旋轉鉻靶,國內高純鎳鉻合金靶材的發展狀況 ? ? ? 目前,國內外鎳鉻合金靶材在純度方面的差距顯著,國內所生產的鎳鉻合金靶材能達到4N級,而日本相關靶材廠家制備的鎳鉻靶可以達到5N以上。超高純、高利用率與良好的濺射沉積均勻性是高質量靶材所追求的優良特性,因此在靶材基本制備方法的基礎上,需要不斷優化工藝提高靶材質量,具體地,從高純化、提高磁透率(PTF)以及組織結構控制等方面提高靶材質量,將成為鎳鉻
2024-07-21 面議/套? ? ? 磁控濺射鍍膜是種新型的物相鍍膜方式,相比于蒸發鍍膜方式,其在很多方面有相當明顯的優勢。作為項已經發展的較為成熟的技術,磁控濺射已經被應用于許多域。濺射靶材主要應用于電子及信息產業,如集成電路、信息存儲、液晶顯示屏、激光存儲器、電子控制器件等;亦可應用于玻璃鍍膜域;還可以應用于耐磨材料、高溫耐蝕、裝飾用品等行業。材料設備環節是國內發展薄弱的環節,只有在技術壁壘相對較弱的靶材、封裝基板、P
2024-07-20 面議/套? ? 業內相關人士指出,結合薄片化技術可進一步降低異質結電池的硅用量,節省成本。晉能科技非常異質結電池量產平均效率已達到23.85%,預計2020年底將達到24.2%。此外鈞石、中智異質結電池量產效率均打破24%。漢能成都研發中心研發的一體積SHJ電池轉換效率達到25.11%,這也是大部分國家范圍內較高的效率。業內預計異質結電池在短中期可實現25%的轉換效率。異質結電池可雙面發電,高溫發電性能好
2024-07-20 面議/套? ? ? 平面鉻靶濺射技術與真空蒸發技術有所不同。“濺射”是指荷能粒子轟擊固體表面(靶),使固體原子或分子從表面射出的現象。射出的粒子大多呈原子狀態,常稱為濺射原子。用于轟擊靶的濺射粒子可以是電子,離子或中性粒子,因為離子在電場下易于加速獲得所需要動能,因此大都采用離子作為轟擊粒子。打孔鉻靶濺射過程建立在輝光放電的基礎上,即濺射離子都于氣體放電。不同的濺射技術所采用的輝光放電方式有所不同。直流二
2024-07-20 面議/套? ? ? 中國集成電路材料現狀如何?靶材是薄膜制備的關鍵原料之一,半導體在靶材應用中約占10%。2016年靶材市場增速達到20%,2017年-2019年仍將保持復合增速13%,到2018年大部分國家靶材市場空間達到983億元,超越大部分國家金屬鈷和碳酸鋰合計941億元的市場,未來潛力巨大。高純金和高純銀因具有接觸電阻小,熱阻低,熱效應力小和可靠性高等優點,其靶材材料廣泛應用于背面金屬化系統、汽車
2024-07-20 面議/套? ? ? 市場分析預測,單晶產品將在2020市占率達到50%,主要為PERC產品,預計雙面產品將占據主流。受PERC產能擴張影響,過去一年,PERC/PERT/PERL電池開始接近常規電池的市場份額。從實驗室到量產,保持穩定且可持續的效率提升,是PERC電池目前要做的功課。2018-2020國內靶材顯示市場預測。高品質靶材生產制造企業大部分國家銦消費的70%都用來生產ITO靶材電子半導體和無線電
2024-07-20 面議/套? ? ? 靶材按材料種類型分,可分為金屬靶材、合金靶材、化合物靶材。如何燒制是個問題,而燒結大尺寸的ITO靶材就意味著需要大型的爐子。2018年的數據顯示,塊靶材。首先需要把氧化銦和氧化錫粉末按嚴格的比例混合,然后生產加工成地板磚的形狀,1700攝氏度的高溫燒制,形成的黑灰色陶瓷半導體就是ITO靶材。目前,大部分國家銦的保有量只有1.6萬噸,中國的銦保有量約1萬噸,到62%。接下來是秘魯的580
2024-07-20 面議/套旋轉硅靶 Rotatable Si target應用領域: 用于制作SiO2/Si3N4膜,主要用于光學玻璃、觸摸屏之AR膜系,Low-E玻璃膜系, ,半導體,平面顯示,觸摸屏,產品化學成分和物理性能:化學式:Si,電阻率(20°C): ≤ 70 Ω. cm。 金屬鋁靶材Al,金屬銻靶材,金屬鉍靶材Bi,金屬鎘靶材Cd,硼靶材B,碳靶材C,石墨靶材C,稀土金屬鈰靶材Ce,金屬鉻靶材Cr,金屬鈷靶材
2024-07-20 面議/件真空鍍膜機門窗五金配件的保鏢,鋁合金在門窗中的應用廣泛,真空鍍膜使五金配件的使用和裝飾功能達到雙重功效。現代建筑門窗按型材品種大致可分為:塑料窗、復合材料窗、鋁合金窗,其中鋁合金窗是如今我國主要的建筑門窗產品,在當今建筑中占相當大比重。事實上無論從抗風壓、水密性、氣密性等性能還是從環保方面,鋁合金窗都有其優越性。 采用新技術、新工藝、新材料是提高門窗五金配件耐腐蝕性的必由之路。國外五金生產商采用真
2024-07-20 面議/條