科研實驗專用鎳靶材Ni磁控濺射靶材電子束鍍膜蒸發料

產品介紹

鎳（Ni）是銀白色金屬，具有磁性和良好的可塑性，耐腐蝕，溶于硝酸后，呈綠色；不溶于水，常溫下在潮濕空氣中表面形成致密的氧化膜，能阻止本體金屬繼續氧化。耐強堿，鹽酸、硫酸、有機酸和堿性溶液對鎳的浸蝕極慢。鎳在稀硝酸緩慢溶解。因為鎳的抗腐蝕性佳，常被用在電鍍上；鎳鎘電池含有鎳；用于合金（如鎳鋼和鎳銀）及用作催化劑（如蘭尼鎳，尤指用作氫化的催化劑）。

產品參數

中文名 鎳 元素符號 Ni

原子量 58.69 沸點 2913℃

熔點 1455℃ 密度 8.908g/cm3

支持靶材定制，請提供靶材產品的元素、比例（重量比或原子比）、規格，我們會盡快為您報價！！

服務項目：靶材成份比例、規格、純度均可按需定制。科研單位貨到付款，質量保證，售后無憂！

產品附件：發貨時產品附帶裝箱單/質檢單/產品為真空包裝

適用儀器：多種型號磁控濺射、熱蒸發、電子束蒸發設備

質量控制：嚴格控制生產工藝，采用輝光放電質譜法GDMS或ICP光譜法等多種檢測手段，分析雜質元素含量保證材料的高純度與細小晶粒度；可提供質檢報告。

加工流程：熔煉→提純→鍛造→機加工→檢測→包裝出庫

北京晶邁中科材料技術有限公司創建于2016年,是國內有色金屬行業綜合性研究開發公司。 現有員工100余人。我公司光學鍍膜材料中心以國內的技術，多年來一直有經驗從事光學鍍膜材料及濺射靶材的研發與生產。靶材包括各種氧化物、硫化物、氟化物、碲化物、硒化物、硼化物、復合物、金屬及合金等，也可根據您的要求量身定做。通過嚴格控制生產、并持續改進、穩步發展，致力為客戶提供的產品。 公司現有靶材熱壓爐；真空蒸餾裝置，電解槽，單晶爐，區熔裝置，CVD（化學氣象沉積）裝置，PVD（物理氣象沉積）裝置，移動式加熱裝置等多種高純金屬和化合物生產研發設備；提純工藝包括：真空蒸餾；精餾；區域熔煉；電解；化學氣象沉積；物理氣象沉積；熱擴散；單晶提拉法等。純度從99.9%-99.99999%,公司先后研發的蒸發材料、濺射靶材系列產品，產品涉及工具/裝飾鍍膜、玻璃鍍膜、光學鍍膜、平面顯示/觸摸屏鍍膜、薄膜太陽能鍍膜等多個領域廣泛應用到國內外眾多知名太陽能、航空航天、生物健康、軍工微電子、信息儲存、汽車、船舶、裝飾、工業鍍膜、新能源企業當中。 自有設備：真空熱壓爐，真空中頻感應熔煉爐，冷坩堝懸浮熔煉爐，非自耗真空電弧爐，真空高溫加熱爐，真空燒結爐，真空蒸餾爐，定向凝固，區域熔煉爐，多溫區加熱爐，單晶爐，高溫燒結爐，單溫區，雙溫區、多溫區液相、氣相合成爐、氧化爐、加工設備。 北京晶邁中科材料技術有限公司幾年來已先后與國內幾十家知名高校、中科院等研究院所建立了長期友好的合作關系，并與這些科研單位有密切的學術交流和技術合作項目，并遠銷歐洲、美國、日本、韓國等，在鍍膜行業擁有良好的聲譽。

鎳靶材Ni磁控濺射靶材