隨著浮法玻璃技術的出現，大批量制造平整均勻的優異玻璃成為可能，同時也使深加工玻璃的種類愈加豐富。除了常用的高度度鋼化玻璃以外，還有注重隱私保護的磨砂玻璃、調光玻璃，增強防彈安全性能的夾層玻璃、夾絲玻璃等。在本篇文章中，我們將主要介紹什么是玻璃藝術，以及藝術玻璃的主要工藝方式，說明其特點。

一、什么是玻璃藝術

        “玻璃藝術”,是這樣定義的:以富有創造性的方式方法——“藝術”為主體,“玻璃”為載體的玻璃造型藝術,玻璃視覺藝術,均可稱為“玻璃藝術”. 玻璃藝術是精力,是無形的.還有資料認為,玻璃藝術作品具有自創性,純手工性,出自藝術家之手的.

        玻璃藝術和玻璃雕塑品,是用玻璃作為一種藝術形式,塑造成雕塑或二維藝術品.具體措施包括:彩色玻璃,玻璃拉絲,玻璃鑄造、玻璃熱熔、特別是玻璃吹制.作為一種裝飾和功能的載體,玻璃藝術被廣泛地發展和流傳,玻璃藝術從埃及起源到腓尼基人發明玻璃吹制法、之后它以彩色玻璃窗的形式被普遍用在歐洲大教堂里,并作為教堂標志性的裝飾一直被沿用至今,達到了玻璃藝術與藝術玻璃的無缺結合的高峰時期.

        20世紀60年代初之前, “玻璃藝術”指以玻璃為原料制作的裝飾用品.像當時有名的瑞典Kosta Boda公司,荷蘭高等Leerdam水晶公司,日本的Hoya水晶公司,法國的Gallé公司和美國的Steuben公司等,都在采用工人在工廠里分成每組4人或4人以上的人工玻璃吹制法.在經過了19世紀初藝術玻璃運動后,在玻璃生產中機械吹瓶技術完全取代了工廠人工吹制技術.

        玻璃藝術設計,以從未有過的高層度和廣度滲透到人們的生活中.在造型上同時運用不同種類的玻璃及制作工藝的手法,成為藝術家和設計師進行藝術創造的獨特媒介.

二、藝術玻璃主要工藝有哪幾類

        冷加工類

        1. 鑲嵌玻璃(傳統鑲嵌,英式鑲嵌,金屬焊接鑲嵌);

        2. 化學蝕刻(圖案蒙砂,絲印圖案蒙砂,圖案凹蒙,冰花);

        3. 工具雕刻(各式砂輪,砂條雕刻,晶鋼刻刀,機械車花);

        4. 噴砂雕刻(手工刻膠紙掩模,機刻膠紙掩模,光刻掩模,漆料肌理掩模);

        5. 激光雕刻(電腦控制激光雕刻);

        6. 切割造型(刀切割,水切割);

        7. 粘貼造型(平面粘貼,空間粘貼,彩色玻璃或膠膜的粘貼,彩色珠/砂/條/件的粘貼,多層疊粘,貼金);

        8. 玻璃立塑(立線堆塑,立線漆浮雕造形);

        9. 彩繪(噴槍彩繪,畫筆彩繪,絲印彩圖,聚晶);

        10.夾層(En膜夾層:花布,花紙,彩色膠膜,金屬絲網等);

        熱加工類

        1. 吹制Blown(用管子蘸玻璃液珠后吹制:人工鋼模/機制鋼模吹制,人工自由造形:吹拉滾摔粘切)

        2. 鑄造Cast(把玻璃液壓注或流入模中成形:如鋼模壓鑄玻璃磚,手工澆鑄彩色玻磚,平面澆鑄藝術玻璃,失蠟精鑄/琉璃工坊);

        3. 壓制Pressing(把玻璃液引出,用軋錕壓花或壓彩色肌理和底紋的玻板:如機制壓花藝術玻璃,手工壓花藝術玻璃,機制玻璃瑪賽克等);

        4. 燒結(把玻璃粉等在模中高溫燒結成形:如泡沫玻璃或微晶玻璃等的模燒工藝品); 5. 熔凝Fusing(把玻璃全熔凝至玻液,并在其表面張力下凝聚:如熔凝的玻珠,玻璃手飾和玻璃工藝品等);

        6. 彩釉 Enamel(使用高溫彩釉在玻璃表面上色或彩繪:如彩釉色玻,彩釉彩繪);

        7. 疊燒(把疊層玻璃燒粘黏成一體:如疊熔,疊燒,夾絲/件);

相關概念

玻璃

        玻璃是非晶無機非金屬材料，一般是用多種無機礦物(如石英砂、硼砂、硼酸、重晶石、碳酸鋇、石灰石、長石、純堿等)為主要原料，另外加入少量輔助原料制成的。它的主要成分為二氧化硅和其他氧化物。普通玻璃的化學組成是Na2SiO3、CaSiO3、SiO2或Na2O·CaO·6SiO2等，主要成分是硅酸鹽復鹽，是一種無規則結構的非晶態固體。廣泛應用于建筑物，用來隔風透光，屬于混合物。另有混入了某些金屬的氧化物或者鹽類而顯現出顏色的有色玻璃，和通過物理或者化學的方法制得的鋼化玻璃等。有時把一些透明的塑料（如聚甲基丙烯酸甲酯）也稱作農業生產體系玻璃。

掩模

        掩模版（mask）簡稱掩模，是光刻工藝不可缺少的部件。掩模上承載有設計圖形，光線透過它，把設計圖形透射在光刻膠上。掩模的性能直接決定了光刻工藝的質量。在投影式光刻機中，掩模作為一個光學元件位于會聚透鏡（condenser lens）與投影透鏡（projection lens）之間，它并不和晶圓有直接接觸。掩模上的圖形縮小4~10倍（現代光刻機一般都是縮小4倍）后透射在晶圓表面。為了區別接觸式曝光中使用的掩模，投影式曝光中使用的掩模又被稱為倍縮式掩模（reticle）。

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