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氧化釓（ Gd2O3）靶材 99.99氧化釓（Gd?O?）陶瓷靶材 元素 ： Gd?O? ???? 純度 ： 3N ???? 形狀 ： 平面靶材 ???? 氧化釓陶瓷靶材是一種含有Gd和O的氧化物濺射材料，其熔點2420 ℃，密度7.407g/cm?。如需更多詳情，歡迎電話咨詢獲得更多優惠! ? 氧化釓陶瓷靶材規格 直徑：1.0英寸, 2.0英寸, 3.0英寸, 4.0英寸, 5.0英寸 , 6.0英寸 ? 氧化釓陶瓷靶材應用 用于
2024-06-20 面議/片 -
氧化釤（Sm2O3）靶材 99.99%高純4N（99.99%）氧化釤陶瓷靶材 氧化釤陶瓷靶材是一種化合物鍍膜材料，其熔點 2335℃，密度8.347g/cm?。 氧化釤濺射靶是我們受歡迎的稀土陶瓷靶之一。如需更多詳情，歡迎電話咨詢獲得更多優惠! 氧化釤陶瓷靶材規格 直徑（200mm）、長度（300mm）、寬度（200mm）、厚度（1mm）、定制 氧化釤陶瓷靶材應用 用于光學和紅外吸收玻璃以吸收紅外輻射。此外，它還用作核動力反應堆控制
2024-06-20 面議/片 -
高純銀（Ag）靶材 99.99%高純銀靶材 純度：99.99% 符號：Ag 原子量：107.87 熔點：961.8℃ 沸點：2210℃ 密度：10.5 顏色：銀白色金屬 常規金屬靶材如鋁、鋅、鎳、銅等采用熔煉鑄造工藝，以高純金屬錠為原料，通過熔煉、鍛造、熱處理和精密機械加工而成。 產品優勢：純度高、晶粒尺寸小而均勻、表面平整度高。
2024-06-05 面議/片 -
高純鋁（Al）靶材 99.999%鋁是一種銀白色輕金屬，有很好的延展性，在潮濕的空氣中能形成一層防止金屬腐蝕的氧化膜。鋁膜從紫外區到紅外區具有平坦而且很高的反射率，鋁膜對基底的附著力比較強，由于鋁膜表面總是存在著一層透明的氧化鋁薄膜的保護，所以鋁膜的機械強度和化學穩定性都比較好，通常真空蒸發制備的鋁膜呈銀灰色，但有時也呈黑色。主要應用：保護膜，反射膜，增透膜。主要用于制造光電子存儲媒體，作為集成電路的配線等。北京金源新材科技有限公
2024-06-05 面議/片 -
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二氧化鈰（CeO2）靶材 99.99氧化鈰濺射靶材，用作玻璃工業添加劑，目前已擴大到眼鏡玻璃、光學透鏡、顯像管的研磨，起脫色、澄清、玻璃的紫外線和電子線的吸收等作用。 ?氧化鈰陶瓷靶材參數 熔點：2600℃ 密度：7.13 折射率：2.2 透明波段:0.46-11 ?
2024-06-03 面議/片 -
二氧化鋯（ZrO2）靶材 99.99二氧化鋯陶瓷靶材是一種白色結晶的鋯氧化物，密度5.89g/cm3，熔點為 2715℃，沸點為4300℃。 主要用于薄膜沉積，通常用于燃料電池、裝飾、半導體、顯示器、LED 和光伏器件、玻璃涂層等。其他用途包括作為二氧化鈦顏料顆粒的保護涂層、作為耐火材料、作為薄膜涂層材料、絕緣材料、燃料電池、磨料和搪瓷。
2024-06-03 面議/片 -
二氧化鉿（HfO2） 靶材 99.9二氧化鉿光學薄膜具有高折射率、低損耗以及較好的熱穩定性，因此可用于制備高性能的光學鍍膜。這類鍍膜在光通信、光存儲、光電顯示等領域有廣泛應用，例如用于光纖的涂層以提高光傳輸效率，或用于光學鏡頭和反射鏡的制備，以降低光學系統的損耗。
2024-06-03 面議/片 -
二氧化錫（SnO2）靶材 99.99二氧化錫（SnO2）為白色或淡灰色四方、六方或斜方晶系粉末，熔點：1630℃，沸點：1800℃，以錫石的形式存在于自然界中，氧化錫對空氣和熱都很穩定，不溶于水，也難溶于酸或堿溶液，氧化錫常用于搪瓷和電磁材料，并用于制造乳白玻璃、錫鹽、瓷著色劑、織物媒染劑和增重劑、鋼和玻璃的磨光劑等
2024-06-03 面議/片
