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鉍靶材 Bi靶材名??稱：鉍 符??號：Bi 原子量：208.98 純??度：4N?5N?6N 熔??點：271.4℃ 沸??點：1564℃?? 密??度：9.79g/cm3 產品優點：不純物元素含量極低，導電性能好，產品致密度好，小包裝，現貨。 產品用途：磁控濺射鍍膜材料等 產品附件:報價單/訂購合同/裝箱單/質檢單 產品包裝：?真空包裝/真空中性包裝/特殊包裝外加固包裝
2024-08-03 面議/片 -
氧化鉍靶材 Bi2O3靶材三氧化二鉍靶材 純度：99.99% 化學式：Bi2O3 熔點：825℃ 密度：8.9 折射率：2.5 透明波段：0.4微米 氧化鉍，用于制金屬鉍、催化劑及鉍系氧化物超導體，蒸汽有毒。
2024-08-03 面議/片 -
氮化鋁（AlN）靶材 99.99%氮化鋁（AlN）靶材 99.99% 氮化鋁陶瓷靶材是一種化學式為 AlN 的陶瓷濺射材料, 其熔點2200℃，密度 3.26g/cm?，沸點2,517°C。 具有高硬度、高熔點、化學性質穩定、導電性好等特點。
2024-08-03 面議/片 -
高純鎂（Mg）靶材 99.95%高純鎂靶材 高純鎂顆粒 純度：99.95% 符號：Mg 原子量：24.30 熔點：650℃ 沸點：1100℃ 密度：1.738 規格：Φ50.8*5、Φ76.2*5 其他規格可根據客戶需求定做！? 熔化潛熱：8.792kJ/mol 升華熱：142.0（650℃）kJ/mol? 比熱容：147.0（25℃）J/(mol.k) 電阻率：4.47×10-6Ω.cm? 熱導率：1.57W/(cm.k) 蒸
2024-07-03 面議/片 -
高純镥（Lu）靶材 99.95%高純镥（Lu）靶材 99.95% 產品類別：稀土金屬靶材 產品名稱：镥（Lu）靶材 元素符號：Lu 純度：3N 形狀：平面靶 異型定制 ? 镥濺射靶材由高純度的金屬組成。镥為銀白色金屬，是稀土元素中最硬和最致密的金屬；熔點1663℃，沸點3395℃，密度9.8404。镥在空氣中比較穩定；氧化镥為無色晶體，溶于酸生成相應的無色鹽。镥主要用于研究工作，其它用途很少。質軟。溶于稀酸，能與水緩慢作用。鹽
2024-07-03 面議/片 -
高純鑭（La）靶材 99.95%鑭靶材是高純度鑭金屬構成的固體靶。熔點927°C，密度7.3克/立方厘米，是一種柔軟，具有延展性的銀白色金屬。它可以用來制造特殊的光學眼鏡，也可以用來使鋼更具延展性。 ? 鑭濺射靶材的應用 鑭濺射靶材可用于薄膜沉積，裝飾，半導體，顯示器，LED和光伏器件，功能性涂層以及其他光學信息存儲空間行業，汽車玻璃和建筑玻璃等玻璃涂層行業，光通信等。
2024-07-03 面議/片 -
高純銥（Ir）靶材 99.95%銥濺射靶材具有與銥金屬相同的特性。銥的熔點高達2466℃，化學性質穩定，在1600℃以上的大氣氣氛中能保持良好的機械性能，還能承受住強酸、強堿、熔融試劑和高溫硅酸鹽的腐蝕。它是已知的最耐腐蝕的金屬，可以抵抗任何酸的侵蝕。盡管僅某些熔融鹽和鹵素會腐蝕固態銥，但細碎的銥粉塵更具活性，并且易燃。
2024-07-03 面議/片 -
高純銦（In）靶材 99.999%銦濺射靶材制備工藝 檢查背板并清潔背板的外表面；將背板固定于可控溫平板加熱爐的平板上；將擋板固定于背板的上表面的四周緣以形成由背板和擋板圍成的上端開口的容置腔；設定可控溫平板加熱爐的溫度為預熱溫度以預熱背板；將銦錠樣品加入可控溫熔料澆注爐中，設定可控溫熔料澆注爐的加熱溫度以將銦錠樣品熔化為銦液；將可控溫熔料澆注爐內的銦液澆注在容置腔中；將容置腔中的銦液上面漂浮的雜質清理干凈；使可控溫平板加熱爐停止
2024-07-03 面議/片 -
高純鈥（Ho）靶材 99.95%鈥濺射靶材是高純度鈥金屬構成的銀色金屬靶。鈥是一種可熔，柔軟，光澤的金屬。它的反應性太強，以至于無法自然地結合在一起，但是當分離時，它在室溫下的干燥空氣中相對穩定�？梢晕罩凶�，因此在核反應堆中使用來保持鏈反應受控。它的合金用于某些磁體。Hol的原子質量為164.93031 amu，熔點為1470.0°C（1743.15 K，2678.0°F），密度為8.54，晶體為六邊形。 ? 鈥濺射靶材的應
2024-07-03 面議/片
