廠家供應藍寶石粗磨拋光墊? ? ? ? LD92,高硬度,耐酸堿,可適應不同酸堿度的研磨液,適用于藍寶石粗拋,可替代國外拋光墊。 常用規格 長方片:1400×590,1400×640,1400×700mm等; 方片:850×850,900×900,1000×1000, 1200×1200,1400*1400mm等; 圓片:直徑由75-1400mm 等各種尺寸。?? 常用厚度 0.5、0.8、1.
2024-08-31 面議/張2.5D/3D曲面玻璃、金屬板自面世以來,受到業界熱捧,?為保證其表面光滑且具有良好的光澤度,通常需要對其表面進行拋光處理,現階段曲面玻璃和金屬面板的拋光工藝是用玻璃拋光地毯、鬃刷或尼龍刷配合拋光液使用。但由于鬃刷和尼龍刷的刷毛表面比較光滑,在拋光時,很難帶動拋光液進行有效地拋光玻璃或金屬的曲面。因此,其生產效率和良品率極其低下,嚴重制約了產品上市的進程。目前也有使用白色纖維皮進行拋光,同樣存在著
2024-08-30 面議/個LDD68 米色,精磨粗拋墊,磨拋速率高,耐熱、耐酸堿,拋出來的工件不易塌邊,劃傷少,良率高,耐磨壽命長。 應用領域:常用于金屬材料替代銅盤、鐵盤精磨,精磨后可大幅縮短后道拋光時間,綜合性價比高。 常用規格長方片:1400×590,1400×640,1400×700等方片:850×850,900×900,1000×1000,?1200×1200,1400*1400mm等;圓片:直徑由75-1400
2024-08-30 0超纖硅片、晶圓用拋光墊白磨皮? 白色,拋光速率高,可適應不同材質拋光液,不劃傷表面,良率高。 應用領域:適用于藍寶石窗口片、襯底、硅片、半導體材料等的精磨拋和粗中拋。常用規格方片:850×850,900×900,1000×1000,1200×1200,1400*1400mm等;圓片:直徑由75-1400mm等;可根據客戶需求定做任意規格。?常用厚度1.0、1.3、1.5、2.0、3.0mm;特殊要
2024-08-30 面議/張阻尼布: 產品特點:(1)在拋光過程中彈性好,力道柔和,無劃傷;? ? ? ? ? ? ? ? ?(2)質地細膩,厚度均勻,使用壽命長。 應用范圍:用在光學儀器的夾具和光學鏡頭、透鏡的拋光防護以及光學元件、光學玻璃、晶體和金屬材料等的終道拋光。 產品范圍:寬度(mm):50-1350;? ? ? ? ? ? ? ? ?厚度(mm):0.5、0.8、1.0、1.2、1.4。
2024-08-30 面議/張全鋪研磨墊: 利用微粉金剛石與樹脂螯合而成,研磨效率高,不劃傷。 應用領域:適用于紅外硫系小球、陶瓷等材料精磨 常用規格:φ640*235mm、φ620*280mm,可根據客戶研磨盤尺寸訂制。
2024-08-30 面議/張LD88 ? 棕紅色,高硬度拋光墊,拋光效率高,定光圈優于LD77; 應用領域:光學玻璃平面拋光。 ? 常用規格長方片:1400×590,1400×640,1400×700等方片:850×850,900×900,1000×1000,?1200×1200,1400*1400mm等;圓片:直徑由75-1400mm?等各種尺寸。??常用厚度0.5、0.8、1.0、1.27、1.5、2.0、2.5、3.0
2024-08-30 面議/張LV92? ? 綠色,高硬度拋光墊,拋光速率高,耐熱、耐酸堿,在研磨拋光過程中保持高切削效率的同時不易對工件產生劃傷,拋出來的工件平坦度好,良率高,耐磨壽命長。 應用領域:常應用在藍寶石襯底、窗口片的研磨和減薄、光學晶體、硬質玻璃和晶體、超硬陶瓷和合金、磁頭、硬盤、芯片等領域的研磨和拋光。LV92+堿性氧化鋁研磨液,研拋藍寶石窗口片2um/h,95%良率。 常用規格長方片:1400×590,140
2024-08-30 面議/張LD77? ? 棕紅色,切削率高,少修整,無劃傷,45度熱衰減少; 應用領域:常用在光學鏡片、手機基板玻璃、TFT玻璃,光纖拋光,金屬材料拋光。 常用規格 長方片:1400×590,1400×640,1400×700等方片:850×850,900×900,1000×1000,?1200×1200,1400*1400mm等;圓片:直徑由75-1400mm?等各種尺寸。??常用厚度0.5、0.8、1.
2024-08-30 面議/張