真空發生器是利用正壓氣源產生負壓的一種新型產品,其傳統的用途是用來吸盤配合,進行各種物料的吸附,搬運的 真空發生器的選擇小竅門: 1.選真空發生器的三要素:真空流量(L/min),真空度(bar)和實際用途。 2.真空發生器的流量大小是指在一個標準大氣壓下,真空口完全公開時的空氣吸入量。 3.這時的吸入流量也叫置換流量或體積流量。單位以標準升每分鐘、標準立方英尺每分鐘或標準立方米每小時來表示。 4.真空發生器的流量計算公式: S = 2進口同步帶.303* (V/T)*Log(P1/P2) S: 真空流量 (L/min) T: 到達非常大真空度的時間 (Min) V: 吸盤口到真空發生器的總體積 (L) P1: 非常大真空度(Bar) P2: 初始大氣壓強 (Bar) [詳情]
大家都知道真空發生器在很多行業中都有運用到,今天鼎泰公司小編來講講真空發生器在斷掉氣源后是否還能有吸力呢?而它的流量計算公式又是如何的呢? 其實這是要根據它的漏氣量或抽氣速度來選擇真空發生器的流量,根據較限真空度要求選擇真空發生器的較限真空度,有了這兩項,真空發生器的基本型號就確定了,再看附件要求,如是否帶有電磁閥、有無真空度檢驗裝置、是否有反吹功能、抗腐蝕性能、耐溫性能、外殼的機械強度要求等等。 接下來小編來介紹下真空發生器的流量計算公式: S = 2.303* (V/T)*Log(P1/P2) V: 吸盤口到真空發生器的總體積 (L) S: 真空流量 (L/min) T: 到達非常大真空度的時間 (Min) 1: 非常大真空度(力度強吸盤Bar) 2: 初始大氣壓強 (Bar) [詳情]
真空吸盤 [詳情]
真空發生器對于機械,電子行業來說是已經是很常見的了,但是對于不了解它的還是會感到陌生,今天小編就專門來介紹下它的作用及選擇方式 可以根據什么來選擇真空發生器: 主要根據漏氣量或抽氣速度來選擇真空發生器的流量,根據較限真空度要求選擇真空發生器的較限真空度,有了這兩項,真空發生器的基本型號就確定了,再看附件要求,如是否帶有電磁閥、有無真空度檢驗裝置、是否有反吹功能、抗腐蝕性能、耐溫性能、外殼的機械強度要求等等。 真空發生器就是利用正壓氣源產生負壓的一種新型,效率高,清潔,經濟,小型的真空元器件,這使得在有壓縮空氣的地方,或在一個氣動系統中同時需要正負壓的地方獲得負壓變得十分容易和方便。真空發生器廣泛應用在工業自動化中機械,電子,包裝,印刷,塑料及機器人等領域.真空發生器的傳統用途是真空吸盤配合,進行各種物料的吸附,搬運同步帶,尤其適合于吸附易碎,柔軟,薄的非鐵,非金屬材料或球型物體.在這類應用中,一個共同特點是所需的抽氣量小,真空度要求不高且為間歇工作。筆者認為對真空發生器的抽吸機理和影響其工作性能因素的分析研究,對正負壓氣路的設計和選用有著不可忽視的實際意義。 [詳情]
真空發生器具有體積小、質量輕、真空度高的特點,它是現在很受歡迎的,它受力均勻、不損壞工件 它是采用三級噴嘴結構設計,使得只利用較少的壓縮空氣就能夠產生約3倍左右的真空抽氣量,真空發生器的真空抽氣量從14L/MIN到11928L/MIN,真空度達到-92KPa,基本能夠滿足各種真空場合的需求,并且我們還不斷的研究開發使其消耗的壓縮空高低壓膠管氣更小,產生更多的真空抽量,和達到更高的真空度。 真空發生器就是利用正壓氣源產生負壓的一種新型,效率高,清潔,經濟,小型的真空元器件,這使得在有壓縮空氣的地方,或在一個氣動系統中同時需要正負壓的地方獲得負壓變得十分容易和方便.真空發生器廣泛應用在工業自動化中機械,電子,包裝,印刷,塑料及機器人等領域.真空發生器的傳統用途是吸盤配合,進行各種物料的吸附,搬運,尤其適合于吸附易碎,柔軟,薄的非鐵,非金屬材料或球型物體.在這類應用中,一個共同特點是所需的抽氣量小,真空度要求不高且為間歇工作.筆者認為對真空發生器的抽吸機理和影響其工作性能因素的分析研究,對正負壓氣路的設計和選用有著不可忽視的實際意義. [詳情]
真空發生器是通過正氣壓吹入,可以產生真空,它能節省耗氣量,且提高真空流量 它是一種真空發生器是采用壓縮空氣作為動力,利用伯努利原理,帶走真空產生套筒周圍的空氣,產生真空。該真空發生器包括真空產生套筒、套筒外殼和真空發生器底座。壓縮空氣從底座的壓縮空氣進口進入,壓縮空氣會帶動真空產生套筒內的空氣一起沿軸向流動,使得套筒外部的空氣壓力大于套筒內部的空氣壓力,外部空氣通過套筒側壁通孔流入套筒內部,再從套筒(或套筒外殼)的壓縮空同步帶輪規格氣出口流出。這個過程的簡要描述就是真空產生套筒內部的壓縮空氣帶走其外部的空氣,產生真空。 真空發生器的特性: ●也可以制作全部是PTFE 材質的 耐藥品性很好的PTFE 型,另外噴嘴和發生器的本體用PTFE溶接的樣式也可以制作。 ●本體和噴嘴的材質是不銹鋼 有SUS303 和SUS316 的材質。 ●可以使用在制造半導體的設備上 較適合使用在對藥品和瓦斯的吸引。 [詳情]