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廣州市尤特新材料有限公司

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主營:濺射靶材,鍍膜靶材,金屬靶材,旋轉靶材,平面靶材,噴涂靶材,靶材,UV玻璃油墨

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異質結靶材,HJT靶材,異質結靶材生產廠家

  • 異質結靶材,HJT靶材,異質結靶材生產廠家
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  • 供應標題:異質結靶材,HJT靶材,異質結靶材生產廠家

    價格:電儀

    發布公司:廣州市尤特新材料有限公司

    供貨總量:9999

    聯系人:楊永添

    發貨地點:廣東 廣州 花都區

    發布時間:2024年08月17日

    有效期至:2025年02月17日

    在線詢盤:在線詢盤

    產品綜合信息質量:未計算

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    基本信息

    高純靶材主要用于對材料純度、穩定性要求更高的領域,像集成電路、平板顯示器、太陽能電池、記錄媒體、智能玻璃等行業。在濺射靶材應用領域中,半導體芯片對濺射靶材的要求是比較高的,要求靶材純度很高,一般在5N(99.999%)以上。半導體產業對濺射靶材和濺射薄膜的品質要求非常高,隨著更大尺寸的硅晶圓片制造出來,相應地要求濺射靶材也朝著大尺寸、高純度的方向發展,同時也對濺射靶材的晶粒晶向控制提出了更高的要求。半導體材料市場占比在 3%左右的濺射靶材。簡單地說,靶材就是高速荷能粒子轟擊的目標材料,通過更換不同的靶材(如鋁、銅、不銹鋼、鈦、鎳靶等),即可得到不同的膜系(如超硬、耐磨、防腐的合金膜等)。

    我國磁控濺射靶材的需求量盡量保持穩定增長,截止2018年我國磁控濺射靶材需求量達到45.37萬噸。未來我國磁控濺射靶材需求量未來將繼續保持增長,預計到2025年我國磁控濺射靶材需求量將達到70.48萬噸。濺射靶材的要求較傳統材料行業高,一般要求如,尺寸、平整度、純度、各項雜質含量、密度、N/O/C/S、晶粒尺寸與缺陷控制;較高要求或特殊要求包含:表面粗糙度、電阻值、晶粒尺寸均勻性、成份與籌備均勻性、異物(氧化物)含量與尺寸、導磁率、非常高密度與超細晶粒等等。磁控濺射鍍膜是一種新型的物理氣相鍍膜方式,就是用電子槍系統把電子發射并聚焦在被鍍的材料上,使其被濺射出來的原子遵循動量轉換原理以較高的動能脫離材料飛向基片淀積成膜。這種被鍍的材料就叫濺射靶材。濺射靶材有金屬,合金,陶瓷化合物等。

    什么是靶材,如何應用于半導體行業?中國芯片究竟在哪個環節被美國“卡”了脖子?高純度濺射靶材主要應用于電子元器件制造,2019年,我國芯片自給率僅為30%左右。根據有關部門的發展規劃,2025年,中國預計將芯片自給率提升到70%,這差不多是當下美國等芯片大國的平均水平。作為一個龐大且復雜的行業,芯片行業擁有一條超長的產業鏈。其整體可分為設計、制造、封裝、四大環節。除了在設計領域,國內廠商擁有一定的打破能力,其他三個環節,尤其是在制造環節,國內廠商的能力仍有較大的提升空間。

    平板顯示鍍膜用濺射靶材主要品種有:鉬靶、鋁靶、鋁合金靶、鉻靶、 銅靶、銅合金靶、硅靶、鈦靶、鈮靶和氧化銦錫(ITO)靶材等。硅靶材作為應用于手機玻璃蓋板的重要靶材產品,它的的研發情況、現在市場占有率、以及未來市場前景如何?從行業角度看,國內靶材市場至少有十倍的***替代空間。靶材是半導體、顯示面板、異質結光伏領域等的關鍵核心材料,存在工藝不可替代性。據測算2019年大部分國家靶材市場規模在160億美元左右,而國內總需求占比超30%。太陽能方面,HJT電池成本構成中,硅片占比接近50%;非硅材料成本構成中,銀漿與靶材合計占比超過70%。2021年由于上游硅料供給受限以及虛擬商品價格波動,光伏產業鏈價格呈現短期非常態,對于電池成本構成因素的研究有較大擾動。

    HJT電池的成本主要由硅片、漿料、靶材、設備折舊和其他構成,成本占比分別為53%/25%/6%/5%/11%。目前HJT非硅成本占比約47%,而PERC電池非硅成本占比約43%,主要是HJT低溫銀漿、靶材、設備等非硅成本較高。目前HJT電池銀耗約為PERC的2倍多。PERC的銀漿通過高溫燒結固化,銀粉熔融在一起,容易形成導電通路。而HJT是低溫工藝,低溫銀漿的導電性能弱于高溫銀漿,因此需要提高銀的含量來提高導電性。未來HJT降本主要依靠硅耗減少、銀漿降本、靶材國產化、設備降本來實現。銀包銅技術有望大幅降本,柵線工藝優化降低銀耗。銀包銅是在銅的表面包裹銀粉,低溫加工工藝使得銅作為導電材料,從而降低銀的使用量。一般低溫銀漿中銀含量約92%,8%為農業生產體系物玻璃粉等,而銀包銅中銀、銅、農業生產體系物的含量分別為41%/51%/8%,使得銀含量占比降低近一半。

    靶材的生產制造具有一定的技術壁壘。由于靶材的質量直接影響TCO薄膜的一致性和均勻性,因此靶材的純度、致密度和均勻性等要求較高,靶材的金屬純度要求達到99.995%以上,靶材的致密度對TCO薄膜的電學和光學性能有顯著影響,靶材的成分、晶粒度直接影響薄膜的一致性和均勻性,因此靶材的材料和制造工藝具有一定的技術壁壘。靶材是TCO薄膜生產的核心材料。TCO薄膜生產主要采用ITO、SCOT、IWO、ICO四種靶材,濺射是制造TCO薄膜的主要工藝,利用離子源產生的離子,在真空中經過加速聚集,形成高速離子束流,轟擊固體表面,離子和固體表面的原子發生動能交換,使固體表面的原子離開固體并沉積在基底表面,被轟擊的固體稱為濺射靶材。TCO薄膜沉積主要采用PVD和RPD兩種技術,PVD技術以ITO、SCOT作為靶材,RPD以IWO、ICO作為靶材。

    廣州市尤特新材料有限公司基本信息

    廣州市尤特新材料有限公司(以下簡稱“尤特”),成立于2003年,位于羊城廣州的北面-花都,占地總面積約3萬平方米。尤特是一家專注于時尚消費電子產業、節能綠色環保產業、新材料新技術開發和應用的重要高新技術企業。尤特以生產信息存儲記錄材料為起點,經過10多年的開拓與發展,產業技術不斷迭代與升級,尤特的技術及應用涉獵范圍逐步擴大,其中主要包括:真空鍍膜靶材;環保(UV/水性)材料;觸控顯示材料;印刷技術及材料;信息存儲材料、導電散熱材料等。尤特一直倡導“新材料、促環保、美生活”企業使命。尤特遵循科學體系管理,先后通過《質量管理體系》、《環境管理體系》、《職業健康與安全管理體系》認證并有效運行,產品符合全部環境及安全標準;獲得SONY GP綠色合作伙伴全部認證等。尤特重視產品研發及技術創新,先后與"武漢大學"、"華南理工大學"、"中南大學"等高校、研究所建立"產學研"合作機制,并承擔多項省市立項的科研項目,公司目前已擁有幾十項自主研發新興材料及工藝的知識產權,是廣州市扶持科技型要點培育上市企業。尤特先后獲得相關機構的授予多個榮譽:如“國家生產力促進獎、國家有名商標、廣東省守合同重信用企業、廣東省雇主責任示范企業、廣州市安全生產標準化達標企業、廣州市工程技術研發中心、廣州科技小巨人企業、地方納稅企業”等榮譽。尤特全體同仁秉承“創造價值,分享價值“的核心價值觀,借鑒以往成功管理運營經驗,持續深挖磁控濺射鍍膜材料下游應用市場,不斷拓寬市場應用領域,做優做強鍍膜材料產業,將公司打造為--磁控濺射靶材行業者。

    主營行業:化工原料、輔料//玻璃油墨 化工原料、輔料//其它 公司注冊地址:廣州市尤特新材料有限公司 法人代表:周志宏
    員工人數:200-500人 廠房面積: 年營業額:
    年進口額: 年出口額: 主要市場:
    客戶群:
    公司名稱:廣州市尤特新材料有限公司
    注冊資本:人民幣2000萬元/年-人民幣5000萬元/年 公司網址:http://UVTMCOM.glass.com.cn

    聯系人:楊永添
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    異質結靶材,HJT靶材,異質結靶材生產廠家產品概況

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