濺射靶材是用濺射法沉積薄膜的原材料，主要應用于面板顯示、半導體和磁記錄薄膜太陽能領域。特別是高純度濺射靶材應用于電子元器件制造的氣相沉積工藝，是制備晶圓、面板、太陽能電池等表面電子薄膜的關鍵材料。所謂濺射，是制備薄膜材料的主要技術，也是PVD的一種。它通過在PVD設備中用離子對目標物進行轟擊，使得靶材中的金屬原子以一定能量逸出，從而在晶圓表面沉積，濺鍍形成金屬薄膜，其中被轟擊的固體是用濺射法沉積薄膜的原材料，稱為濺射靶材。相比PVD的另一種工藝——真空鍍膜，濺射鍍膜工藝可重復性好、膜厚可控制，可在大面積基板材料上獲得厚度均勻的薄膜，所制備的薄膜具有純度高、致密性好、與基板材料的結合力強等優點。已成為制備薄膜材料的主要技術。

我們為客戶提供各種稀有金屬靶材，多種材料合金靶材，陶瓷靶材，粉末和顆粒靶材，主要有鉻、鈦、不銹鋼、硅、鉬、錫、石墨、ITO、鎳鉻、鈦鋁、鉻銅邦定等靶材，同時還設有靶材幫定及金屬化等服務。 在產品質量檢測環節，我們在各個環節的檢驗都是第三方的，每種材料都要通過SGS和客戶認可的專業檢測機構檢測后才進一步加工.我們客戶更加有理由期待—我們的產品質量更穩定，交貨更及時，服務更周到。磁控濺射靶材。

以美國、日本和德國為代表的半導體廠商加強對上游原材料的創新力度，從而更大限度地保證半導體產品的技術先進性。當前中國靶材制造商在部分靶材制造工藝上已達到了國際先進水平。產品質量獲得國內外下游廠商的認可；同時通過在下游企業工廠附近建廠。靶材價格可能會比國外廠商低10%-15%，替代必要性和戰略意義明顯。日韓和在半導體產業鏈中有重要地位。元器件及材料的生產對于金屬靶材面板顯示產業的基礎環節，所使用的PVD鍍膜材料主要為濺射靶材，其性能如分辨率、透光率等都與濺射薄膜的性能密切相關。濺射靶材的要求較傳統材料行業高，一般要求如，尺寸、平整度、純度、各項雜質含量、密度、N/O/C/S、晶粒尺寸與缺陷控制；

ito靶材在光學薄膜領域中的應用：增透膜、高反膜、截止濾光片、防偽膜等。在建筑玻璃方面的應用：陽光控制膜、低輻射玻璃、防霧防露和自清潔玻璃等。在防護涂層中的應用：飛機發動機的葉片、汽車鋼板、散熱片等。在硬質涂層中的應用：切削工具、模具和耐磨耐腐蝕零件等。在太陽能利用領域的應用：太陽能集熱管、太陽能電池等。

ITO靶材產業發展現狀及其對我國觸控面板產業的影響。如何燒制是個問題,而燒結大尺寸的ITO靶材就意味著需要大型的爐子。首先需要把氧化銦和氧化錫粉末按嚴格的比例混合，然后生產加工成地板磚的形狀，1700攝氏度的高溫燒制，形成的黑灰色陶瓷半導體就是ITO靶材。銦的保有量只有1.6萬噸，中國的銦保有量約1萬噸，到62%。接下來是秘魯的580噸、加拿大的560噸、美國的450噸，分別占全保有量的3.6%、3.5%、2.7%，比較可知。鈮是灰白色金屬，熔點2468℃，沸點4742℃，密度8.57克/立方厘米。鈮是一種帶光澤的灰色金屬，具有順磁性，屬于元素周期表上的5族。高純度鈮金屬的延展性較高，但會隨雜質含量的增加而變硬。

在19世紀末，ITO薄膜的研究工作開始發展了起來，當時是在光電導的材料上獲得很薄的金屬薄膜。而關于透明導電材料的研究進入一個新的時期，則是在第二次世界大戰期間，主要應用于飛機的除冰窗戶玻璃。而在1950年，第二種透明半導體氧化物In2O3被制成，特別是在In2O3里摻入錫以后，使這種材料在透明導電薄膜方面得到了普遍的應用，并具有廣闊的應用前景。目前制備ITO薄膜的方法有很多種，如低電壓濺射、直流磁控濺射和HDAP法。將ITO玻璃進行加工處理、經過鍍膜形成電極。從設備所占市場份額看，AMAT的產品覆蓋了整個產業鏈，眾多產品市場占有率處于較高水平。包括PVD沉積設備（84.9%），P設備（66%）。離子注入設備（73%）領域處于較高水平。此外，泛林的刻蝕機市場占有率達到52.7%。膜時提高襯底溫度以大薄膜晶粒尺寸,優化薄膜結晶性能。

在現有高速氧氣燃料噴涂（HVOF）基礎上又出現了高速空氣燃料噴涂（HVAF），后者噴涂速度與前者相同，但溫度下降至1000℃，氣作為助燃劑，成本大幅下降。近年來隨著材料科學和表面技術的快速發展，涌現出許多新型材料涂層，功能涂層。不同噴涂工藝的涂層。采用冷噴涂沉積Fe(Al)固溶體合金涂層并結合后熱處理原位反應制備了納米結構FeAl金屬間化合物涂層。結果表明，球磨Fe(Al)合金粉末具有精細的層狀結構，噴涂態Fe(Al)合金涂層具有不同于傳統熱噴涂涂層的獨特層狀結構。末類似的納米結構；在500℃熱處理后涂層中Fe(Al)固溶體轉變為FeAl金屬間化合物。其晶粒尺寸約為30nm。涂代加工，成為了現代工業的又一個趨勢。旋轉鎳靶。

科技日報：ITO靶材屬于35項卡脖子技術之一。UVTM掌握濺射靶材生產的核心技術以后，實施極其嚴格的保密措施，限制技術擴散，同時不斷進行橫向擴張和垂直整合，將業務觸角積極擴展到濺射鍍膜的各個應用領域。研制出適用不同應用領域的濺射靶材產品，才能在濺射靶材市場中占得一席之地。UVTM自主創新開發的能力，TFT-LCD用高品質ITO靶材，正式投入量產。自此，靶材的國外技術壁壘，在顯示面板產業重要材料國產化的道路上又前進了一步。廣州以打造“世界顯示之都”的目標，重點領域包括顯示器及配套（含濺射靶材），打造千億級平板顯示產業集群。中國已經成為面板、半導體、光伏、觸摸屏等光電行業的制造大國和強國，對新材料有巨大的自身需求。

科技日報：ITO靶材屬于35項卡脖子技術之一。UVTM掌握濺射靶材生產的核心技術以后，實施極其嚴格的保密措施，限制技術擴散，目前制備太陽能電池較為常用的濺射靶材包括鋁靶、銅靶、鉬靶、鉻靶以及ITO靶、AZO靶(氧化鋁鋅)等在國內處于較高水平。其中鋁靶、銅靶用于導電層薄膜，鉬靶、鉻靶用于阻擋層薄膜，邦定：長4米靶材的邦定，3米管靶材邦定，大面積平面銅背板，鈦背板的邦定，綁定率高，超聲波探傷儀檢測4米管靶材邦定大面積邦定技術銅背板鈦背板邦定高綁定率能邦定G10.5代線。產地：廣州。材質：Ag、Cu晶粒度：100um產品用途：銀銅合金靶材主要用于真空濺射鍍膜。銀銅合金優勢：有良好的導電性、流動性和浸潤性、較好的機械性能、硬度高。耐磨性和抗熔焊性。有偏析傾向。 基于理物相沉積(PVD)的濺射工藝具有薄膜純度高、成膜質量好、沉積速度快、工藝穩定可靠等優點，廣泛應用于集成電路生產制造中具有不可替代性。濺射沉積薄膜的原材料就是靶材，靶材的化學純度、性能等直接決定了芯片中接觸層、介質層、互連層等薄膜的性能，從而影響電子產品的性能和壽命。芯片對濺射靶材的要求非常高，它要求靶材純度要達到5N(99.999%)以上。nb。

較高的技術與客戶壁壘導致日美跨國公司形成壟斷優勢，行業集中度高，且產業格長期維持在相對穩定的狀態。一方面濺射鍍膜工藝起源于國外，對所需濺射靶材的性能要求高、專業性強，屬于技術密集型產業，新進入者無論在技術、設備、人才等各方面均需要大規模投入；另一方面，靶材行業下游客戶認證周期長，客戶定制化程度高。在供應商與下游用戶初步接觸后，需要經過供應商初評、報價、樣品檢測、小批樣使用、以及穩定性檢測等評價過程，才能成為正式供應商，一般需要2-3年，且一旦成為供應商后將與下游客戶保持相對穩定的關系。集成電路 28-14nm 技術節點用鉭環件在臺積電 16nm 芯片中已經量產，14nm 用鈦靶材也已經在中芯國際進行評價，隨著鉭靶材、鈦靶材在 28-14nm 技術節點的全量產，將使國內靶材公司業績得到顯著提升。

廣州市尤特新材料有限公司（以下簡稱“尤特”），成立于2003年，位于羊城廣州的北面-花都,占地總面積約3萬平方米。尤特是一家專注于時尚消費電子產業、節能綠色環保產業、新材料新技術開發和應用的重要高新技術企業。尤特以生產信息存儲記錄材料為起點，經過10多年的開拓與發展，產業技術不斷迭代與升級，尤特的技術及應用涉獵范圍逐步擴大，其中主要包括：真空鍍膜靶材；環保（UV/水性）材料；觸控顯示材料；印刷技術及材料；信息存儲材料、導電散熱材料等。尤特一直倡導“新材料、促環保、美生活”企業使命。尤特遵循科學體系管理，先后通過《質量管理體系》、《環境管理體系》、《職業健康與安全管理體系》認證并有效運行，產品符合全部環境及安全標準；獲得SONY GP綠色合作伙伴全部認證等。尤特重視產品研發及技術創新，先后與"武漢大學"、"華南理工大學"、"中南大學"等高校、研究所建立"產學研"合作機制，并承擔多項省市立項的科研項目，公司目前已擁有幾十項自主研發新興材料及工藝的知識產權，是廣州市扶持科技型要點培育上市企業。尤特先后獲得相關機構的授予多個榮譽：如“國家生產力促進獎、國家有名商標、廣東省守合同重信用企業、廣東省雇主責任示范企業、廣州市安全生產標準化達標企業、廣州市工程技術研發中心、廣州科技小巨人企業、地方納稅企業”等榮譽。尤特全體同仁秉承“創造價值，分享價值“的核心價值觀，借鑒以往成功管理運營經驗，持續深挖磁控濺射鍍膜材料下游應用市場，不斷拓寬市場應用領域，做優做強鍍膜材料產業,將公司打造為--磁控濺射靶材行業者。

主營行業：化工原料、輔料//玻璃油墨 化工原料、輔料//其它 公司注冊地址：廣州市尤特新材料有限公司 法人代表：周志宏
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注冊資本:人民幣2000萬元/年-人民幣5000萬元/年 公司網址：http://UVTMCOM.glass.com.cn

主營產品：濺射靶材,鍍膜靶材,金屬靶材,旋轉靶材,平面靶材,噴涂靶材,靶材,UV玻璃油墨 公司成立年份：2003
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