ITO靶、AZO靶，氧化鎂靶、氧化鐵靶、氧化鉻靶、氧化鋅靶、硫化鋅靶、硫化鎘靶，硫化鉬靶，二氧化硅靶、一氧化硅靶、氧化鈰靶、二氧化鋯靶、五氧化二鈮靶、二氧化鈦靶、二氧化鋯靶，二氧化鉿靶，二硼化鈦靶，二硼化鋯靶，三氧化鎢靶，三氧化二鋁靶，五氧化二鉭靶，五氧化二鈮靶、氟化鎂靶、氟化釔靶、氟化鎂靶，硒化鋅靶、氮化鋁靶，氮化硅靶，氮化硼靶，氮化鈦靶，碳化硅靶，鈮酸鋰靶、鈦酸鐠靶、鈦酸鋇靶、鈦酸鑭靶、氧化鎳靶等陶瓷濺射靶材。真空鍍膜的功能是多方面的，這也決定了其應(yīng)用場合非常豐富。總體來說，真空鍍膜的主要功能包括賦予被鍍件表面高度金屬光澤和鏡面效果，在薄膜材料上使膜層具有不錯(cuò)的阻隔性能，提供不錯(cuò)的電磁屏蔽和導(dǎo)電效果。

反應(yīng)磁控濺射制備化合物薄膜的優(yōu)點(diǎn)：1.所用靶材和反應(yīng)氣體是氧、氮、碳?xì)浠衔锏龋ǔＨ菀撰@得高純度制品，有利于制備高純度的化合物薄膜;2.通過調(diào)節(jié)工藝參數(shù)，可以制備化學(xué)配比或非化學(xué)配比的化合物薄膜，從而可調(diào)控膜的特性;3.基板溫度不高，對基板限制少;4.適于大面積均勻鍍膜，實(shí)現(xiàn)工業(yè)化生產(chǎn)。據(jù)統(tǒng)計(jì)，存儲市場增速則達(dá)到57%，且中國一直長期是集成電路消費(fèi)大國，一般都是包括主體型號、前綴、后綴等組成，成為業(yè)界追逐的一大風(fēng)口，信息、通訊、消費(fèi)電子及汽車電子等高等電子產(chǎn)品EMS、JDM、ODM為主。如二極管就是采用半導(dǎo)體制作的器件，缺“芯”已經(jīng)稱為中國制造的一塊“芯”。計(jì)算機(jī)、移動電話或是數(shù)字錄音機(jī)當(dāng)中的核心單元都和半導(dǎo)體有著極為密切的關(guān)連。

在半導(dǎo)體集成電路制造過程中，以電阻率較低的銅導(dǎo)體薄膜代替鋁膜布線。ITO片采用新型液態(tài)金屬印刷技術(shù)制成，厚度僅為1.5nm，可以沉積在各種基材上，然后可以像管一樣卷起來。氧化銦錫(ITO)導(dǎo)電膜具有良好的光學(xué)透光性能和導(dǎo)電性能，被廣泛應(yīng)用于觸摸屏領(lǐng)域，它是電阻式與投射電容式觸控面板的基礎(chǔ)材料，其產(chǎn)業(yè)鏈下游市場為觸控模組和觸控面板。上游為光學(xué)級PET基膜、靶材和涂布液等化學(xué)原材料。從觸摸屏技術(shù)路線來看，分為掛式和內(nèi)嵌式兩種。掛式電容屏技術(shù)有薄膜式和玻璃式兩種；內(nèi)嵌式電容屏技術(shù)主要為In-cell和On-cell兩種。將ITO玻璃進(jìn)行加工處理、經(jīng)過鍍膜形成電極。銀納米線導(dǎo)電膜：銀納米線是一種新興的ITO導(dǎo)電膜潛在替代品。

科技日報(bào)：ITO靶材屬于35項(xiàng)卡脖子技術(shù)之一。UVTM掌握濺射靶材生產(chǎn)的核心技術(shù)以后，實(shí)施極其嚴(yán)格的保密措施，限制技術(shù)擴(kuò)散，目前制備太陽能電池較為常用的濺射靶材包括鋁靶、銅靶、鉬靶、鉻靶以及ITO靶、AZO靶(氧化鋁鋅)等在國內(nèi)處于****水平。其中鋁靶、銅靶用于導(dǎo)電層薄膜，鉬靶、鉻靶用于阻擋層薄膜，邦定：長4米靶材的邦定，3米管靶材邦定，大面積平面銅背板，鈦背板的邦定，綁定率高，超聲波探傷儀檢測4米管靶材邦定大面積邦定技術(shù)銅背板鈦背板邦定高綁定率能邦定G10.5代線。產(chǎn)地：廣州。材質(zhì)：Ag、Cu晶粒度：100um產(chǎn)品用途：銀銅合金靶材主要用于真空濺射鍍膜。銀銅合金優(yōu)勢：有良好的導(dǎo)電性、流動性和浸潤性、較好的機(jī)械性能、硬度高。耐磨性和抗熔焊性。有偏析傾向。 基于理物相沉積(PVD)的濺射工藝具有薄膜純度高、成膜質(zhì)量好、沉積速度快、工藝穩(wěn)定可靠等優(yōu)點(diǎn)，廣泛應(yīng)用于集成電路生產(chǎn)制造中具有不可替代性。濺射沉積薄膜的原材料就是靶材，靶材的化學(xué)純度、籌備性能等直接決定了芯片中接觸層、介質(zhì)層、互連層等薄膜的性能，從而影響電子產(chǎn)品的性能和壽命。芯片對濺射靶材的要求非常高，它要求靶材純度要達(dá)到5N(99.999%)以上。在真空中制備膜層，包括鍍制晶態(tài)的金屬、半導(dǎo)體、絕緣體等單質(zhì)或化合物膜。雖然化學(xué)汽相沉積也采用減壓、低壓或等離子體等真空手段，但一般真空鍍膜是指用物理的方法沉積薄膜。真空鍍膜有三種形式，即蒸發(fā)鍍膜、濺射鍍膜和離子鍍。

高純真空濺射靶材可分為：高純金屬靶材、多元合金靶材、陶瓷濺射靶材、金屬膜電阻器用靶材。高純金屬靶材:鋯靶Zr、鉻靶Cr、鈦靶Ti、鋁靶Al、錫靶Sn、釩靶V、銻靶Sb、硼靶 B、鎢靶W、錳靶Mn、鉍靶Bi、銅靶Cu、石墨靶C、硅靶Si、鉭靶Ta、鋅靶Zn、鎂勒 Mg、鈮靶Nb、鉬靶Mo、鎳靶Ni、銀靶Ag、不銹鋼靶材等……多元合金靶材;鈦鋁靶Ti-Al、鈦鋯靶Ti-Zr、鈦硅靶Ti-Si、鈦鎳靶Ti-Ni、鎳鉻靶Ni-Gr鎳鋁靶Ni-A1、鎳釩靶Ni-V 鎳鐵靶Ni-Fe、鋁硅靶Al-Si、鈦硅靶Ti-Si、鉻硅靶Cr-Si鋅鋁靶Zn-Al、鈦鋅靶材Ti-Zn、鋁硅銅靶Al-Si-Cu等……半導(dǎo)體芯片行業(yè)是金屬濺射靶材的主要應(yīng)用領(lǐng)域之一，是對靶材的成分、籌備和性能要求高的領(lǐng)域。

影響磁控靶濺射電壓的主要因素有:靶面磁場、靶材材質(zhì)、氣體壓強(qiáng)、陰-陽極間距等。學(xué)者詳細(xì)分析這些因素距對靶濺射電壓的影響。一、靶面磁場對靶濺射電壓的影響。磁控靶的陰極工作電壓，隨著靶面磁場的增加而降低，也隨著靶面的濺射刻蝕槽加深而降低。濺射電流也隨著靶面的濺射刻蝕槽加深而加大。這是因?yàn)榘械臑R射刻蝕槽面會越來越接近靶材后面的較好磁鋼的強(qiáng)磁場。因此，靶材的厚度是有限制的。較厚的非磁性靶材能夠在較強(qiáng)的磁場中使用。當(dāng)磁場強(qiáng)度增加到01T以上時(shí)，磁場強(qiáng)度對濺射電壓的影響就不明顯了。鐵磁性靶材會對磁控靶的濺射造成影響，由于大部分磁力線從鐵磁性材料內(nèi)部通過，使靶材表面磁場減少，需要很高電壓才能讓靶面點(diǎn)火起輝。除非磁場非常的強(qiáng)。否則磁性材靶材必須比非磁性材料要演，才能起輝和正常運(yùn)行(永磁結(jié)構(gòu)的Ni靶的典型值小于016cm，磁控靶非特殊設(shè)計(jì)較大值通常不宜超過3mmFeco靶的較大值不超過2mm;電磁結(jié)構(gòu)的靶可以濺射厚一些的靶材，甚至可達(dá)6mm厚)才能正常運(yùn)行。

主營產(chǎn)品：濺射靶材,鍍膜靶材,金屬靶材,旋轉(zhuǎn)靶材,平面靶材,噴涂靶材,靶材,UV玻璃油墨 公司成立年份：2003
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