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IBM與MII共同開(kāi)發(fā)納米壓印光刻介電材料
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Wilson表示，IBM和MII正合作開(kāi)發(fā)一種旋涂玻璃(spin-on glass)，也稱“photo-imagable”介電質(zhì)，這種材料用于納米壓印光刻的后端線(back-of-line，BEOL)加工。這表明納米壓印光刻又有了新的應(yīng)用空間。目前該技術(shù)主要用于MEMS制造、存儲(chǔ)媒體和相關(guān)應(yīng)用。
MII在SPIE上發(fā)表了一篇論文，題為《面向雙大馬士革(dual damascene)加工的直接介電材料壓印技術(shù)》。在論文中，MII聲稱，與傳統(tǒng)光刻技術(shù)相比，納米壓印光刻能減少雙大馬士革芯片制造1/3的工序。
“通過(guò)采用帶兩層圖形的印刷模板，一個(gè)壓印光刻工序就替代了兩個(gè)光刻工序。”MII論文稱。“如果印刷光阻材料采用功能介電材料，效率還有可能進(jìn)一步提高。”
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