目前大部分國家高等靶材市場主要分布于韓國、、中國、日本，中國有超過20家靶材生產(chǎn)企業(yè)，依靠國內(nèi)的巨大市場潛力和利好的產(chǎn)業(yè)政策，以及產(chǎn)品價格優(yōu)勢，國內(nèi)的靶材制造商已經(jīng)在國內(nèi)市場占有一定的市場份額，并逐步在個別細分領域搶占了部分國際大廠的市場空間。UVTM擁有多年開發(fā)和工作經(jīng)驗的納米材料，并擁有冷噴涂技術生產(chǎn)金屬合金靶材，其制備的靶材Sn和O含量均略低于國產(chǎn)靶材。UVTM還是靶材綁定方面的相關人士，可以保證靶材從初原料至靶材成型，綁定過程都得以好的控制。供應高純銅靶材4N5N銅靶材科研用銅靶材（4N5N6N）詳細介紹尤特公司擁有先進的噴涂、熔煉生產(chǎn)線，完善的檢測設備，****的表面處理技術和持續(xù)的研發(fā)投入。可為客戶提供專業(yè)的磁控濺射鍍膜行業(yè)全棧式服務。

中國芯片究竟在哪個環(huán)節(jié)被美國“卡”了脖子？數(shù)據(jù)表明，2019年，我國芯片自給率僅為30%左右。根據(jù)有關部門的發(fā)展規(guī)劃，2025年，芯片自給率提升到70%，這差不多是當下美國等芯片大國的平均水平。作為一個龐大且復雜的行業(yè)，芯片行業(yè)擁有一條超長的產(chǎn)業(yè)鏈。其整體可分為設計、制造、封裝、四大環(huán)節(jié)。除了在設計領域，華為海思擁有一定的打破能力，其他三個環(huán)節(jié)，尤其是在制造環(huán)節(jié)，國內(nèi)廠商的能力仍有較大的提升空間。生產(chǎn)半導體芯片需要19種左右的必須的材料，缺一不可，且大多數(shù)材料具備非常高的技術壁壘。

我國從核心環(huán)節(jié)來看，經(jīng)歷了急速擴張的芯片設計企業(yè)或先受到重創(chuàng)，尤其是小規(guī)模初創(chuàng)，而他們正代表了中國芯片企業(yè)的絕大多數(shù)。半導體芯片行業(yè)是金屬濺射靶材的主要應用領域之一。高純靶材主要用于對材料純度、穩(wěn)定性要求更高的領域，像集成電路、平板顯示器、太陽能電池、記錄媒體、智能玻璃等行業(yè)。在濺射靶材應用領域中，半導體芯片對濺射靶材的要求是比較高的，要求靶材純度很高，一般在5N（99.999%）以上。半導體產(chǎn)業(yè)對濺射靶材和濺射薄膜的品質(zhì)要求非常高，隨著更大尺寸的硅晶圓片制造出來，相應地要求濺射靶材也朝著大尺寸、高純度的方向發(fā)展，同時也對濺射靶材的晶粒晶向控制提出了更高的要求。化學氣相沉積：通過熱分解所選定的金屬化合物或農(nóng)業(yè)生產(chǎn)體系化合物，獲得沉積薄膜的過程。離子鍍：實質(zhì)上離子鍍系真空蒸鍍和陰極濺射鍍的農(nóng)業(yè)生產(chǎn)體系結合，兼有兩者的工藝特點。

除可濺射導電材料外，也可濺射非導電的材料，同時還司進行反應濺射制備氧化物、氮化物和碳化物等化合物材料。若射頻的頻率提高后就成為微波等離子體濺射，目前常用的有電子回旋共振(ECR)型微波等離子體濺射。大部分國家靶材市場主要企業(yè)份額資料：半導體觀察、智研咨詢整理目前，國內(nèi)靶材廠商主要聚焦在低端產(chǎn)品領域，在半導體、平板顯示器和太陽能電池等市場還無法與國際巨頭一體競爭。但是，依靠國內(nèi)的巨大市場潛力和利好的產(chǎn)業(yè)政策，以及產(chǎn)品價格優(yōu)勢，它們已經(jīng)在國內(nèi)市場占有一定的市場份額，并逐步在個別細分領域搶占了部分國際大廠的市場空間。UVTM可提供硅材料等，硅靶材和晶圓的直徑可達18英寸。目前，硅晶圓主流尺寸為8英寸、12英寸。

從而需要更變新的旋轉靶材，造成較大的浪費。面板靶材：主要用于制作ITO玻璃及觸控屏電極平板。當前國內(nèi)平板顯示和光伏產(chǎn)業(yè)發(fā)展迅速,ITO靶材制造技術不斷取得打破,未來我國將可能會成為銦純***國,應大力發(fā)展國內(nèi)更新銦產(chǎn)業(yè),建立健全銦儲備機制,并加強與重要資源國的產(chǎn)能合作,保障國內(nèi)新興產(chǎn)業(yè)發(fā)展的資源需求。銦作為稀散金屬在地殼中含量極低,但資源儲量和產(chǎn)量分布極為集中。銦在戰(zhàn)略性新興產(chǎn)業(yè)發(fā)展中具有極為重要的作用,是平板顯示、電子半導體和光伏等產(chǎn)業(yè)不可或缺的原料,使其成為世界各國關注的熱點。顯示行業(yè)主要在顯示面板和觸控屏面板兩個產(chǎn)品生產(chǎn)環(huán)節(jié)需要使用靶材濺射鍍膜。用于高清電視、筆記本電腦等。平板顯示靶材技術要求也很高。它要求材料高純度、面積大、均勻性程度高。合金靶材：鐵鈷靶、鋁硅靶、鈦硅靶、鉻硅靶、鋅鋁靶、鈦鋅靶材、鈦鋁靶、鈦鋯靶、鈦硅靶、鈦鎳靶、鎳鉻靶、鎳鋁靶、鎳釩靶、鎳鐵靶等。

使用的靶材以鋁、鈦元素為主。300mm（12寸）晶圓制造，多使用先進的銅互連技術，主要使用銅、鉭靶材。同時也用鈦材料作為高介電常數(shù)的介質(zhì)金屬柵極技術的主要材料，鋁材料作為晶圓接合焊盤工藝的主要材料。總體來看，隨著芯片的使用范圍越來越廣泛，芯片市場需求數(shù)量增長，對于鋁、鈦、鉭、銅這四種業(yè)界主流的薄膜金屬材料的需求也一定會有增長。且目前從技術上及經(jīng)濟規(guī)模上還未找到能夠替代這四種薄膜金屬材料的其他方案，所以這四種材料目前看不到被替代的風險。由于旋轉靶材襯管一般由鋁、鋁合金、銅或銅合金制成，使得其自身強度不是很高，旋轉靶材端部管壁較薄，在端部上設置密封槽，進一步減薄了端部管壁厚度，使得旋轉靶材在安裝過程中容易出現(xiàn)變形而安裝不上等情況。

廣州市尤特新材料有限公司（以下簡稱“尤特”），成立于2003年，位于羊城廣州的北面-花都,占地總面積約3萬平方米。尤特是一家專注于時尚消費電子產(chǎn)業(yè)、節(jié)能綠色環(huán)保產(chǎn)業(yè)、新材料新技術開發(fā)和應用的重要高新技術企業(yè)。尤特以生產(chǎn)信息存儲記錄材料為起點，經(jīng)過10多年的開拓與發(fā)展，產(chǎn)業(yè)技術不斷迭代與升級，尤特的技術及應用涉獵范圍逐步擴大，其中主要包括：真空鍍膜靶材；環(huán)保（UV/水性）材料；觸控顯示材料；印刷技術及材料；信息存儲材料、導電散熱材料等。尤特一直倡導“新材料、促環(huán)保、美生活”企業(yè)使命。尤特遵循科學體系管理，先后通過《質(zhì)量管理體系》、《環(huán)境管理體系》、《職業(yè)健康與安全管理體系》認證并有效運行，產(chǎn)品符合全部環(huán)境及安全標準；獲得SONY GP綠色合作伙伴全部認證等。尤特重視產(chǎn)品研發(fā)及技術創(chuàng)新，先后與"武漢大學"、"華南理工大學"、"中南大學"等高校、研究所建立"產(chǎn)學研"合作機制，并承擔多項省市立項的科研項目，公司目前已擁有幾十項自主研發(fā)新興材料及工藝的知識產(chǎn)權，是廣州市扶持科技型要點培育上市企業(yè)。尤特先后獲得相關機構的授予多個榮譽：如“國家生產(chǎn)力促進獎、國家有名商標、廣東省守合同重信用企業(yè)、廣東省雇主責任示范企業(yè)、廣州市安全生產(chǎn)標準化達標企業(yè)、廣州市工程技術研發(fā)中心、廣州科技小巨人企業(yè)、地方納稅企業(yè)”等榮譽。尤特全體同仁秉承“創(chuàng)造價值，分享價值“的核心價值觀，借鑒以往成功管理運營經(jīng)驗，持續(xù)深挖磁控濺射鍍膜材料下游應用市場，不斷拓寬市場應用領域，做優(yōu)做強鍍膜材料產(chǎn)業(yè),將公司打造為--磁控濺射靶材行業(yè)者。

主營產(chǎn)品：濺射靶材,鍍膜靶材,金屬靶材,旋轉靶材,平面靶材,噴涂靶材,靶材,UV玻璃油墨 公司成立年份：2003
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