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光刻掩膜版，簡稱掩膜版，是微納加工技術常用的光刻工藝所使用的圖形母版。由不透明的遮光薄膜在透明基板上形成掩膜圖形結構，再通過曝光過程將圖形信息轉移到產品基片上。

光學掩模板是在薄膜、塑料或玻璃基體材料上制作各種功能圖形并精 確定位，以便用于光致抗蝕劑涂層選擇性曝光的一種結構。掩膜版應用十分廣泛，在涉及光刻工藝的領域都需要使用掩膜版，如IC（集成電路）、FPD（平板顯示器）、PCB（印刷電路板）、MEMS（微機電系統）等。光掩模板主要由玻璃基板與遮光膜兩部分組成，其中玻璃基板成本占整體材料成本的90%。光掩模玻璃基板是指用于制作光掩模板的空白玻璃，也被稱作制版玻璃。

光掩模板材料成本分布

資料來源：智研咨詢整理

集成電路是現代化工業的“大腦”，是國家科技戰略的基礎和工業發展的紐帶，集成電路產業發展水平從一定程度上反映了國家創新制造水平。目前，國內電子信息產業持續高速發展，提升了我國集成電路行業的景氣度，近年來，在國家政策的支持下，企業不斷加大對集成電路的研發投入，中國集成電路產量不斷擴大，2021年1-11月中國集成電路產量3295.1億塊，同比增長37.1%。

2011-2021年11月中國集成電路產量

資料來源：國家統計局、智研咨詢整理

二、需求量

近年來，隨著中國集成電路、平板顯示器等行業的快速發展，光刻掩膜版需求量不斷增長，帶動原材料光掩模玻璃基板需求量也逐年增加，2020年中國光掩模玻璃基板需求量為10.0萬平方米，2020年增加至11.5萬平方米。發展初期，我國光掩模玻璃基板主要依賴進口，2010年以來，我國加大了對光掩模玻璃基板研發和產業化進程，我國企業不再純粹依賴國外進口。

2015-2020年中國光掩模玻璃基板需求量

資料來源：智研咨詢整理

與光掩模玻璃基板有關標準

資料來源：國家市場監督管理總局、智研咨詢整理

目前被用來制作光掩模玻璃基板基本材料包括合成石英、硼硅玻璃和蘇打玻璃等，其中合成石英化學性質最為穩定，具有高硬度、低膨脹系數和透光性強等優勢，被廣泛運用到具有較高精度要求的產品生產中，在光掩模玻璃基板需求量材料分布占比中，石英材料占比不斷提升，由2015年的27%提升至2020年的42%。

2020年中國光掩模玻璃基板需求量材料分布

資料來源：智研咨詢整理

從應用領域分布來看，IC、FPD為光掩模玻璃基板主要應用領域，2020年合計占比超總需求量的95%，其中IC光掩模玻璃基板需求量約為5.6萬平方米，占比49%；FPD光掩模玻璃基板需求量約為5.3萬平方米，占比46.5%。

2015-2020年中國光掩模玻璃基板需求量分布

資料來源：智研咨詢整理

隨著半導體集成電路（IC）、顯示面板（FPD）和PCB等產業重心向中國傾斜和轉移，帶動我國光掩模板行業等迅速發展，作為光掩模板上游的光掩模玻璃基板產業必受到強有力的拉動，尤其是光掩模石英玻璃基板的發展將進一步加快。