靶材是通過磁控濺射、多弧離子鍍或其他類型的鍍膜系統在適當工藝條件下濺射在基板上形成各種功能薄膜的濺射源。靶材通常有兩類：平面靶材和旋轉靶材，由于平面靶的利用率只有20-30％，因此，旋轉靶逐漸成為工業化鍍膜行業的主流產品。磁控濺射鍍膜靶材在使用時，需要將靶材與背管綁定，來滿足生產設備的安裝及導電、散熱要求，目前常用的綁定方法是用銦或錫作為綁定材料。因此，靶材與背管的綁定技術就成為了關鍵技術，直接影響靶材的正常使用。

濺射靶材是用濺射法沉積薄膜的原材料，主要應用于面板顯示、半導體和磁記錄薄膜太陽能領域。特別是高純度濺射靶材應用于電子元器件制造的氣相沉積工藝，是制備晶圓、面板、太陽能電池等表面電子薄膜的關鍵材料。所謂濺射，是制備薄膜材料的主要技術，也是PVD的一種。它通過在PVD設備中用離子對目標物進行轟擊，使得靶材中的金屬原子以一定能量逸出，從而在晶圓表面沉積，濺鍍形成金屬薄膜，其中被轟擊的固體是用濺射法沉積薄膜的原材料，稱為濺射靶材。相比PVD的另一種工藝——真空鍍膜，濺射鍍膜工藝可重復性好、膜厚可控制，可在大面積基板材料上獲得厚度均勻的薄膜，所制備的薄膜具有純度高、致密性好、與基板材料的結合力強等優點。已成為制備薄膜材料的主要技術。

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磁控濺射技術是一種先進的高質量薄膜沉積手段。其工作原理為：電子在電場的作用下加速飛向基片的過程中與濺射氣體原子發生碰撞，電離出大量的正離子和電子。電子飛向基片，而正離子在電場的作用下加速轟擊靶材，濺射出大量的靶材原子，呈中性的靶原子(或分子)沉積在基片上終形成所需的薄膜。硅(Si)基濺射靶材是眾多濺射靶材中發展為迅速且應用較廣的一種靶材。Si是一種傳統的半導體材料，近幾年由于磁控濺射制備薄膜技術的發展使得其在很多領域得到新的應用。

噴涂制備金屬靶是利用電弧將靶材材料加熱到熔融或半熔融狀態，借助高速氣體將其霧化，形成小的熔滴，并加速噴射到襯管或襯板表面，快速冷卻凝固成金屬涂層靶材的過程。非金屬和陶瓷靶通常是利用等離子加熱粉末材料的方法噴涂制成。 靶材熔鑄技術可分為三種不同的澆鑄形式：無襯管或襯板的整體式甩帶澆鑄、有襯管或襯板的直接澆鑄、分段甩帶澆鑄再粘結成靶材（Ag等）。熱噴涂和熔鑄靶材不同的生產過程決定了不同的成本構成。 熱噴涂靶材的生產成本隨靶材厚度的增加而加大，噴涂靶材可以通過調整噴涂工藝獲得不同的靶材尺寸，噴涂的時間、消耗的氣體和能量是影響其成本的主要因素。而熔鑄旋轉靶材的成本隨厚度變化較小，靶材先熔鑄成型，而后機械加工達到尺寸 要求。對于不同尺寸的旋轉靶材，其原材料和加工成本基本是固定的。國外企業大多使用的是噴涂工藝的旋轉陰極靶材，靶材的利用率高，高可以到達80%，因而大量節約鍍膜成本，噴涂旋轉靶材在鍍膜行業得到了廣泛應用。金屬鈮靶材。

靶材成本居高不下，是異質結電池產業化過程中的一個大阻礙。由于HJT核心生產工藝僅四步，分別對應4種專用設備：清洗制絨機、PECVD、PVD或者RPD、絲網印刷機。對比海內外四大設備，海外設備較為成熟，但核心設備價格較高不具備量產經濟性。目前海外清洗制絨機約1000萬元/臺（250MW），絲網印刷機約1200萬元/套（200MW），和國產設備價格基本一致，且性能基本相當，不構成產業化的障礙。PVD約3000萬/臺（250MW），國產設備在快速跟進，本身壁壘不高，也不是產業化的障礙。HJT量產的關鍵點在于PECVD。2019年海外應材和梅耶博格的PECVD價格接近5億元/GW，設備雖然成熟但價格太高。整線的設備投資達到7-8億元。fe。

不同用途的靶材對不同雜質含量的要求也不同。例如，半導體工業用的純鋁及鋁合金靶材，對堿金屬含量和放射性元素含量都有特殊要求。密度為了減少靶材固體中的氣孔。日本顯示公司（簡稱JDI）日前宣布與半導體能源研究所簽署了技術開發協議，雙方將聯合開發用于代顯示器（包括OLED顯示器）的氧化物半導體背板技術（Ode-semiconductorbackplechnolo）。SEL的背板技術被稱為c-軸對齊晶體（CAAC），是其與夏普（Sharp）聯合開發的。CAAC是基于具有新型晶體結構的IGZO薄膜。SEL表示，CAAC-IGZO（稱之為氧化物半導體CAAC-OS）具有極低的關閉電流，可較大地降低功耗。SEL成功制備了CAAC-OS原型背板。

公司主要生產平板顯示器用靶材，鍍膜玻璃工業（主要包括建筑玻璃，汽車玻璃，光學鍍膜玻璃等）用靶材，電阻靶材，汽車車燈鍍膜用靶材等。主營真空鍍膜靶材、濺射靶材、鈦靶、鉻靶、鎳靶、鋯靶、鈦鋁靶、銅靶等。在冶金礦產－金屬加工材行業獲得廣大客戶的認可。公司秉承“保證高等質量，保持一級信譽”的經營理念，堅持“客戶”的原則為廣大客戶提供優質的服務。歡迎來電洽談業務！尤特新材生產的靶材等具有高純度、高密度、高加工精度、晶粒細小、籌備均勻等優點，歡迎各界人士前來選購，若您還有濺射靶材相關的任何任何疑問，歡迎免費咨詢服務。尤特新材始終堅持誠信生產經營、重、守信譽、堅持質量、用戶至上。始終保證材料的品質。追求用戶的終身價值和品牌效益。

靶材的方法很多。大體上，可以按材質、按形狀、按應用領域。按形狀可分為長靶、方靶、圓靶。金屬靶材（純金屬鋁、鈦、銅、鉭等）、合金靶材（鎳鉻合金、鎳鈷合金等）、陶瓷化合物靶材（氧化物、硅化物、碳化物、硫化物等）。按應用領域靶材可分為半導體芯片靶材、平板顯示靶材、太陽能電池靶材、信息存儲靶材、工具改性靶材、電子器件靶材、其他靶材。稀土領域，UVTM是全國范圍內稀土技術能力比較一體的后起之秀。尤特新材具備從稀土選礦、稀土分離，稀土金屬制備的全流程原創技術。現在大部分國家范圍內70%的稀土選冶都源于我們的技術。目前尤特新材是大部分國家能生產多種非常高純稀土金屬的企業。材料技術也具備國內****水平。遼純靶材。ti。

廣州市尤特新材料有限公司（以下簡稱“尤特”），成立于2003年，位于羊城廣州的北面-花都,占地總面積約3萬平方米。尤特是一家專注于時尚消費電子產業、節能綠色環保產業、新材料新技術開發和應用的重要高新技術企業。尤特以生產信息存儲記錄材料為起點，經過10多年的開拓與發展，產業技術不斷迭代與升級，尤特的技術及應用涉獵范圍逐步擴大，其中主要包括：真空鍍膜靶材；環保（UV/水性）材料；觸控顯示材料；印刷技術及材料；信息存儲材料、導電散熱材料等。尤特一直倡導“新材料、促環保、美生活”企業使命。尤特遵循科學體系管理，先后通過《質量管理體系》、《環境管理體系》、《職業健康與安全管理體系》認證并有效運行，產品符合全部環境及安全標準；獲得SONY GP綠色合作伙伴全部認證等。尤特重視產品研發及技術創新，先后與"武漢大學"、"華南理工大學"、"中南大學"等高校、研究所建立"產學研"合作機制，并承擔多項省市立項的科研項目，公司目前已擁有幾十項自主研發新興材料及工藝的知識產權，是廣州市扶持科技型要點培育上市企業。尤特先后獲得相關機構的授予多個榮譽：如“國家生產力促進獎、國家有名商標、廣東省守合同重信用企業、廣東省雇主責任示范企業、廣州市安全生產標準化達標企業、廣州市工程技術研發中心、廣州科技小巨人企業、地方納稅企業”等榮譽。尤特全體同仁秉承“創造價值，分享價值“的核心價值觀，借鑒以往成功管理運營經驗，持續深挖磁控濺射鍍膜材料下游應用市場，不斷拓寬市場應用領域，做優做強鍍膜材料產業,將公司打造為--磁控濺射靶材行業者。

地區：廣東 廣州 花都區
網址: http://UVTMCOM.glass.com.cn

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