（2）劃傷（scratches）是指鍍膜玻璃表面各種線狀的劃痕。可見程度取決于它們的長度、寬度、位置和分布。劃傷的形成有以下兩個因素，并且針對不同原因有不同的解決方案：
　　
　　①鍍膜前劃傷。在鍍膜工序之前形成劃傷的原因有多方面的：如每道工序的上、下片；每道工序之間的轉運等等。形成這種劃傷，只有依靠提高操作人員的主觀能動性采取措施來積較預防。
　　
　　②鍍膜中的劃傷。由于鍍膜工序的各條設備而引起的劃傷有明顯的規則，其劃傷一定會沿著速度方向，并且非常直，呈直線狀，無任何拐點。鍍膜中的劃傷分為膜面及玻璃面劃傷兩種，膜面劃傷大部分由于分子泵蓋板下沉或轉移到氣體分隔板下跌所致。玻璃面劃傷主要是由于底板或傳送輥間丁字板鍍層太厚或熱變形引起。可采用較重的未磨邊玻璃在濺射室內多次鍍膜來減少或清理。
　　
　　（3）斑紋（stain）：從鍍膜玻璃的反射方向看，膜層表面色澤發生的云狀、放射狀或條紋狀缺點。斑紋的形成有以下三個主要原因，針對不同原因有不同的解決方案：
　　
　　①云狀斑紋。主要是由于原片新鮮度不夠，Na外滲，也就是通常所說的發霉。雖然經過鋼化處理，但無法完全清除，故形成云霧狀斑紋，其解決方法除了確保使用新鮮原片外，對過期原片（過期），可采用拋光粉進行拋光處理，再進行鍍膜，可以提高玻璃與膜層的結合力從而減少斑紋的產生。當然原片過期太久，拋光粉的使用也是無效的。
　　
　　②放射狀斑紋，主要是由于清洗機風刀未吹干凈，進行鍍膜時會出現放射狀斑紋。其解決方法為調整風刀角度，并保證風刀內無異物。
　　
　　③條紋狀斑紋。主要是由于鍍膜機內局部氣壓發生變化引起的，尤其是入、出口室漏氣等，由于引起局部氣壓發生變化的區域廣泛，只有依靠各生產廠家自己的經驗及相關設備進行檢漏，排除后方可正常生產。
　　
　　（4）暗道（dark stripe）：從鍍膜玻璃的反射方向看，膜層表面亮度或反射色異于整體的條狀區域，可見程度取決于它們和周圍膜層的亮度差。暗道的產生絕大部分是由于鍍膜時其中一個或多個陰較產生電弧或跳閘引起，只要避免電弧和保證電源、陰較正常工作，暗道就不會產生。
　　
　　3低輻射鍍膜玻璃（lowemissivity coated glass）
　　
　　低輻射鍍膜玻璃又稱“Low-E”玻璃，是一種對波長范圍4.5~25的遠紅外有較高反射比的鍍膜玻璃。低輻射鍍膜玻璃作為磁控濺射鍍膜玻璃的一種，同陽光控制膜一樣會出現小孔、斑紋、劃傷、暗道等缺點。與陽光膜不同的是，離線Low-E大多數都屬于軟膜，故相對陽光膜而言，其缺點絕大部分還來源于鍍膜后的后序加工：如后序氧化、后序鋼化等。
　　
　　（1）鍍膜后氧化是指Low-E玻璃在鍍膜完成后由于膜層中銀受空氣中的水汽或者硫化物等污染而氧化。主要由以下幾個方面原因引起：
　　
　　①生產時空氣濕度太大，空氣中含水量過高，尤其是雨季。在南方每年的5~10月份是Low-E玻璃易氧化的季節。針對這種情況，一方面在鍍膜下片打包時要充入足夠量的干燥劑，另一方面，要盡可能地縮短等待中空生產的時間。
　　
　　②鍍膜下片時手套上汗水會沾到玻璃上。由于人出汗時，汗水中含有大量的硫化物，會與Low-E玻璃中的銀發生反應，生成黑色的硫化銀，從而形成氧化。試驗發現，因汗水沾過的Low-E玻璃較好短在1h內會形成氧化，因此一方面保持手套干燥，另一方面汗水觸摸過的Low-E玻璃要立即清洗，并盡可能地縮短等待中空生產時間。
　　
　　③中空玻璃處理不當。中空玻璃處理不當，如漏氣、漏分子篩等等，都可能會引起合好中空后的Low-E玻璃氧化，尤其是丁基膠不飽滿和漏分子篩對Low-E玻璃都是致命威脅。因此，如何提高中空玻璃質量是避免Low-E玻璃后期批量氧化的一個關鍵因素。
　　
　　（2）后序鋼化缺點是指可鋼化Low-E玻璃在后續加工過程中出現的一系列缺點。可鋼化Low-E玻璃在鍍膜完成后，仍有多個工序，其加工流程如下：

　　以上每道工序的加工過程都有可能會對Low-E玻璃造成損傷。在生產過程中，周期時間越長，產生缺點的機率越大。另外，由于不同Low-E產品的面電阻各不相同，熱傳導系數也不盡相同。因此選擇合適的鋼化工藝對提高Low-E玻璃鋼化后的膜層質量至關重要。因此，對于可鋼化Low-E的控制，除了鍍膜工序外，其它相應工序都要做好相應的措施，才能減少缺點的產生。
　　
　　4結語
　　
　　鍍膜玻璃的缺點是多方面的，不論是陽光控制膜還是低輻射鍍膜，只要找到其缺點形成的原因，就有可能減少缺點的產生。
　　
　　（來源：格蘭特工程玻璃（中山）有限公司）