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雙向?qū)恿鞣磻?yīng)器結(jié)構(gòu)設(shè)計與膜層均勻性探討

來源:玻璃雜志 作者:周炳元 2019/7/12 13:48:07

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中玻網(wǎng)】在線APCVD鍍膜技術(shù)是一項成套的系統(tǒng)工程,如研制開發(fā)的在線Low-E鍍膜玻璃、在線Sun-E鍍膜玻璃、光催化自潔凈鍍膜玻璃和在線TCO鍍膜玻璃等,都涉及到電子、化工、材料、自動控制、流體力學(xué)、結(jié)構(gòu)力學(xué)、機(jī)械制造等學(xué)科知識,同時需要這些學(xué)科知識的相互配合才能完成生產(chǎn)玻璃產(chǎn)品的技術(shù)。其中,反應(yīng)器是在線鍍膜化學(xué)反應(yīng)的關(guān)鍵器具,對先驅(qū)氣體原料的均勻分布、傳輸、溫度控制、化學(xué)反應(yīng)、薄膜的均勻性有非常大影響,直接影響鍍膜玻璃的質(zhì)量,本文就雙向?qū)恿鞣磻?yīng)器結(jié)構(gòu)設(shè)計進(jìn)行探討。

  雙向?qū)恿鞣磻?yīng)器的結(jié)構(gòu):如圖1所示,其結(jié)構(gòu)是單進(jìn)雙出,采用1個進(jìn)氣腔與2個排氣腔相結(jié)合的構(gòu)造設(shè)計,以此引導(dǎo)混合氣體的雙向流動,迅速排出廢氣,避免滯留氣體對玻璃帶產(chǎn)生污染。

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圖1    雙向?qū)恿鞣磻?yīng)器示意圖

  反應(yīng)器結(jié)構(gòu)設(shè)計提高膜層均勻性:(1)等寬流道的進(jìn)氣腔,如圖2、3所示,第1片導(dǎo)流片是直條型,通過與之對應(yīng)的流體動力學(xué)電腦模擬計算的出口速度散點,小流速Vmin=0.1 m/s,大流速Vmax=0.37m/s,振幅A=0.27 m/s,平均速度V1=0.235 m/s,速度波動指數(shù)=振幅/平均速度=114.9%。在此速度波動指數(shù)下,經(jīng)實際鍍膜試驗?zāi)ず裨诓A挾确较虺手芷谛宰兓鶆蛐赃_(dá)不到要求。

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圖2    等寬流道的進(jìn)氣腔示意圖

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圖3    等寬流道的進(jìn)氣腔出口速度散點圖

  (2)不等寬流道的進(jìn)氣腔,將第1片導(dǎo)流片設(shè)計為正弦周期性形狀,可以獲得不等寬流道的進(jìn)氣腔(圖4)。從等寬流道的進(jìn)氣腔出口速度散點圖(圖5)可以看出,氣體在對應(yīng)進(jìn)料噴嘴的位置的出口速度分布小,并呈現(xiàn)一定的周期性變化。因此我們將流道的寬度設(shè)計成按照周期函數(shù)變化的不等寬結(jié)構(gòu)。具體如圖4所示,通過在第1片導(dǎo)流片的與進(jìn)料噴嘴對應(yīng)的位置增加氣體通過面積,以便增加進(jìn)氣腔出口處相應(yīng)位置的氣體的動能。這種不等寬結(jié)構(gòu)所對應(yīng)的流體動力學(xué)電腦模擬計算的出口速度散點如圖5所示。

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圖4    不等寬流道的進(jìn)氣腔示意圖

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圖5    不等寬流道的進(jìn)氣腔出口速度散點圖

  從圖5可以看出,小流速Vmin=0.288 m/s,大流速Vmax=0.320 m/s,振幅A=0.033 m/s,平均速度V1=0.305 m/s,速度波動指數(shù)=振幅/平均速度=10.08%。在此速度波動指數(shù)下,經(jīng)實際二氧化鈦鍍膜試驗,在玻璃帶寬度方向測得1組薄膜厚度(Å)為:434.02,427.61,418.03,397.17394.96,此膜厚的均勻性達(dá)到±5%,膜厚已經(jīng)沒有明顯的周期性變化,色差小于2.5CIELAB,薄膜均勻性達(dá)到技術(shù)要求,而且也不存在明顯的暗道。由此可見,不等寬流道的氣體均布效果要優(yōu)于等寬的直線性流道,相應(yīng)的鍍膜均勻性也得到了顯著提高。

  (3)進(jìn)氣腔、排氣腔的出氣口的園角設(shè)計,對出氣口進(jìn)行導(dǎo)圓處理后將有利于氣體流場的均勻,提高沉積厚度和微觀結(jié)構(gòu)的均勻性和穩(wěn)定性。導(dǎo)圓半徑越大越有利于流場的均勻。

  (4)反應(yīng)區(qū)氣體流動的雷諾數(shù),經(jīng)過計算,我公司雙向?qū)恿鞣磻?yīng)區(qū)的雷諾數(shù)遠(yuǎn)遠(yuǎn)小于層流狀態(tài)的臨界值2320,此時流場處于穩(wěn)定的層流狀態(tài),有利于膜層的均勻效率高生長。

  玻璃企業(yè)在線化學(xué)氣相沉積鍍膜技術(shù)與工藝、沉積設(shè)備的優(yōu)化設(shè)計和沉積材料的研制開發(fā)和實施中,反應(yīng)器裝置是其中重要的設(shè)備之一,它的優(yōu)化設(shè)計對于在線鍍膜玻璃的均勻性與連續(xù)穩(wěn)定生產(chǎn)、降低生產(chǎn)成本有重要促進(jìn)作用,尤其合理設(shè)計反應(yīng)器導(dǎo)流片的形狀尺寸(如不等寬流道)與分布位置,以及對出氣口進(jìn)行導(dǎo)圓處理等關(guān)鍵部件的制作至關(guān)重要。因此,鍍膜反應(yīng)器調(diào)整反應(yīng)區(qū)的雷諾數(shù)使流場處于穩(wěn)定的層流狀態(tài)、薄膜均勻性,對制造優(yōu)異鍍膜玻璃產(chǎn)品具有十分重要的意義。

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