供應RP100-Ⅱ型平面環拋機

RP100-Ⅱ型平面環拋機是屬于高精度的平面元件加工設備，可用于光學行業玻璃，硅、金屬模具等平面的研磨拋光和加工。 本設備主軸電機采用變頻器來實現電機的調速性能，工件環大小可根據需求任意調節，可滿足客戶加工各種超薄超厚的元件需求，有同時工作的三個工位，每個工位都有課自行修正工作臺面的磨盤套，磨盤套內可放置不同重量的配重盤。 本設備工作臺面采用 天然花崗巖，平穩性好，加工面形好，噪音低，是光學冷

2018-02-01 0

供應單面加壓磨拋機

SPP160-4A型單面加壓磨拋機主要用于硅片、玻璃、機械密封件金屬和非金屬等超硬材料的單面研磨拋光。 ?本設備機床采用大功率蝸輪減速箱，大型推力球軸承,變頻調速驅動系統出力扭矩大,?啟動、停止平穩無沖擊。計數自動控制,?當達到預置時自動停車。 壓盤可自動調整平行，故能較好地實現工件的單面研磨,每個工件環可通過設置于臺面下方的壓力調節閥單獨調整壓力。???? ???????主?要?技?術?參

2014-12-17 0

供應GP120型高精度研磨拋光

GP120型高精度研磨拋光機主要用于光學玻璃、石英、晶體、金屬和非金屬高精度的拋光，也可以進行大曲率半徑球面透鏡的加工。本設備采用兩個獨立變頻無級調速系統,分別控制主軸、擺軸的調速，可自由調節速度轉速，調節范圍大 采用雙電機拖動，上、下研磨盤及內齒圈由一個主電機驅動，變頻調速，可以對工作速比進行及時準確控制，能適應不同研磨工藝的要求。 主 要 技 術 參 數： 1．主軸精度 ≤0.02 mm

2013-06-25 0

供應RP100-Ⅰ型平面環拋機

RP100-Ⅰ型平面環拋機是屬于高精度的平面元件加工設備，可用于光學行業玻璃，硅、金屬模具等平面的研磨拋光和加工. 設備的夾持臂電機采用調速器，主軸電機采用變頻器來實現電機的調速性能，工件環大小可根據需求任意調節，可滿足客戶加工各種超薄超厚的元件需求. ? 本設備工作臺面采用球墨鐵，能確保在不同環境以及溫差相對較大的情況下精度不受影響，平穩性好，噪音低，能源低，是光學冷加工的理想設備。

2013-06-24 0

供應可斜式球面研磨拋光機

XXP15-4S型斜軸機主要用于各種球面和曲面，單片或成盤光學零件的精磨拋光工序，也適用于其它硬脆材料的加工。 機床有兩組工作單元，工作單元由兩組獨立控制主軸及對應的壓力頭組成工作系統。擺架采用氣動加壓的方式，鐵筆桿的運動采用了較為復雜的近似橢圓軌跡，有利于提高機床的加工效率和工件的面型精度。機床的主軸可在0~45°范圍內進行傾斜調整，以適應不同曲率鏡片的加工需要 ? ? ? 。 主要

2013-06-24 0

供應PR30-2S型兩軸平面高拋

PR30-2S型兩軸平面高拋機主要用于玻璃、石英光學元器件的研磨拋光。本設備具有節能、低噪音、效率高、操作方便等優點，加工精度高，主軸、擺軸 可單獨調整，擺架采用氣缸加壓系統加壓，是理想的光學冷加工設備。 主要技術參數： 1. 主軸數 2 2. 加工范圍 300mm 3. 主軸參數 M27×3 4. 主軸跳動 ≤0.01 mm 5. 主軸轉速 0—600 r/

2013-06-24 0

供應大單軸研磨拋光機

GP160型大單軸研磨拋光機主要用于平面,凹凸球面以及非球面的研磨拋光。本設備采用兩個獨立變頻無級調速系統,分別控制主軸、擺軸的調速，可自由調節速度轉速，調節范圍大。副擺壓力由氣動系統控制，也可使用重件調節。 主 要 技 術 參 數： 1．主軸精度 ≤0.02 mm 2. 加工范圍 1400 mm 3．主軸轉速 6-60r/min 4. 擺頻 4-40r/min 5. 主擺可調范圍 7

2013-06-24 0

供應大型高精度環拋機

RP160-Ⅱ型平面環拋機是屬于高精度、率的平面元件加工設備，可用于光學行業玻璃，硅、金屬模具等平面的研磨拋光和加工。 本設備工件環靠輪座可升降，滿足用戶加工超厚零件的需求，由于零件大小、自重的輕重、磨擦阻力大小，在靠輪上增加了助旋轉系統以減輕磨擦的阻力，保證工件的自然運行，沒有停頓的空間來保證工件的精密度，加工零件平面精度可達λ/20 以上。 本設備工作臺面采用天然花崗巖不變形，平穩性好，加

2013-06-24 0

供應RP80型平面環拋機

RP80型平面環拋機可用于光學行業玻璃，硅、金屬模具等高精度平面元件產品的研磨拋光。本設備采用濟南青大理石磨盤，平穩性好，加工面形好，噪音低，是光學冷加工行業的理想設備。控制系統采用全變頻獨立調速，工作臺面水槽為不銹鋼材料。 主 要 技 術 參 數： 1．主軸轉速 0-20r/min 2. 較大加工范圍 400 mm 3. 重量 800kg 4. 磨盤直徑 800 mg 5. 研磨工位

2013-06-24 0