東莞供應硅靶硅靶材 光學鍍

? 硅靶材規格： ? ●??尺寸01：直徑1mm （圓片/圓臺/圓棒） ●??尺寸02：長度1mm? ?矩形/片材/臺階狀(可拼接） ●??尺寸03：外直徑1mm 壁度>1mm 長度>1mm（管材/圓環/旋轉靶材） 用途： 濺射材料;鍍膜材料;電子;;機械;航空航天;飾品;家裝材料;儀器儀表;汽車;冶金;五金;研發 ? 安全措施?? ? ?? ?1.貯于陰涼通風處,不可

2015-11-06 面議/千克

光學真空鍍膜用 超細二氧化

? 基本簡介 二氧化硅（化學式：SiO2）是一種酸性氧化物，對應水化物為硅酸（H2SiO3）。二氧化硅是硅較重要的化合物。地球上存在的天然二氧化硅約占地殼質量的12%，其存在形態有結晶行和無定形兩大類，統稱硅石。 二氧化硅是制造玻璃、石英玻璃、水玻璃、光導纖維、電子工業的重要部件、光學儀器、工藝品和耐火材料的原料，是科學研究的重要材料。 用途：? 一:鏡片表面所用鍍膜:? 1.具有

2015-07-07 面議/千克

凱曼光學鍍膜鉻靶材

? ? 凱曼光電專業生產高品質濺射靶材，金屬靶材。產品通過各種方法（磁控濺射、真空鍍等）應用真空鍍膜、光學鍍膜的各種領域：科學研究，航天航空，汽車，微電子，集成電路產業，光源，光學，裝飾，平面顯示器產業，信息存儲產業，數據存儲等等。? ? ??本公司生產的磁控濺射靶材、蒸鍍材料和納米材料主要應用于:玻璃鍍膜(觸控和建筑玻璃)工業, 平板液晶顯示器（LCD）,光通訊工業, 數據儲存工業等行業。

2015-07-07 面議/千克

東莞凱曼鉻粒鉻粉鍍膜材料

? 鉻塊 銀色金屬，質極硬，耐腐蝕。密度7.20克/cm3。熔點1857±20℃，沸點2672℃。化合價+2、+3和+6。電離能為6.766電子伏特。金屬鉻在酸中一般以表面鈍化為其特征。一旦去鈍化后，即易溶解于幾乎所有的酸中。在高溫下被水蒸氣所氧化，在1000℃下被一氧化碳所氧化。在高溫下，鉻與氮起反應并被堿所侵蝕。可溶于強堿溶液。鉻具有很高的耐腐蝕性，在空氣中，即便是在赤熱的狀態下，氧化也很

2015-07-07 面議/千克