自20世紀80年代，以集成電路、信息存儲、液晶顯示器、激光存儲器、電子控制器為主的電子與信息產業開始進入高速發展時期，用真實進入工業化規模生產應用領域。近10年來，濺射技術更是取得了突飛猛進的發展。相比PVD另一大工藝真空鍍膜，厚可控制，可在大面積基板材料上獲得厚度均勻的薄膜，合力強等優點，已成為制備薄膜材料的主要技術。電子器件靶材的原材料有鎳鉻合金、鉻硅合金等，薄膜電容。靶材的方法很多。大體上，按應用領域。等）。稀土領域，比較一體的后起之秀。在濺射靶材應用領域中，半導體靶材是制造集成電路的關鍵原材料，也是技術要求高的靶材。高集成度，半導體靶材制造原料主要有非常高純度鋁、鈦、銅、鉭等。純度鋁、銅、鉬等。

在半導體集成電路制造過程中，以電阻率較低的銅導體薄膜代替鋁膜布線。ITO片采用新型液態金屬印刷技術制成，厚度僅為1.5nm，可以沉積在各種基材上，然后可以像管一樣卷起來。氧化銦錫(ITO)導電膜具有良好的光學透光性能和導電性能，被廣泛應用于觸摸屏領域，它是電阻式與投射電容式觸控面板的基礎材料，其產業鏈下游市場為觸控模組和觸控面板。上游為光學級PET基膜、靶材和涂布液等化學原材料。從觸摸屏技術路線來看，分為掛式和內嵌式兩種。掛式電容屏技術有薄膜式和玻璃式兩種；內嵌式電容屏技術主要為In-cell和On-cell兩種。將ITO玻璃進行加工處理、經過鍍膜形成電極。銀納米線導電膜：銀納米線是一種新興的ITO導電膜潛在替代品。

濺射鍍膜靶材：高等應用領域就是TFT這一塊了，用量大的當數彩色濾光片 CF ，其次是Array。這兩塊的供應基本被國外廠商控制，國內幾家也都在向CF這塊進行送樣。另一塊的應用就是ITO導電玻璃了。二、靶材市場：1、蒸發靶材：蒸發靶材的技術難度較高（針對LED芯片市場），目前大部分國家供應只有日本住友和長沙壹納兩家，其中長沙壹納靶材目前在國內的占有率已經打破80%，品質也相對穩定。其他廠家也嘗試進入，但目前為止沒有批量導入的經驗。從設備所占市場份額看，AMAT的產品覆蓋了整個產業鏈，眾多產品市場占有率處于****水平，包括PVD沉積設備（84.9%），P設備（66%），離子注入設備（73%）領域處于****水平。此外，泛林的刻蝕機市場占有率達到52.7%，科磊的檢測設備市場占有率達到70%。

氮化物是在電子和光電子應用方面有較大潛力的新型半導體材料,它在室溫下具有高電子遷移率和良好導電性的優勢。是目前大部分國家半導體研究的熱點，是研制微電子器件、光電子器件的新型半導體材料。它具有寬的直接帶隙、強的原子鍵、高的熱導率、化學穩定性好(幾乎不被任何酸腐蝕)等性質和強的抗輻照能力。氮化物靶材的鍍層顏色，根據不同的氮化物，可以獲得不同顏色，其中，氮化鈦（TiN）金顏色涂層，良好的硬度和潤滑性，附著性好，適用于加工大部分材料。TiCN，藍灰色涂層，硬度越HV3000，耐熱400℃。TiN TiCN，深顏色涂層，良好的硬度和潤滑性，適用于加工大部分材料。

陶瓷靶材分為化合物陶瓷靶材和氧化物靶材，產品包含氧化物、氟化物、氮化物、碳化物、硼化物、硫化物、硅化物、硒化物、碲化物、磷化物以及各類混合摻雜物，純度99.5%-99.999%，適合磁控濺射鍍、熱蒸鍍、電子束蒸鍍，產品廣泛應用于各類半導體行業、太陽能光伏光熱行業、建筑、裝飾、汽車、平面顯示、LCD、LED、集成電路，元器件、磁記錄、裝飾、工具鍍膜、航空航天、****、科研等領域。不同的氮化物，可以獲得不同的鍍層顏色。其中，TiAlN是藍灰色涂層，硬度越HV3300，耐熱900℃。可用于高速加工；GrN是銀灰色涂層，良好的潤滑性能，主要用于有色金屬加工。

所謂濺射，是制備薄膜材料的主要技術，也是PVD的一種。它通過在PVD設備中用離子對目標物進行轟擊，使得靶材中的金屬原子以一定能量逸出，從而在晶圓表面沉積，濺鍍形成金屬薄膜，其中被轟擊的固體是用濺射法沉積薄膜的原材料。金屬靶材:鎳靶、N、鈦靶、Ti、鋅靶、Zn、鉻靶、Cr、鎂靶、kg、鈮靶、№b、錫靶、Sn、鋁靶、A1、銦靶、I、鐵靶、Fe、鋯鋁靶、ZrAl、鈦鋁靶、TiΔl、鋯靶、Zr、鋁硅靶、AlSi、硅靶Sⅰ、銅靶Cu、鉭靶T、a、鍺靶、e、銀靶、Ag、鉆靶、Co、金靶、Au、釓靶、Gd、鑭靶、La、億靶、Y、鈰靶、Ce、鎢靶、w、不銹鋼靶、鎳鉻靶、NiCr、鉿靶、H、鉬靶、M、鐵鎳靶、FeNi、鎢靶、W等。磁控濺射原理：在被濺射的靶極（陰極）與陽極之間加一個正交磁場和電場，在高真空室中充入所需要的惰性氣體（通常為Ar氣），較好磁鐵在靶材料表面形成250～350高斯的磁場，同高壓

電場組成正交電磁場。在電場的作用下，Ar氣電離成正離子和電子，靶上加有一定的負高壓，從靶極發出的電子受磁場的作用與工作氣體的電離幾率加大，在陰極附近形成高密度的等離子體，Ar離子在洛侖茲力的作用下加速飛向靶面，以很高的速度轟擊靶面，使靶上被濺射出來的原子遵循動量轉換原理以較高的動能脫離靶面飛向基片淀積成膜。磁控濺射一般分為二種：直流濺射和射頻濺射，其中直流濺射設備原理簡單，在濺射金屬時，其速率也快。而射頻濺射的使用范圍更為廣泛，除可濺射導電材料外，也可濺射非導電的材料，同時還可進行反應濺射制備氧化物、氮化物和碳化物等化合物材料。若射頻的頻率提高后就成為微波等離子體濺射，如今，常用的有電子回旋共振(ECR）型微波等離子體濺射。

廣州市尤特新材料有限公司（以下簡稱“尤特”），成立于2003年，位于羊城廣州的北面-花都,占地總面積約3萬平方米。尤特是一家專注于時尚消費電子產業、節能綠色環保產業、新材料新技術開發和應用的重要高新技術企業。尤特以生產信息存儲記錄材料為起點，經過10多年的開拓與發展，產業技術不斷迭代與升級，尤特的技術及應用涉獵范圍逐步擴大，其中主要包括：真空鍍膜靶材；環保（UV/水性）材料；觸控顯示材料；印刷技術及材料；信息存儲材料、導電散熱材料等。尤特一直倡導“新材料、促環保、美生活”企業使命。尤特遵循科學體系管理，先后通過《質量管理體系》、《環境管理體系》、《職業健康與安全管理體系》認證并有效運行，產品符合全部環境及安全標準；獲得SONY GP綠色合作伙伴全部認證等。尤特重視產品研發及技術創新，先后與"武漢大學"、"華南理工大學"、"中南大學"等高校、研究所建立"產學研"合作機制，并承擔多項省市立項的科研項目，公司目前已擁有幾十項自主研發新興材料及工藝的知識產權，是廣州市扶持科技型要點培育上市企業。尤特先后獲得相關機構的授予多個榮譽：如“國家生產力促進獎、國家有名商標、廣東省守合同重信用企業、廣東省雇主責任示范企業、廣州市安全生產標準化達標企業、廣州市工程技術研發中心、廣州科技小巨人企業、地方納稅企業”等榮譽。尤特全體同仁秉承“創造價值，分享價值“的核心價值觀，借鑒以往成功管理運營經驗，持續深挖磁控濺射鍍膜材料下游應用市場，不斷拓寬市場應用領域，做優做強鍍膜材料產業,將公司打造為--磁控濺射靶材行業者。

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