氧化鎳靶材NiO磁控濺射靶材
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1000.00元/
供應(yīng)標(biāo)題:氧化鎳靶材NiO磁控濺射靶材
價(jià)格:電儀
發(fā)布公司:北京晶邁中科材料技術(shù)有限公司
供貨總量:10
聯(lián)系人:
發(fā)貨地點(diǎn):北京 北京 通州區(qū)
發(fā)布時(shí)間:2021年03月23日
有效期至:2021年09月23日
在線詢盤:在線詢盤
產(chǎn)品綜合信息質(zhì)量:未計(jì)算
溫馨提醒:請(qǐng)消費(fèi)者做好對(duì)國(guó)際包裹的防疫措施,商品需要有進(jìn)口物品三證一報(bào)告(供貨者許可證、入境檢疫證明、預(yù)防性消毒證明和新冠病毒核酸檢測(cè)報(bào)告)
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北京晶邁中科材料技術(shù)有限公司創(chuàng)建于2016年,是國(guó)內(nèi)有色金屬行業(yè)綜合性研究開發(fā)公司。 現(xiàn)有員工100余人。我公司光學(xué)鍍膜材料中心以國(guó)內(nèi)的技術(shù),多年來一直有經(jīng)驗(yàn)從事光學(xué)鍍膜材料及濺射靶材的研發(fā)與生產(chǎn)。靶材包括各種氧化物、硫化物、氟化物、碲化物、硒化物、硼化物、復(fù)合物、金屬及合金等,也可根據(jù)您的要求量身定做。通過嚴(yán)格控制生產(chǎn)、并持續(xù)改進(jìn)、穩(wěn)步發(fā)展,致力為客戶提供的產(chǎn)品。
公司現(xiàn)有靶材熱壓爐;真空蒸餾裝置,電解槽,單晶爐,區(qū)熔裝置,CVD(化學(xué)氣象沉積)裝置,PVD(物理氣象沉積)裝置,移動(dòng)式加熱裝置等多種高純金屬和化合物生產(chǎn)研發(fā)設(shè)備;提純工藝包括:真空蒸餾;精餾;區(qū)域熔煉;電解;化學(xué)氣象沉積;物理氣象沉積;熱擴(kuò)散;單晶提拉法等。純度從99.9%-99.99999%,公司先后研發(fā)的蒸發(fā)材料、濺射靶材系列產(chǎn)品,產(chǎn)品涉及工具/裝飾鍍膜、玻璃鍍膜、光學(xué)鍍膜、平面顯示/觸摸屏鍍膜、薄膜太陽能鍍膜等多個(gè)領(lǐng)域廣泛應(yīng)用到國(guó)內(nèi)外眾多知名太陽能、航空航天、生物健康、軍工微電子、信息儲(chǔ)存、汽車、船舶、裝飾、工業(yè)鍍膜、新能源企業(yè)當(dāng)中。
自有設(shè)備:真空熱壓爐,真空中頻感應(yīng)熔煉爐,冷坩堝懸浮熔煉爐,非自耗真空電弧爐,真空高溫加熱爐,真空燒結(jié)爐,真空蒸餾爐,定向凝固,區(qū)域熔煉爐,多溫區(qū)加熱爐,單晶爐,高溫?zé)Y(jié)爐,單溫區(qū),雙溫區(qū)、多溫區(qū)液相、氣相合成爐、氧化爐、加工設(shè)備。
北京晶邁中科材料技術(shù)有限公司幾年來已先后與國(guó)內(nèi)幾十家知名高校、中科院等研究院所建立了長(zhǎng)期友好的合作關(guān)系,并與這些科研單位有密切的學(xué)術(shù)交流和技術(shù)合作項(xiàng)目,并遠(yuǎn)銷歐洲、美國(guó)、日本、韓國(guó)等,在鍍膜行業(yè)擁有良好的聲譽(yù)。
基本信息
科研實(shí)驗(yàn)專用氧化鎳靶材NiO磁控濺射靶材電子束鍍膜蒸發(fā)料
產(chǎn)品介紹
氧化鎳(NiO)為綠色粉末狀固體,熔點(diǎn):1980±20℃,密度:6.67g/cm³,不溶于水,不溶于堿液,為堿性氧化物,溶于酸和氨水。用作搪瓷的密著劑和著色劑,陶瓷和玻璃的顏料。在磁性材料生產(chǎn)中用于生產(chǎn)鎳鋅鐵氧體等,以及用作制造鎳鹽原料、鎳催化劑并在冶金、顯像管中應(yīng)用。用作電子元件材料、催化劑、搪瓷涂料和蓄電池材料。
產(chǎn)品參數(shù)
中文名 氧化亞鎳 化學(xué)式 NiO
分子量 74.71 熔點(diǎn) 1984℃
密度 6.67g/cm
支持靶材定制,請(qǐng)?zhí)峁┌胁漠a(chǎn)品的元素、比例(重量比或原子比)、規(guī)格,我們會(huì)盡快為您報(bào)價(jià)。
服務(wù)項(xiàng)目:靶材成份比例、規(guī)格、純度均可按需定制?蒲袉挝回浀礁犊,質(zhì)量保證,售后無憂!
產(chǎn)品附件:發(fā)貨時(shí)產(chǎn)品附帶裝箱單/質(zhì)檢單/產(chǎn)品為真空包裝
適用儀器:多種型號(hào)磁控濺射、熱蒸發(fā)、電子束蒸發(fā)設(shè)備
質(zhì)量控制:嚴(yán)格控制生產(chǎn)工藝,采用輝光放電質(zhì)譜法GDMS或ICP光譜法等多種檢測(cè)手段,分析雜質(zhì)元素含量保證材料的高純度與細(xì)小晶粒度;可提供質(zhì)檢報(bào)告。
加工流程:熔煉→提純→鍛造→機(jī)加工→檢測(cè)→包裝出庫(kù)
陶瓷化合物靶材本身質(zhì)脆且導(dǎo)熱性差,連續(xù)長(zhǎng)時(shí)間濺射易發(fā)生靶裂情況,綁定背靶后,可提高化合物靶材的導(dǎo)熱性能,提高靶材的使用壽命。我們強(qiáng)烈建議您,選購(gòu)陶瓷化合物靶材一定要綁定銅背靶!
我公司采用高純銦作為焊料,銦焊厚度約為0.2mm,高純無氧銅作為背靶。
注意:高純銦的熔點(diǎn)約為156℃,靶材工作溫度超過熔點(diǎn)會(huì)導(dǎo)致銦熔化!綁定背靶不影響靶材的正常使用!
建議:陶瓷脆性靶材、燒結(jié)靶材,高功率下濺射易碎,建議濺射功率不超過3W/cm2。
北京晶邁中科材料技術(shù)有限公司基本信息
北京晶邁中科材料技術(shù)有限公司創(chuàng)建于2016年,是國(guó)內(nèi)有色金屬行業(yè)綜合性研究開發(fā)公司。 現(xiàn)有員工100余人。我公司光學(xué)鍍膜材料中心以國(guó)內(nèi)的技術(shù),多年來一直有經(jīng)驗(yàn)從事光學(xué)鍍膜材料及濺射靶材的研發(fā)與生產(chǎn)。靶材包括各種氧化物、硫化物、氟化物、碲化物、硒化物、硼化物、復(fù)合物、金屬及合金等,也可根據(jù)您的要求量身定做。通過嚴(yán)格控制生產(chǎn)、并持續(xù)改進(jìn)、穩(wěn)步發(fā)展,致力為客戶提供的產(chǎn)品。 公司現(xiàn)有靶材熱壓爐;真空蒸餾裝置,電解槽,單晶爐,區(qū)熔裝置,CVD(化學(xué)氣象沉積)裝置,PVD(物理氣象沉積)裝置,移動(dòng)式加熱裝置等多種高純金屬和化合物生產(chǎn)研發(fā)設(shè)備;提純工藝包括:真空蒸餾;精餾;區(qū)域熔煉;電解;化學(xué)氣象沉積;物理氣象沉積;熱擴(kuò)散;單晶提拉法等。純度從99.9%-99.99999%,公司先后研發(fā)的蒸發(fā)材料、濺射靶材系列產(chǎn)品,產(chǎn)品涉及工具/裝飾鍍膜、玻璃鍍膜、光學(xué)鍍膜、平面顯示/觸摸屏鍍膜、薄膜太陽能鍍膜等多個(gè)領(lǐng)域廣泛應(yīng)用到國(guó)內(nèi)外眾多知名太陽能、航空航天、生物健康、軍工微電子、信息儲(chǔ)存、汽車、船舶、裝飾、工業(yè)鍍膜、新能源企業(yè)當(dāng)中。 自有設(shè)備:真空熱壓爐,真空中頻感應(yīng)熔煉爐,冷坩堝懸浮熔煉爐,非自耗真空電弧爐,真空高溫加熱爐,真空燒結(jié)爐,真空蒸餾爐,定向凝固,區(qū)域熔煉爐,多溫區(qū)加熱爐,單晶爐,高溫?zé)Y(jié)爐,單溫區(qū),雙溫區(qū)、多溫區(qū)液相、氣相合成爐、氧化爐、加工設(shè)備。 北京晶邁中科材料技術(shù)有限公司幾年來已先后與國(guó)內(nèi)幾十家知名高校、中科院等研究院所建立了長(zhǎng)期友好的合作關(guān)系,并與這些科研單位有密切的學(xué)術(shù)交流和技術(shù)合作項(xiàng)目,并遠(yuǎn)銷歐洲、美國(guó)、日本、韓國(guó)等,在鍍膜行業(yè)擁有良好的聲譽(yù)。
氧化鎳靶材NiO磁控濺射靶材
產(chǎn)品屬性:
計(jì)量單位:個(gè) 供貨總量:10 最小起訂量:1 產(chǎn)品單價(jià):1000.00 品牌: 規(guī)格型號(hào): 包裝說明:
氧化鎳靶材NiO磁控濺射靶材產(chǎn)品概況