氧化鋁AL2O3 鍍膜材料，光學

型號1-3、3-5、2*3產商/產地盱眙新遠產品等級高純氧化鋁含量99.99（％）用途鍍膜材料包裝規格1kg執行質量標準企標CAS熔點（℃）2046生產方法晶體法? ? ? 蒸發溫度（℃）? ? 2000-2200? ? ? ? ? ?透明區域（um）0.2-5蒸發源 ? ? ??? ? ? ? ? ? ? ? ? E.B? ? ? ? ? ? ? ? ? 折射率(n/d

2017-07-31 面議/公斤

二氧化硅 鍍膜材料

型號1-3、3-5類目(比表面積)A產商/產地盱眙新遠名稱二氧化硅產品等級分析純含量99.99（％）CAS7631-86-9熔點（℃）1700生產方法電熔? ? ? 蒸發溫度（℃）? ? ? ? 1800-2200? ? ? ? ? ?透明區域（um）? 0.35-2? ? ? ? ? 蒸發源? ? ? ? ? ? ? E.B? ? ? ? ? ? 折射率(n/d)?????????????1.4

2017-07-31 面議/公斤

一氧化硅 SIO 鍍膜材料 光學

型號1-3、3-5、8-12、15-30、100,目、200目類目(比表面積)A產商/產地盱眙新遠名稱一氧化硅產品等級化學純含量99.99（％）執行質量標準企標品牌新遠熔點（℃）1705生產方法反應合成? ? ?蒸發溫度（℃）? ? ? ?1200-1600? ? ? ? ? 透明區域（um）0.8-8.0蒸發源? ? ? ? ? ? ? ? ? ? E.B Mo? ? ? ? ? ? ? ? ?

2017-07-20 面議/公斤

氟化鎂 MgF2 鍍膜材料 光學

型號mb狀態粒狀（元）產品等級工業級含量≥99.99（％）粒度1-3mm、3-5mm（目）執行質量標準企標CAS7783-40-6品牌新遠廠家(產地)盱眙新遠型號/牌號1-3、3-5用途級別光學鍍膜含量99.99?熔點（℃）1266生產方法電熔蒸發溫度（℃）1300-1600透明區域（um）0.2-6???????? 蒸發源???????????? E.B,Mo??????????折射率(n/d)

2017-07-20 面議/公斤