拋光粉通常由氧化鈰(VK-CE01)、氧化鋁(VK-L30F)、氧化硅(VK-SP50F)、氧化鐵、氧化鋯(VK-R30F)、氧化鉻等組份組成，不同的材料的硬度不同，在水中的化學性質也不同，因此使用場合各不相同。氧化鋁和氧化鉻的莫氏硬度為9，氧化鈰和氧化鋯為7，氧化鐵更低。氧化鈰與硅酸鹽玻璃的化學活性較高，硬度也相當，因此廣泛用于玻璃的拋光。 為了增加氧化鈰的拋光速度，通常在氧化鈰拋光粉加入氟以增加磨削率。鈰含量較低的混合稀土拋光粉通常摻有3－8的氟；純氧化鈰拋光粉通常不摻氟。 對ZF或F系列的玻璃來說，因為本身硬度較小，而且材料本身的氟含量較高，因此應選用不含氟的拋光粉為好。 基本要求 （1）微粉粒度均勻一致，在允許的范圍之內； （2）有較高的純度，不含機械雜質； （3）有良好的分散性和吸附性，以保證加工過程的均勻和，可適量添加LBD-1分散劑提高懸浮率； （4）粉末顆粒有一定的晶格形態，破碎時形成銳利的尖角，以提高拋光效率； （5）有合適的硬度和密度，和水有很好的浸潤性和懸浮性，因為拋光粉需要與水混合。

杭州恩慈拋光材料有限公司是有經驗從事稀土研磨、拋光粉制備與應用科技開發的高科技公司。本公司采用獨特的納米與亞微米粉體技術，開發命名“恩慈”牌XP-CF400、XP-CF1200、XP-CF2000型等稀土拋光粉系列品。 公司產品廣發應用于：液晶玻璃基板、手機保護貼玻璃（2.5D/3D)、手機蓋板曲面、光學鏡頭、水鉆、水晶飾品、微晶玻璃、斜邊玻璃等加工領域。 公司自從成立以來，始終秉承著“質量較好、信譽為本、技術、客戶至上”的經營理念。憑著對粉體技術儲備以及引入日本先進生產設備，在行業內迅速成長崛起，并贏得廣大客戶一致認可和好評。展望未來，我們愿與國內外客戶真誠合作，攜手同行，共創輝煌。