日常生活中我們經常會接觸到各種類型的玻璃材料，除了傳統的平板玻璃以外，還有超白玻璃、高硼硅玻璃等具有特殊性質的玻璃材料，以及中空玻璃、夾膠玻璃一類的常用材料。為了讓大家進一步認識幕墻玻璃的維護方法與藝術玻璃的加工手法，我們搜集資料編排了這篇文章，希望能有所幫助。

一、幕墻玻璃的維護方法

        幕墻的重要組成部分是玻璃，而玻璃又是易損件，因此管理和保護十分重要。

        在保存的地方廣泛的流通空氣是必要的。尤其是在高溫及循環溫度周期內更應注意。如果條件不允許將它們存放在室內，那么應該用防水油布或塑料覆蓋起來，以防風吹入的雨及流入的水，并且應定期打開罩布檢查是否水氣凝結。

        玻璃必須罩上不透光的防護罩，決不能直接放在太陽光下保存。堆放各類玻璃應以與垂直方向 5 °-7 °角直立放著，并斜靠在一個牢固的直壁上。所有玻璃的頂邊和底邊應該用油毛氈墊上，并且用保護紙板或其他油毛氈將其分開。如果玻璃是平放著的，就必須用油毛氈蓋住表面，以防止灰塵、砂粒玻璃片或其他污染物。

        在施工期間的保護。在施工中通常是用鮮艷的小旗、彩飾帶子等懸掛在玻璃附近或貼附在窗框前方、側柱或窗臺上以標記出這是安裝玻璃的空間。決不要讓繩索直接觸到玻璃，并且也不要讓記號或涂料直接畫在玻璃表面上，如果焊接、切割噴沙或者其他可能損傷玻璃的建筑工藝在接近玻璃的地方采用，則必須應用膠合板或塑料板作為一層嚴密的隔離層板以防止它們影響以至損壞玻璃。

二、藝術玻璃有哪些加工手法

        冷加工類

        1.鑲嵌玻璃(傳統鑲嵌,英式鑲嵌,金屬焊接鑲嵌)

        2.化學蝕刻(圖案蒙砂,絲印圖案蒙砂,圖案凹蒙)

        3.工具雕刻(各式砂輪,砂條雕刻,晶剛刻刀,電腦車花)

        4.噴砂雕刻(手工刻膠紙掩模,機刻膠紙掩模,光刻掩模,漆料肌理掩模)

        5.激光雕刻(電腦控制激光雕刻)

        6.切割造型(刀切割,水切割)

        7.粘貼造型(平面粘貼,空間粘貼,彩色玻璃和膠膜的粘貼,彩色珠/砂/條/件的粘貼,多層疊粘,貼金)

        8.立線(立線彩晶,立線漆浮雕造形)

        9.彩繪(噴槍彩繪,畫筆彩繪,絲印彩圖,聚晶)

        10.鍍膜/鍍鏡(包括鏡畫)

        11.冰花(冰花)

        12.夾層(En膜夾層:花布,花紙,彩色膠膜,金屬絲網等)

        13.噴漆(自干的油漆在常溫晾干)

        14.絲印 一般叫絲網印刷

        15洗銀/洗膜 此工序與鍍膜/鍍鏡是反向的工藝.

        熱加工類

        1.吹制(Blown):用管子蘸玻璃液珠后吹制:人工鋼模/機制鋼模吹制,人工自由造形:吹拉滾摔粘切.

        2.鑄造(Cast):把玻璃液壓注或流入模中成形:鋼模壓鑄玻璃磚,手工澆鑄彩色玻磚,平面澆鑄藝術玻璃,失蠟精鑄,琉璃工坊.

        3.壓制(Pressing):把玻璃液引出,用軋輥壓花或壓彩色肌理和底紋的玻板:機制壓花玻璃,手工壓花藝術玻璃,機制玻璃馬賽克.

        4.燒結:把玻璃粉等在模中高溫燒結成形:泡沫玻璃或微晶玻璃等的模燒工藝品.

        5.熔凝(Fusing):把玻璃全熔凝至玻液,并在其表面張力下凝聚:熔凝的玻珠,玻璃手飾和工藝品等.

        6.彩釉(Enamel):使用高溫彩釉在玻璃表面上色或彩繪:彩釉色玻,彩釉彩繪.

        7.疊燒:把疊層玻璃燒粘黏成一體:疊熔,疊燒,夾絲/件.

        8.熔模(Ssgging):把平板玻璃燒熔,凹陷入模成形:國內稱為“熱熔玻璃”的大部分產品.

        9.熱彎(Slumping):把玻璃燒軟自由下垂變形:曲面熱彎,熱彎生產“洗手盆”,“水族箱”等.

        10夾膠:用EVA膠片或PVB膠片把各種材質粘連固化在兩層或多層玻璃中.如“夾鐵絲玻璃”、“夾植物玻璃”、“防彈玻璃”等

相關概念

玻璃

        玻璃是非晶無機非金屬材料，一般是用多種無機礦物(如石英砂、硼砂、硼酸、重晶石、碳酸鋇、石灰石、長石、純堿等)為主要原料，另外加入少量輔助原料制成的。它的主要成分為二氧化硅和其他氧化物。普通玻璃的化學組成是Na2SiO3、CaSiO3、SiO2或Na2O·CaO·6SiO2等，主要成分是硅酸鹽復鹽，是一種無規則結構的非晶態固體。廣泛應用于建筑物，用來隔風透光，屬于混合物。另有混入了某些金屬的氧化物或者鹽類而顯現出顏色的有色玻璃，和通過物理或者化學的方法制得的鋼化玻璃等。有時把一些透明的塑料（如聚甲基丙烯酸甲酯）也稱作農業生產體系玻璃。

掩模

        掩模版（mask）簡稱掩模，是光刻工藝不可缺少的部件。掩模上承載有設計圖形，光線透過它，把設計圖形透射在光刻膠上。掩模的性能直接決定了光刻工藝的質量。在投影式光刻機中，掩模作為一個光學元件位于會聚透鏡（condenser lens）與投影透鏡（projection lens）之間，它并不和晶圓有直接接觸。掩模上的圖形縮小4~10倍（現代光刻機一般都是縮小4倍）后透射在晶圓表面。為了區別接觸式曝光中使用的掩模，投影式曝光中使用的掩模又被稱為倍縮式掩模（reticle）。

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