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主營:保護膜,抗酸膜,UV膜,高溫膠帶,導熱雙面膠,3M雙面膠,高溫美紋膠,納米碳銅、鋁箔膠

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  • 廠家直銷 防紫外線UV膜
    廠家直銷 防紫外線UV膜

    名稱:UV膜、晶圓切割膠帶品牌:YICHN顏色:透明霧面?規格:0.11*300mm*100m(可按客戶需求生產各厚度及寬幅)?產品特點:1、切割時高粘著力,照射UV后粘度很低撿拾時晶片不飛散,不殘膠。2、照射UV反應時間快速,有效提升工作效率。3、保持晶粒在切割中的完整,(無任何晶粒流失)減少切割中所產生的崩碎。4、確保晶粒在正常傳送過程中,不會有位移、掉落的情形,水不會滲入晶粒與膠帶之間。5、

    2017-03-28 面議/平方米
  • 廠家直銷 PLC芯片UV膜
    廠家直銷 PLC芯片UV膜

    名稱:UV膜、晶圓切割膠帶品牌:YICHN顏色:透明霧面?規格:0.11*300mm*100m(可按客戶需求生產各厚度及寬幅)?產品特點:1、切割時高粘著力,照射UV后粘度很低撿拾時晶片不飛散,不殘膠。2、照射UV反應時間快速,有效提升工作效率。3、保持晶粒在切割中的完整,(無任何晶粒流失)減少切割中所產生的崩碎。4、確保晶粒在正常傳送過程中,不會有位移、掉落的情形,水不會滲入晶粒與膠帶之間。5、

    2017-03-28 面議/平方米
  • 廠家直銷 PLC光分路器UV膜
    廠家直銷 PLC光分路器UV膜

    名稱:UV膜、晶圓切割膠帶品牌:YICHN顏色:透明霧面?規格:0.11*300mm*100m(可按客戶需求生產各厚度及寬幅)?產品特點:1、切割時高粘著力,照射UV后粘度很低撿拾時晶片不飛散,不殘膠。2、照射UV反應時間快速,有效提升工作效率。3、保持晶粒在切割中的完整,(無任何晶粒流失)減少切割中所產生的崩碎。4、確保晶粒在正常傳送過程中,不會有位移、掉落的情形,水不會滲入晶粒與膠帶之間。5、

    2017-03-28 面議/平方米
  • 廠家直銷 UV瓷磚切割保護膜
    廠家直銷 UV瓷磚切割保護膜

    名稱:UV膜、晶圓切割膠帶品牌:YICHN顏色:透明霧面?規格:0.11*300mm*100m(可按客戶需求生產各厚度及寬幅)?產品特點:1、切割時高粘著力,照射UV后粘度很低撿拾時晶片不飛散,不殘膠。2、照射UV反應時間快速,有效提升工作效率。3、保持晶粒在切割中的完整,(無任何晶粒流失)減少切割中所產生的崩碎。4、確保晶粒在正常傳送過程中,不會有位移、掉落的情形,水不會滲入晶粒與膠帶之間。5、

    2017-03-28 面議/平方米
  • 廠家直銷 陶瓷芯片專項使用UV膜
    廠家直銷 陶瓷芯片專項使用U

    名稱:UV膜、晶圓切割膠帶品牌:YICHN顏色:透明霧面?規格:0.11*300mm*100m(可按客戶需求生產各厚度及寬幅)?產品特點:1、切割時高粘著力,照射UV后粘度很低撿拾時晶片不飛散,不殘膠。2、照射UV反應時間快速,有效提升工作效率。3、保持晶粒在切割中的完整,(無任何晶粒流失)減少切割中所產生的崩碎。4、確保晶粒在正常傳送過程中,不會有位移、掉落的情形,水不會滲入晶粒與膠帶之間。5、

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  • 廠家直銷 耐溫UV切割膜
    廠家直銷 耐溫UV切割膜

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  • 廠家供應 PLC切割UV膜
    廠家供應 PLC切割UV膜

    名稱:UV膜、晶圓切割膠帶品牌:YICHN顏色:透明霧面?規格:0.11*300mm*100m(可按客戶需求生產各厚度及寬幅)?產品特點:1、切割時高粘著力,照射UV后粘度很低撿拾時晶片不飛散,不殘膠。2、照射UV反應時間快速,有效提升工作效率。3、保持晶粒在切割中的完整,(無任何晶粒流失)減少切割中所產生的崩碎。4、確保晶粒在正常傳送過程中,不會有位移、掉落的情形,水不會滲入晶粒與膠帶之間。5、

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  • 廠家直銷 UV切割膜 定制
    廠家直銷 UV切割膜 定制

    名稱:UV膜、晶圓切割膠帶品牌:YICHN顏色:透明霧面?規格:0.11*300mm*100m(可按客戶需求生產各厚度及寬幅)?產品特點:1、切割時高粘著力,照射UV后粘度很低撿拾時晶片不飛散,不殘膠。2、照射UV反應時間快速,有效提升工作效率。3、保持晶粒在切割中的完整,(無任何晶粒流失)減少切割中所產生的崩碎。4、確保晶粒在正常傳送過程中,不會有位移、掉落的情形,水不會滲入晶粒與膠帶之間。5、

    2017-03-28 面議/平方米
  • 廠家直銷 芯片/玻璃切割保護膜
    廠家直銷 芯片/玻璃切割保護

    名稱:UV膜、晶圓切割膠帶品牌:YICHN顏色:透明霧面?規格:0.11*300mm*100m(可按客戶需求生產各厚度及寬幅)?產品特點:1、切割時高粘著力,照射UV后粘度很低撿拾時晶片不飛散,不殘膠。2、照射UV反應時間快速,有效提升工作效率。3、保持晶粒在切割中的完整,(無任何晶粒流失)減少切割中所產生的崩碎。4、確保晶粒在正常傳送過程中,不會有位移、掉落的情形,水不會滲入晶粒與膠帶之間。5、

    2017-03-27 面議/平方米
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