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氧化鋁靶材Al2O3磁控濺射靶材
基本信息
產品介紹
氧化鋁(Al2O3)在礦業、制陶業和材料科學上又被稱為礬土,是一種高硬度的兩性氧化物,能溶于無機酸和堿性溶液中,幾乎不溶于水及非較性農業生產體系溶劑;白色固體,無臭、無味、質較硬,易吸潮而不潮解(灼燒過的不吸濕)。在高溫下可電離的離子晶體,常用于制造耐火材料。用作分析試劑、農業生產體系溶劑的脫水、吸附劑、農業生產體系反應催化劑、研磨劑、拋光劑、冶煉鋁的原料、耐火材料。
產品參數
中文名 氧化鋁 化學式 Al2O3
分子量 101.96 熔點 2054ºC
沸點 2980ºC 密度 3.5-3.9g/cm3
強烈建議陶瓷化合物靶材綁定背靶使用。陶瓷靶材質脆,受熱不均勻易裂。不建議超過3mm。 推薦綁定銅背靶,以增強導熱導電性。減少靶材碎裂的可能。 陶瓷化合物靶材本身質脆且導熱性差,連續長時間濺射易發生裂靶情況,綁定背靶后,可以提高化合物靶材的導熱性能,提高濺射過程的散熱性、提高靶材利用率,從而提高靶材的使用壽命。我們強烈建議您,選購陶瓷化合物靶材一定要綁定銅背靶!
北京晶邁中科材料技術有限公司基本信息
北京晶邁中科材料技術有限公司創建于2016年,是國內有色金屬行業綜合性研究開發公司。 現有員工100余人。我公司光學鍍膜材料中心以國內的技術,多年來一直有經驗從事光學鍍膜材料及濺射靶材的研發與生產。靶材包括各種氧化物、硫化物、氟化物、碲化物、硒化物、硼化物、復合物、金屬及合金等,也可根據您的要求量身定做。通過嚴格控制生產、并持續改進、穩步發展,致力為客戶提供的產品。 公司現有靶材熱壓爐;真空蒸餾裝置,電解槽,單晶爐,區熔裝置,CVD(化學氣象沉積)裝置,PVD(物理氣象沉積)裝置,移動式加熱裝置等多種高純金屬和化合物生產研發設備;提純工藝包括:真空蒸餾;精餾;區域熔煉;電解;化學氣象沉積;物理氣象沉積;熱擴散;單晶提拉法等。純度從99.9%-99.99999%,公司先后研發的蒸發材料、濺射靶材系列產品,產品涉及工具/裝飾鍍膜、玻璃鍍膜、光學鍍膜、平面顯示/觸摸屏鍍膜、薄膜太陽能鍍膜等多個領域廣泛應用到國內外眾多知名太陽能、航空航天、生物健康、軍工微電子、信息儲存、汽車、船舶、裝飾、工業鍍膜、新能源企業當中。 自有設備:真空熱壓爐,真空中頻感應熔煉爐,冷坩堝懸浮熔煉爐,非自耗真空電弧爐,真空高溫加熱爐,真空燒結爐,真空蒸餾爐,定向凝固,區域熔煉爐,多溫區加熱爐,單晶爐,高溫燒結爐,單溫區,雙溫區、多溫區液相、氣相合成爐、氧化爐、加工設備。 北京晶邁中科材料技術有限公司幾年來已先后與國內幾十家知名高校、中科院等研究院所建立了長期友好的合作關系,并與這些科研單位有密切的學術交流和技術合作項目,并遠銷歐洲、美國、日本、韓國等,在鍍膜行業擁有良好的聲譽。
員工人數:10-50人 廠房面積: 年營業額:人民幣100萬元/年-人民幣200萬元/年
年進口額:人民幣10萬元/年以下 年出口額:人民幣10萬元/年以下 主要市場:大陸,
客戶群:
公司名稱:北京晶邁中科材料技術有限公司
注冊資本:人民幣100萬元/年-人民幣200萬元/年 公司網址:http://jingmaizhongke.glass.com.cn主營產品:靶材,陶瓷靶材,金屬靶材,非金屬靶材 公司成立年份:2016
公司網址:http://jingmaizhongke.glass.com.cn