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? 理想能源以開發半導體設備的嚴謹態度和精細工藝來設計制造太陽能光伏設備。自2010年3月成功開發出靠前臺LPCVD設備以來,理想能源的設備已經在客戶處平穩運行至今。理想能源的設備具有以下特點 (加插圖1及插圖2): ? ? 精細穩定:所鍍氧化物薄膜厚度可在100-1700納米范圍內自由設定,膜厚均勻性低于10% ? ? 高產能:根據所鍍膜厚度不同,鍍膜節拍范圍40-170秒,設備有效工
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