東莞供應(yīng)硅靶硅靶材 光學(xué)鍍

? 硅靶材規(guī)格： ? ●??尺寸01：直徑1mm （圓片/圓臺(tái)/圓棒） ●??尺寸02：長(zhǎng)度1mm? ?矩形/片材/臺(tái)階狀(可拼接） ●??尺寸03：外直徑1mm 壁度>1mm 長(zhǎng)度>1mm（管材/圓環(huán)/旋轉(zhuǎn)靶材） 用途： 濺射材料;鍍膜材料;電子;;機(jī)械;航空航天;飾品;家裝材料;儀器儀表;汽車;冶金;五金;研發(fā) ? 安全措施?? ? ?? ?1.貯于陰涼通風(fēng)處,不可

2015-11-06 面議/千克

光學(xué)真空鍍膜用 超細(xì)二氧化

? 基本簡(jiǎn)介 二氧化硅（化學(xué)式：SiO2）是一種酸性氧化物，對(duì)應(yīng)水化物為硅酸（H2SiO3）。二氧化硅是硅較重要的化合物。地球上存在的天然二氧化硅約占地殼質(zhì)量的12%，其存在形態(tài)有結(jié)晶行和無定形兩大類，統(tǒng)稱硅石。 二氧化硅是制造玻璃、石英玻璃、水玻璃、光導(dǎo)纖維、電子工業(yè)的重要部件、光學(xué)儀器、工藝品和耐火材料的原料，是科學(xué)研究的重要材料。 用途：? 一:鏡片表面所用鍍膜:? 1.具有

2015-07-07 面議/千克

凱曼光學(xué)鍍膜鉻靶材

? ? 凱曼光電專業(yè)生產(chǎn)高品質(zhì)濺射靶材，金屬靶材。產(chǎn)品通過各種方法（磁控濺射、真空鍍等）應(yīng)用真空鍍膜、光學(xué)鍍膜的各種領(lǐng)域：科學(xué)研究，航天航空，汽車，微電子，集成電路產(chǎn)業(yè)，光源，光學(xué)，裝飾，平面顯示器產(chǎn)業(yè)，信息存儲(chǔ)產(chǎn)業(yè)，數(shù)據(jù)存儲(chǔ)等等。? ? ??本公司生產(chǎn)的磁控濺射靶材、蒸鍍材料和納米材料主要應(yīng)用于:玻璃鍍膜(觸控和建筑玻璃)工業(yè), 平板液晶顯示器（LCD）,光通訊工業(yè), 數(shù)據(jù)儲(chǔ)存工業(yè)等行業(yè)。

2015-07-07 面議/千克

東莞凱曼鉻粒鉻粉鍍膜材料

? 鉻塊 銀色金屬，質(zhì)極硬，耐腐蝕。密度7.20克/cm3。熔點(diǎn)1857±20℃，沸點(diǎn)2672℃。化合價(jià)+2、+3和+6。電離能為6.766電子伏特。金屬鉻在酸中一般以表面鈍化為其特征。一旦去鈍化后，即易溶解于幾乎所有的酸中。在高溫下被水蒸氣所氧化，在1000℃下被一氧化碳所氧化。在高溫下，鉻與氮起反應(yīng)并被堿所侵蝕。可溶于強(qiáng)堿溶液。鉻具有很高的耐腐蝕性，在空氣中，即便是在赤熱的狀態(tài)下，氧化也很

2015-07-07 面議/千克