膜、反光膜、金屬膜、導電膜等）的主要機器。廣泛應用在相機鏡頭、手機鏡片、光學片等各個領域。 ? 技術參數: ▲真空室箱體：采用SUS304不銹鋼，直徑1200*1300mm，并可根據客戶要求實際定做。 ▲夾具方式 ：球面形狀或平面形狀，具體按照客戶的產品來確定。 ▲蒸發源：采用電子槍和熱電阻蒸發源，可

2018-02-04 0

多弧離子鍍膜機

利用真空狀態下弧光放電原理的離子鍍膜技術，是率先發展起來的真空鍍膜方式，具有沉積速率高、結合牢固、設備運行穩定等優點，我們在傳統多弧的基礎上，對靶結構、磁鐵、冷卻等進行了嚴格的改進和設計，提高了離化率、細化顆粒，膜層和基材結合更加牢固、膜層更加致密，硬度耐磨性顯著提高，厚度可以控制在0.5微米—5微米之間，是普通裝飾鍍和工具鍍膜的優選機型。 根據市場的需求公司研制出輔助陽極、磁過濾、矩形平面靶、

2018-02-04 0

真空設備真空鍍膜機械設備

產品特點: 采用電阻式蒸發原理，把被蒸發物質加熱到一定溫度，在高真空狀態下，蒸汽的原子和分子從蒸發源表面逸出，直接到達被鍍材料表面成膜的方式。具有沉積速度快、溫度低的特點。是各種塑料產品、薄膜產品真空鍍鋁的優選設備，鍍鋁后的塑料產品可以處理成金、銀、紅、紫、藍、灰、黑等各種鮮艷顏色，改變產品的外觀品質，提高產品的檔次，廣泛應用在玩具、工藝品、電子、鐘表、家具、PET、PT薄膜等行業，并有臥式、立式

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